本发明属于薄膜制备领域，涉及一种n掺c膜的制备，具体涉及一种超硬耐摩擦cn膜的制备方法。
背景技术：
1、专利公开号为cn 114774846 a中提供了一种n掺c膜的制备方法，该方法虽然能够制备出cn膜，但该薄膜的硬度一般在4000hv以下，耐摩擦性能一般在0.4以上，其硬度和耐摩擦性能仍有待提高。
技术实现思路
1、本发明的目的是为了解决n掺c膜硬度和耐摩擦性能不高的问题，提供一种超硬耐摩擦cn膜的制备方法。本发明采用磁控溅射法，通过控制磁控溅射的工艺参数来实现薄膜的高硬度和高耐磨，以利于不同精密电子元器件的使用要求。
2、为了实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：
3、一种超硬耐摩擦cn膜的制备方法，其特征在于包括如下步骤：
4、（1）选用金属材料为衬底，并对衬底进行抛光处理；
5、（2）清洗衬底材料，以丙酮、酒精、去离子水进行超声波清洗，除去表面的杂质和油污；
6、（3）将衬底送入溅射腔室，将溅射腔室真空度抽至1.0*10-6pa时，同时通入氩气和氮气，使其起辉，进行预溅射（一方面除去靶材表面的杂质、污物，另一方面氮气也作为反应气体，在后期参与c膜的掺杂），随后控制靶材的工艺参数为：功率500~1000w，气压为1.5pa~2.0pa，溅射时间为30min，ar流量：100sccm，n2流量：20sccm~100sccm完成溅射。
7、进一步，所述步骤（3）中工艺参数为：功率600~800w，气压为1.5pa~1.8pa，溅射时间为30min，ar流量：100sccm，n2流量：40sccm~80sccm。
8、通过以氩气、氮气同时作为起辉气体，在制备薄膜的过程中氮气的通入量为一个渐变的过程，一方面是为达到对c膜进行有效n掺杂；另一方面是为制备不同硬度和耐磨性能的cn膜提供条件，在溅射镀膜过程中，引入变参数较少，薄膜质量较易控制。
9、本发明的有益效果：
10、（1）采用磁控溅射进行镀膜，引入变参数较少，薄膜质量较易控制；
11、（2）制得的cn膜硬度在5000hv–7000hv，摩擦系数在0.08-0.25，可用于电子元器件，提高元器件表面光学膜的硬度，同时降低元器件的摩擦系数，使其耐磨性增强，延长精密电子元器件使用寿命。
12、实施方式
13、一种超硬耐摩擦cn膜的制备方法，具体实施步骤如下：
14、实施例
15、（1）选用不锈钢为衬底，并对衬底进行抛光处理；
16、（2）清洗衬底材料，以丙酮、酒精、去离子水进行超声波清洗，除去表面的杂质和油污，而后用热风吹干；
17、（3）将衬底送入溅射腔室，将溅射腔室真空度抽至1.0*10-6pa时，同时通入氩气和氮气，使c靶起辉，进行预溅射，然后调整c靶工艺参数：功率500w，氩气流量为：100sccm，氮气流量为50sccm，而后递减（前10分钟为50sccm，中间10分钟为30sccm，最后10分钟为10sccm），使工作气压保持在2.0pa，溅射时间30min，即得到获得硬度值为6500hv，摩擦系数0.15的cn膜，该膜可应用于高精密仪器中使用频率较高且价格昂贵的元器件，提高其使用寿命。
18、实施例
19、（1）选用为不锈钢衬底，并对衬底进行抛光处理；
20、（2）清洗衬底材料，以丙酮、酒精、去离子水进行超声波清洗，除去表面的杂质和油污，而后用热风吹干；
21、（3）将衬底送入溅射腔室，将溅射腔室真空度抽至1.0*10-6pa时，同时通入氩气和氮气，使c靶起辉，进行预溅射，然后调整c靶工艺参数：功率600w，氩气流量为：80sccm，氮气流量为40sccm，而后递减（前10分钟为40sccm，中间10分钟为20sccm，最后10分钟为10sccm），使工作气压保持在1.5pa，溅射时间30min，即得到获得硬度值为7000hv，摩擦系数0.08的cn膜。
22、实施例
23、（1）选用不锈钢为衬底，并对衬底进行抛光处理；
24、（2）清洗衬底材料，以丙酮、酒精、去离子水进行超声波清洗，除去表面的杂质和油污，而后用热风吹干；
25、（3）将衬底送入溅射腔室，将溅射腔室真空度抽至1.0*10-6pa时，同时通入氩气和氮气，使c靶起辉，进行预溅射，然后调整c靶工艺参数：功率800w，氩气流量为：100sccm，氮气流量为80sccm，而后递减（前10分钟为80sccm，中间10分钟为50sccm，最后10分钟为30sccm），使工作气压保持在2.0pa，溅射时间30min，即得到获得硬度值为5000hv，摩擦系数0.25的cn膜。
1.一种超硬耐摩擦cn膜的制备方法，其特征在于包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述一种超硬耐摩擦cn膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（3）中工艺参数为：功率600~800w，气压为1.5pa~1.8pa，溅射时间为30min，ar流量：100sccm，n2流量：40sccm~80sccm。
3.根据权利要求1或2所述一种超硬耐摩擦cn膜的制备方法，其特征在于：制得的一种超硬耐摩擦cn膜的硬度在5000hv–7000hv，摩擦系数在0.08-0.25。