本发明涉及半导体产品制作，尤其涉及一种抛光垫清洗装置和抛光设备。
背景技术：
：：1、抛光是指利用机械、化学或者电学的方法，去除一定厚度使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，是利用抛光工具和磨砂颗粒或其他抛光介质对工件表面进行修饰的加工方法。在最终抛光过程中，抛头吸附wafer(硅片)，通过真空压力使wafer紧贴pad(抛光垫)上，通过高速旋转head(抛光头)和table(承载台)，使wafer与pad摩擦，来进行wafer表面的抛光。平坦度是wafer工艺中重要的一环。2、目前在实际应用中，抛光机研磨结束后，设备会利用毛刷自动清洗pad表面，防止pad脏污堆积，当毛刷清洗结束会回位至毛刷保湿盘中，保湿盘持续供水，用于毛刷保湿，但是不会对毛刷进行清洗，毛刷保湿盘中会堆积大量脏污，导致毛刷持续脏污，在采用毛刷对抛光垫再次进行清洗时，上述杂质颗粒又被转移至抛光垫上，进而使wafer品质受损，若发生品质不良，则需要设备清空，重新清洗所有抛光垫，甚至需要更换毛刷，浪费大量时间，影响到了设备加工效率。技术实现思路1、为了解决上述技术问题，本发明提供一种抛光垫清洗装置和抛光设备，解决毛刷保湿盘内堆积脏污而导致硅片受损的问题。2、为了达到上述目的，本发明实施例采用的技术方案是：一种抛光垫清洗装置，包括毛刷结构，所述毛刷结构包括驱动结构、毛刷臂和毛刷槽，所述毛刷臂的一端设置有毛刷，所述毛刷槽用于容纳所述毛刷，所述驱动结构用于控制所述毛刷臂移动，以使得所述毛刷臂上的毛刷容纳于所述毛刷槽内，或者使得所述毛刷臂上的毛刷离开所述毛刷槽；3、沿着从所述毛刷槽的顶部到所述毛刷槽的底部的方向，所述毛刷槽划分为第一部分和第二部分，所述第一部分用于容纳所述毛刷，所述第二部分的内壁上设置有传感器，所述传感器被配置为感应所述毛刷槽内的杂质大于或等于预设阈值时进行报警。4、可选的，沿着从所述第一部分到所述第二部分的方向，所述第二部分的横截面积逐渐变小。5、可选的，在所述毛刷槽的深度方向上，所述第二部分的截面的形状为三角形、梯形或半球形。6、可选的，在所述毛刷槽的深度方向上，所述传感器与所述毛刷槽的底部之间的距离a与所述第二部分的深度b满足以下公式：1/2b≥a≥1/3b。7、可选的，所述传感器为对射传感器，包括位于所述毛刷槽的内壁的相对的两侧的发射器和接收器。8、可选的，所述毛刷槽的底部设置有出口，所述抛光清洗装置还包括抽真空结构，所述抽真空结构包括通过管道与所述出口连通的真空泵，所述出口处设置有用于开启或关闭所述出口的阀门。9、可选的，所述毛刷槽的内壁上设置有进液口和出液口，所述抛光清洗装置还包括液体提供结构和液体回收结构，所述液体提供结构通过管道与所述进液口连通，所述液体回收结构通过管道与所述出液口连通。10、可选的，所述出液口设置有可伸缩设置的出液管，所述出液管被配置为在位于第一高度时，使得所述毛刷槽内的液体的液位维持在预设液位，以用于所述毛刷的保湿，所述出液管位于第二高度时，所述出液管在第二高度时排出所述毛刷槽内的液体。11、可选的，所述液体提供结构提供的液体为去离子水。12、本发明实施例还提供一种抛光设备，包括上述的抛光垫清洗装置。13、本发明的有益效果是：沿着从所述毛刷槽的顶部到所述毛刷槽的底部的方向，所述毛刷槽划分为第一部分和第二部分，所述第一部分用于容纳所述毛刷，所述第二部分的内壁上设置有传感器，所述传感器被配置为感应所述毛刷槽内的杂质大于或等于预设阈值时进行报警。