一种轴承人字微槽的毛刺去除方法与流程

本发明涉及x射线管，具体涉及一种轴承人字微槽的毛刺去除方法。

背景技术：

1、x射线管是一种重要的电子器件，用于产生和放大x射线。在x射线管中，液态金属轴承是关键的组成部分。液态金属轴承的应用可以确保x射线管的正常曝光，避免因轴承杆或轴承套的快速磨损导致的卡轴故障。这对于医疗设备和工业检测设备的稳定运行非常重要。液态金属轴承的良性循环和改善的润滑效果可以提高设备的使用寿命，降低维护成本。因此，液态金属轴承的应用前景在各个行业都非常广泛。

2、在轴承运行时，通过人字微槽的结构实现对液态金属的导流与泵送，使得液态金属可以在轴承内部实现循环运动，避免由于重力影响导致作为润滑剂的液态金属富集在局部从而导致轴承卡顿、失效等情况发生。然而，由于人字微槽的槽宽较细，且加工后会在槽的边缘、底部产生加工毛刺，影响到轴承组件之间的相互配合，导致轴承卡顿、失效等情况。

3、为了解决液态金属轴承中由于毛刺导致的卡顿问题，现有技术中采用了一些解决方案。例如，可以使用更高精度的加工设备来降低毛刺尺寸。此外，还可以通过在刻槽加工后对相应部位进行精磨。

4、然而，现有技术中存在一些问题或缺点，首先，更高精度的设备意味着成本的大幅增加，同时毛刺尺寸降低并不意味着完全不存在，且对于微米级别的毛刺来说，进一步的降低毛刺尺寸也使得毛刺的尺寸低于0.1μm的使用要求。其次，对于刻槽位置的精磨虽然在一定程度上解决处于槽外表面的毛刺问题，但是对于槽内以及底部的毛刺仍然无法处理，同时精磨也会导致微槽的尺寸发生变化。

技术实现思路

1、为解决上述技术问题，本发明提供一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，包括如下步骤：

2、s1、对组件进行磁力抛光，采用磁场控制抛光针旋转运动，对组件进行抛光；

3、s2、磁力抛光后的组件进行干冰处理，采用高压喷射出的干冰颗粒形成物理冲击，对毛刺产生冲击去除的同时对组件进行降温处理；

4、s3、进行半固体磨削处理，半固体磨料沿组件表面及人字微槽内流动，对组件表面及人字微槽进行磨削；

5、s4、等离子抛光，采用电流冲击溶液形成等离子体，对组件整体去除毛刺。

6、优选的：所述步骤s1中采用磁力研磨机进行磁力抛光。

7、优选的：所述抛光针的直径为0.005～0.5mm，抛光针的长度为0.5～10mm。

8、优选的：所述抛光针为不锈钢细针。

9、优选的：所述步骤s2中干冰颗粒的粒度为d10≤1.0μm，d50≤5.0μm，d90≤15μm。

10、优选的：所述步骤s3中采用精密球体研磨机进行半固体磨削处理。

11、优选的：所述半固体磨削是由磨料、载体、助剂捏合而成。

12、优选的：所述磨料选用高硬度的陶瓷粉末。

13、优选的：所述步骤s4中选用中性盐作为导电溶液的溶质，控制导电溶液的ph值为7。

14、优选的：所述导电溶液的浓度为3％～15％。

15、本发明的技术效果和优点：

16、1、本发明通过复合去毛刺手段，实现了对各个尺寸毛刺的去除，同时兼顾对组件表面状态保护，避免了新杂质的引入，使得组件的整体状态得到了显著提升，使得轴承在使用过程中，不再需要在毛刺尺寸控制和非刻槽区的粗糙度保障之间做出折衷，同时，本发明进一步提高了轴承的寿命和可靠性。

17、2、采用本发明工艺加工时，不会引入其他杂质，在前两道次进行大尺寸毛刺去除，后两道次再去除小微尺寸毛刺，将前道次可能存在的磨料、毛刺屑残留进一步的去除。

技术特征：

1.一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，其特征在于，所述步骤s1中采用磁力研磨机进行磁力抛光。

3.根据权利要求1所述的一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，其特征在于，所述抛光针的直径为0.005～0.5mm，抛光针的长度为0.5～10mm。

4.根据权利要求1所述的一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，其特征在于，所述抛光针为不锈钢细针。

5.根据权利要求1所述的一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，其特征在于，所述步骤s2中干冰颗粒的粒度为d10≤1.0μm，d50≤5μm，d90≤15μm。

6.根据权利要求1所述的一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，其特征在于，所述步骤s3中采用精密球体研磨机进行半固体磨削处理。

7.根据权利要求1所述的一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，其特征在于，所述半固体磨削是由磨料、载体、助剂捏合而成。

8.根据权利要求1所述的一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，其特征在于，所述磨料选用高硬度的陶瓷粉末。

9.根据权利要求1所述的一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，其特征在于，所述步骤s4中选用中性盐作为导电溶液的溶质，控制导电溶液的ph值为7。

10.根据权利要求1所述的一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，其特征在于，所述导电溶液的浓度为3％～15％。

技术总结
本发明公开了一种轴承人字微槽的毛刺去除方法，包括如下步骤：对组件进行磁力抛光，采用磁场控制抛光针旋转运动，对组件进行抛光；磁力抛光后的组件进行干冰处理，采用高压喷射出的干冰颗粒形成物理冲击，对毛刺产生冲击去除的同时对组件进行降温处理；进行半固体磨削处理，半固体磨料沿组件表面及人字微槽内流动，对组件表面及人字微槽进行磨削；等离子抛光，采用电流冲击溶液形成等离子体，对组件整体去除毛刺，采用本发明工艺加工时，不会引入其他杂质，在前两道次进行大尺寸毛刺去除，后两道次再去除小微尺寸毛刺，将前道次可能存在的磨料、毛刺屑残留进一步的去除。

技术研发人员：陈克猷,简江林,郭春艳,王爱春,潘祥生
受保护的技术使用者：上海六晶科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/27