掩模、具有其的掩模组件及衬底转移设备的制作方法

本公开涉及包括传感器的掩模、包括掩模的掩模组件、以及包括掩模的衬底转移设备。

背景技术：

1、显示面板包括多个像素。每个像素包括诸如晶体管的驱动元件和诸如有机发光元件的显示元件。显示元件可以通过在衬底上堆叠电极和各种功能层来形成。

2、可以使用掩模(开口可以限定成穿过所述掩模)来沉积显示元件的功能层。可用于沉积功能层的设备包括用于在处理室和可在其中执行沉积工艺的沉积室之间转移衬底或掩模的转移路径。转移路径可以被设置为与沉积室连接的处于真空状态下的室。在转移中的对象(诸如，衬底或掩模)中可能由于对象瑕疵(flaw)或与沉积工艺中使用的设备的碰撞而出现缺陷。可能难以确定缺陷是由转移中的对象还是沉积工艺中使用的设备导致的，并且因此，执行与缺陷对应的修复工艺可能受到限制。

3、将理解的是，该背景技术部分旨在部分地为理解该技术提供有用的背景。然而，该背景技术部分也可以包括并非是本文中公开的主题的相应有效申请日之前被相关领域的技术人员已知或理解的内容的一部分的概念、构思或认识。

技术实现思路

1、本公开提供了可以在移动衬底转移设备的同时能够实时监测的掩模和掩模组件。

2、本公开提供了能够实时监测掩模和掩模组件的衬底转移设备。

3、根据实施方式，掩模可以包括：框架，包括开口；容纳结构，设置在框架上，并且限定与外部隔绝的容纳空间；以及传感器，设置在容纳空间中。

4、传感器可以包括位移传感器、陀螺仪传感器和振动传感器中的至少一个。

5、掩模还可以包括附接到框架的相机。

6、掩模还可以包括电连接到传感器的通信收发器。

7、掩模还可以包括设置在容纳空间中并且电连接到传感器的驱动电路。

8、掩模还可以包括电连接到传感器的驱动电路。容纳结构可以包括限定第一部分容纳空间的第一容纳部和限定第二部分容纳空间的第二容纳部。传感器可以设置在第一部分容纳空间中。驱动电路可以设置在第二部分容纳空间中。

9、第二容纳部在平面图中可以与开口至少部分地重叠。

10、框架还可以包括与第二容纳部重叠并且与开口交叉的部分，以及开口可以由所述部分划分成两个开口。

11、掩模还可以包括掩模片，其设置在框架上并且包括限定成穿过掩模片的掩模开口，以在平面图中与开口重叠。

12、容纳结构可以设置在掩模片上，并且可以与掩模片的掩模开口的至少一部分重叠。

13、容纳结构可以包括物理连接到框架的盖，框架和盖可以一起限定容纳空间，以及容纳空间可以具有大气压力。

14、容纳结构可以包括：容纳部分，设置在框架上；以及盖，覆盖容纳部分，容纳部分和框架可以一起限定容纳空间，以及容纳空间可以具有大气压力。

15、根据实施方式，掩模组件可以包括：掩模，包括具有开口的框架、第一传感器、以及限定容纳空间的容纳结构；载体衬底，设置在掩模上并且包括面对掩模的一侧和与面对掩模的一侧相对的另一侧；以及衬底，设置在掩模和载体衬底之间并且被提供到面对掩模的一侧。第一传感器可以容纳在容纳空间中。

16、第一传感器可以包括陀螺仪传感器、振动传感器和位移传感器中的至少一个。

17、载体衬底还可以包括相机和第二传感器。

18、载体衬底还可以包括限定另一容纳空间的另一容纳结构，第二传感器可以容纳在另一容纳空间中，以及容纳空间和另一容纳空间中的至少一个可以具有大气压力。

19、另一容纳空间可以包括在载体衬底的另一侧处的第一容纳部和第二容纳部。

20、根据实施方式，衬底转移设备可以包括：路径，提供真空状态；转移引导件，设置在路径中并且包括底部辊和侧部辊；以及掩模，沿着转移引导件移动。掩模可以包括：框架，包括开口；容纳结构，设置在框架上并包括容纳空间；以及传感器，设置在容纳空间中。

21、传感器可以包括陀螺仪传感器、振动传感器和位移传感器中的至少一个，以及底部辊和侧部辊中的至少一个可以与容纳结构物理接触。

22、衬底转移设备还可以包括：内部通信收发器，设置在掩模上；以及外部通信收发器，设置在路径的外部以向内部通信收发器传输信号和从内部通信收发器接收信号。

23、根据以上，可以实时地监测掩模或掩模组件的移动环境。因此，可以防止在掩模或掩模组件的转移工艺中出现损坏，并且可以降低工艺成本。

技术特征：

1.掩模，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的掩模，其特征在于，所述传感器包括位移传感器、陀螺仪传感器和振动传感器中的至少一个。

3.根据权利要求2所述的掩模，其特征在于，还包括：

4.根据权利要求2所述的掩模，其特征在于，还包括：

5.根据权利要求2所述的掩模，其特征在于，还包括：

6.根据权利要求5所述的掩模，其特征在于，所述第二容纳部在平面图中与所述开口至少部分地重叠。

7.根据权利要求6所述的掩模，其特征在于，

8.根据权利要求1所述的掩模，其特征在于，还包括：

9.掩模组件，其特征在于，包括：

10.衬底转移设备，其特征在于，包括：

技术总结
本申请涉及掩模、包括掩模的掩模组件、以及包括掩模的衬底转移设备。根据实施方式，掩模包括：框架，包括开口；容纳结构，设置在框架上，并且包括与外部隔绝的容纳空间；以及传感器，设置在容纳空间中。

技术研发人员：赵喆来,卢喆来,韩尚辰,明承镐
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：20230111
技术公布日：2024/1/12