加深了所述毛刷槽的深度，毛刷带来的杂质可以下沉到所述第二部分，并且在所述第二部分内堆积的杂质颗粒等脏污累积到预设阈值时，进行报警以及时进行清理所述毛刷槽和毛刷，避免杂质被毛刷再次转移到抛光垫上，影响抛光质量。技术特征：1.一种抛光垫清洗装置，包括毛刷结构，所述毛刷结构包括驱动结构、毛刷臂和毛刷槽，所述毛刷臂的一端设置有毛刷，所述毛刷槽用于容纳所述毛刷，所述驱动结构用于控制所述毛刷臂移动，以使得所述毛刷臂上的毛刷容纳于所述毛刷槽内，或者使得所述毛刷臂上的毛刷离开所述毛刷槽；2.根据权利要求1所述的抛光垫清洗装置，其特征在于，沿着从所述第一部分到所述第二部分的方向，所述第二部分的横截面积逐渐变小。3.根据权利要求2所述的抛光垫清洗装置，其特征在于，在所述毛刷槽的深度方向上，所述第二部分的截面的形状为三角形、梯形或半球形。4.根据权利要求1所述的抛光垫清洗装置，其特征在于，在所述毛刷槽的深度方向上，所述传感器与所述毛刷槽的底部之间的距离a与所述第二部分的深度b满足以下公式：1/2b≥a≥1/3b。5.根据权利要求1所述的抛光垫清洗装置，其特征在于，所述传感器为对射传感器，包括位于所述毛刷槽的内壁的相对的两侧的发射器和接收器。6.根据权利要求1所述的抛光垫清洗装置，其特征在于，所述毛刷槽的底部设置有出口，所述抛光清洗装置还包括抽真空结构，所述抽真空结构包括通过管道与所述出口连通的真空泵，所述出口处设置有用于开启或关闭所述出口的阀门。7.根据权利要求1所述的抛光垫清洗装置，其特征在于，所述毛刷槽的内壁上设置有进液口和出液口，所述抛光清洗装置还包括液体提供结构和液体回收结构，所述液体提供结构通过管道与所述进液口连通，所述液体回收结构通过管道与所述出液口连通。8.根据权利要求7所述的抛光垫清洗装置，其特征在于，所述出液口设置有可伸缩设置的出液管，所述出液管被配置为在位于第一高度时，使得所述毛刷槽内的液体的液位维持在预设液位，以用于所述毛刷的保湿，所述出液管位于第二高度时，所述出液管在第二高度时排出所述毛刷槽内的液体。9.根据权利要求7所述的抛光垫清洗装置，其特征在于，所述液体提供结构提供的液体为去离子水。10.一种抛光设备，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的抛光垫清洗装置。技术总结本发明涉及一种抛光垫清洗装置，包括毛刷结构，毛刷结构包括驱动结构、毛刷臂和毛刷槽，毛刷臂的一端设置有毛刷，毛刷槽用于容纳毛刷，驱动结构用于控制毛刷臂移动，以使得毛刷臂上的毛刷容纳于毛刷槽内，或者使得毛刷臂上的毛刷离开毛刷槽；沿着从毛刷槽的顶部到毛刷槽的底部的方向，毛刷槽划分为第一部分和第二部分，第一部分用于容纳毛刷，第二部分的内壁上设置有传感器，传感器被配置为感应毛刷槽内的杂质大于或等于预设阈值时进行报警。本发明还涉及一种抛光设备。加深了毛刷槽的深度，毛刷带来的脏污可以下沉到第二部分，在第二部分内堆积的脏污累积到预设阈值时进行报警以及时进行清理毛刷结构，避免脏污被毛刷再次转移到抛光垫上。技术研发人员：陈阳受保护的技术使用者：西安奕斯伟材料科技股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/1/22