一种蒸镀方法及蒸镀装置与流程

本发明涉及真空蒸发镀膜，尤其涉及一种蒸镀方法及蒸镀装置。

背景技术：

1、蒸镀是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料并使之气化，进而使镀膜材料的蒸气在基板表面凝聚成镀膜的工艺方式。

2、现有蒸镀装置的蒸发源主要包括点源蒸发源和线源蒸发源；点源蒸发源在基板上凝聚的镀膜的厚度，由中间向四周依次减薄。线源蒸发源可以在基板上形成多个镀膜，并且相邻的两个镀膜存在重叠部分；在重叠部分上，镀膜的厚度是相邻两个镀膜边缘厚度的叠加。因此，使用现有的点源蒸发源或是线源蒸发源都会存在镀膜厚度不均的问题。

技术实现思路

1、为克服现有技术中的不足，本发明提供一种蒸镀方法及蒸镀装置。

2、本发明提供如下技术方案：

3、一种蒸镀方法，所述蒸镀方法包括以下步骤：

4、s1：将多个蒸发源排成一列，并分别调节每个所述蒸发源距基板的距离；以使每个所述蒸发源内的镀膜材料在所述基板上形成对应的镀膜时，相邻的两个所述镀膜存在重叠区域；

5、s2：加热多个所述蒸发源，并根据每个所述蒸发源至所述基板的距离，分别调节每个所述蒸发源内所述镀膜材料的蒸镀速率；进而控制所述重叠区域内的膜层厚度；

6、s3：当所述基板上的膜层厚度达到目标值时，停止蒸镀。

7、在一种可能的实施方式中，所述步骤s1还包括，将所述蒸发源的朝向，设为垂直于所述基板的延伸方向；控制任意相邻的两个所述蒸发源中心线之间的距离均相同；并且控制每个所述蒸发源内所述镀膜材料的蒸发角度均相同。

8、在一种可能的实施方式中，相邻两个所述蒸发源中心线之间的距离l满足以下公式：

9、

10、其中，θ为所述镀膜材料的蒸发角度，h为所述蒸发源至所述基板的距离。

11、在一种可能的实施方式中，相邻两个所述蒸发源中心线之间的距离l的设置距离为10mm-200mm。

12、在一种可能的实施方式中，所述镀膜材料的蒸发角度θ为45°-75°。

13、在一种可能的实施方式中，调节所述蒸发源内所述镀膜材料蒸镀速率的具体方式是，通过改变所述蒸发源的受热温度，进而改变单位时间内，所述镀膜材料向所述基板蒸发的总质量。

14、在一种可能的实施方式中，所述基板上沉积的膜厚t满足以下公式：

15、

16、其中，m为单位时间内，所述镀膜材料向所述基板蒸发的总质量；ρ为所述镀膜的密度；h为所述蒸发源至所述基板的距离；x为所述镀膜上任意位置的粒子，至所述蒸发源在所述基板上投影位置的距离。

17、第二方面，本发明还提供了一种蒸镀装置，所述蒸镀装置包括蒸镀腔、基板和多个蒸发源，所述基板和多个所述蒸发源均设于所述蒸镀腔内，并且多个所述蒸发源均朝向所述基板；所述蒸发源包括喷头、坩埚、加热丝、固定架及控制器；所述喷头与所述坩埚连接，所述坩埚固定于所述固定架上，所述加热丝设于所述坩埚上，所述加热丝与所述控制器电连接。

18、在一种可能的实施方式中，所述蒸镀腔上开设有安装孔，所述安装孔在所述蒸镀腔的外壁上，沿所述基板的延伸方向均匀地间隔设置；所述蒸发源可移动地设于所述安装孔内。

19、在一种可能的实施方式中，所述蒸发源用于蒸镀低温有机材料或高温无机材料。

20、相比现有技术，本发明的有益效果：

21、本实施例提供的蒸镀方法，通过将多个蒸发源排成一列，并调节每个蒸发源至基板的距离；加热蒸发源，并根据每个蒸发源至基板的距离，调节对应蒸发源内镀膜材料的蒸镀速率，进而调节任意两个镀膜相互重叠区域内的膜层厚度，以使重叠区域内的膜层厚度与非重叠区域内的膜层厚度接近；当基板上的膜层厚度达到目标值时，停止蒸镀操作。本申请的蒸镀方法，可以有效解决多个蒸发源同时对同一块基板蒸镀时，镀膜厚度不均的问题。

22、为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显和易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，做详细说明如下。

技术特征：

1.一种蒸镀方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于，所述步骤s1还包括，将所述蒸发源的朝向，设为垂直于所述基板的延伸方向；控制任意相邻的两个所述蒸发源中心线之间的距离均相同；并且控制每个所述蒸发源内所述镀膜材料的蒸发角度均相同。

3.根据权利要求2所述的蒸镀方法，其特征在于，相邻两个所述蒸发源中心线之间的距离l满足以下公式：

4.根据权利要求3所述的蒸镀方法，其特征在于，相邻两个所述蒸发源中心线之间的距离l的设置距离为10mm-200mm。

5.根据权利要求3所述的蒸镀方法，其特征在于，所述镀膜材料的蒸发角度θ为45°-75°。

6.根据权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于，调节所述蒸发源内所述镀膜材料蒸镀速率的具体方式是，通过改变所述蒸发源的受热温度，进而改变单位时间内，所述镀膜材料向所述基板蒸发的总质量。

7.根据权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于，所述基板上沉积的膜厚t满足以下公式：

8.一种蒸镀装置，其特征在于，包括蒸镀腔、基板和多个蒸发源，所述基板和多个所述蒸发源均设于所述蒸镀腔内，并且多个所述蒸发源均朝向所述基板；所述蒸发源包括喷头、坩埚、加热丝、固定架及控制器；所述喷头与所述坩埚连接，所述坩埚固定于所述固定架上，所述加热丝设于所述坩埚上，所述加热丝与所述控制器电连接。

9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀腔上开设有安装孔，所述安装孔在所述蒸镀腔的外壁上，沿所述基板的延伸方向均匀地间隔设置；所述蒸发源可移动地设于所述安装孔内。

10.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸发源用于蒸镀低温有机材料或高温无机材料。

技术总结
本发明提供了一种蒸镀方法及蒸镀装置，涉及真空蒸发镀膜技术领域。蒸镀方法包括以下步骤：S1：将多个蒸发源排成一列，并分别调节每个蒸发源距基板的距离；以使每个蒸发源内的镀膜材料在基板上形成对应的镀膜时，相邻的两个镀膜存在重叠区域；S2：加热多个蒸发源，并根据每个蒸发源至基板的距离，分别调节每个蒸发源内镀膜材料的蒸镀速率；进而控制重叠区域内的膜层厚度；S3：当基板上的膜层厚度达到目标值时，停止蒸镀。本申请的蒸镀方法，可以有效解决多个蒸发源同时对同一块基板蒸镀时，镀膜厚度不均的问题。

技术研发人员：裴泳镇,文炯敦,轩景泉,尹恩心,彭勃,池元圭,崔晶植,冯利凯
受保护的技术使用者：上海升翕光电科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13