掩模组件的制作方法

公开在此涉及一种掩模组件、一种用于制造该掩模组件的方法以及一种用于使用该掩模组件制造显示面板的方法，更具体地，涉及一种能够形成通常与像素叠置的沉积层的掩模组件、一种用于制造该掩模组件的方法以及一种用于使用该掩模组件制造显示面板的方法。

背景技术：

1、显示面板包括像素。像素中的每个包括诸如晶体管的驱动元件和诸如有机发光元件的显示元件。显示元件可以通过在基底上层叠电极和各种功能层来形成。

2、构成显示元件的功能层可以使用具有通孔限定在其中的掩模通过沉积工艺形成。在这种情况下，可以根据掩模的开口区域的形状来控制图案化功能层中的每个的形状。因此，为了改善图案化功能层的沉积质量，有必要开发用于掩模组件的技术和以高精度制造掩模的方法。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是为了提供了一种包括诸如杆部的细长部的掩模组件。

2、公开还提供了一种用于制造掩模组件的方法。

3、公开还提供了一种用于制造显示面板的方法，该方法能够制造具有沉积精度的显示面板。

4、公开的实施例提供了一种掩模组件，所述掩模组件包括：框架，所述框架包括：长边部，在第一方向上延伸并且在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开；以及短边部，连接到长边部，框架限定框架开口；第一杆部，在第二方向上延伸并且连接到框架；第一掩模片，限定第一沉积开口并且连接到第一杆部和框架，第一沉积开口在平面图中与框架开口叠置；以及第二掩模片，限定第二沉积开口并且连接到第一杆部和框架，第二沉积开口在平面图中与框架开口叠置。

5、在实施例中，第一杆部的一部分可以在第一掩模片与第二掩模片之间被暴露。

6、在实施例中，长边部可以包括杆部槽，并且第一杆部可以插入到杆部槽中。

7、在实施例中，第一杆部可以设置在第一掩模片的后表面和第二掩模片的后表面上或设置在第一掩模片的前表面和第二掩模片的前表面上。

8、在实施例中，第一掩模片和第二掩模片中的每个可以具有在约50μm至约300μm的范围内的厚度，第一杆部可以具有在约50μm至约300μm的范围内的厚度，并且第一杆部在第一方向上可以具有在约1mm至约5mm的范围内的宽度。

9、在实施例中，第一掩模片、第二掩模片、第一杆部和框架中的每个可以包括因瓦合金。

10、在实施例中，掩模组件还可以包括：第二杆部，在第二方向上延伸并且在第一方向上与第一杆部间隔开；以及第三掩模片，限定第三沉积开口并且连接到第二杆部和框架，第三沉积开口在平面图中与框架开口叠置。第二掩模片可以设置在第一掩模片与第三掩模片之间，并且第二杆部的一部分可以在第二掩模片与第三掩模片之间被暴露。

11、在实施例中，第一掩膜片至第三掩膜片中的每个可以包括在第一方向上彼此间隔开的边和在第二方向上彼此间隔开的其它边，第一掩模片的所述边中的一个可以连接到第一杆部，所述边中的另一个可以连接到短边部中的与其叠置的一个，所述其它边中的每个可以连接到长边部中的与其叠置的一个，第三掩模片的所述边中的一个可以连接到第二杆部，所述边中的另一个可以连接到短边部中的与其叠置的一个，所述其它边中的每个可以连接到长边部中的与其叠置的一个，并且第二掩模片的所述边中的一个可以连接到第一杆部，所述边中的另一个可以连接到第二杆部，并且所述其它边中的每个可以连接到长边部中的与其叠置的一个。

12、在实施例中，掩模组件还可以包括：第一焊接突起，分别设置在第一掩模片和第二掩模片中的每个的前表面以及第二掩模片和第三掩模片中的每个的前表面上，第一掩模片和第二掩模片中的每个的前表面在平面图中与第一杆部叠置，第二掩模片和第三掩模片中的每个的前表面在平面图中与第二杆部叠置；以及第二焊接突起，在平面图中与框架叠置地分别设置在第一掩模片至第三掩模片的前表面上。

13、在实施例中，第一掩模片和第二掩模片中的每个在第一方向上的宽度可以小于第一掩模片和第二掩模片中的每个在第二方向上的宽度。

14、公开的实施例提供了一种掩模组件，所述掩模组件包括：框架，所述框架包括：长边部，在第一方向上延伸并且在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开；以及短边部，连接到长边部，框架限定框架开口；第一杆部，在第二方向上延伸并且连接到框架；第一掩模片，限定第一沉积开口并且连接到第一杆部和框架，第一沉积开口的至少一部分在第一方向上布置并且在平面图中与框架开口叠置；以及第二掩模片，限定第二沉积开口并且连接到第一杆部和框架，第二沉积开口的至少一部分在第一方向上布置并且在平面图中与框架开口叠置。

15、在实施例中，第一杆部的一部分可以在第一掩模片与第二掩模片之间被暴露。

16、在实施例中，长边部包括杆部槽，并且第一杆部可以插入到杆部槽中。

17、在实施例中，第一杆部可以设置在第一掩模片的后表面和第二掩模片的后表面上。

18、在实施例中，第一杆部可以设置在第一掩模片的前表面和第二掩模片的前表面上。

19、在实施例中，第一掩模片和第二掩模片中的每个可以具有在约50μm至约300μm的范围内的厚度。

20、在实施例中，第一杆部可以具有在约50μm至约300μm的范围内的厚度，并且第一杆部在第一方向上可以具有在约1mm至约5mm的范围内的宽度。

21、在实施例中，第一掩模片、第二掩模片、第一杆部和框架中的每个可以包括因瓦合金。

22、在实施例中，掩模组件还可以包括：第二杆部，在第二方向上延伸并且在第一方向上与第一杆部间隔开；以及第三掩模片，限定第三沉积开口并且连接到第二杆部和框架，第三沉积开口在第一方向上布置并且在平面图中与框架开口叠置。第二掩模片可以设置在第一掩模片与第三掩模片之间，并且第二杆部的一部分可以在第二掩模片与第三掩模片之间被暴露。

23、在实施例中，第一掩膜片至第三掩膜片中的每个可以包括在第一方向上彼此间隔开的边和在第二方向上彼此间隔开的其它边，第一掩模片的所述边中的一个可以连接到第一杆部，所述边中的另一个连接到短边部中的与其叠置的一个，并且所述其它边中的每个可以连接到长边部中的与其叠置的一个，第三掩模片的所述边中的一个可以连接到第二杆部，所述边中的另一个可以连接到短边部中的与其叠置的一个，并且所述其它边中的每个可以连接到长边部中的与其叠置的一个，并且第二掩模片的所述边中的一个可以连接到第一杆部，所述边中的另一个可以连接到第二杆部，并且所述其它边中的每个可以连接到长边部中的与其叠置的一个。

24、在实施例中，掩模组件还可以包括：第一焊接突起，分别设置在第一掩模片和第二掩模片中的每个的前表面以及第二掩模片和第三掩模片中的每个的前表面上，第一掩模片和第二掩模片中的每个的前表面在平面图中与第一杆部叠置，第二掩模片和第三掩模片中的每个的前表面在平面图中与第二杆部叠置；以及第二焊接突起，在平面图中与框架叠置地分别设置在第一掩模片至第三掩模片的前表面上。

25、在实施例中，第一沉积开口、第二沉积开口和第三沉积开口中的至少一者可以在第一方向和第二方向上按n行×m列布置，n和m是大于0的自然数，并且n和m中的至少一个大于或等于2。

26、在实施例中，第一掩模片和第二掩模片中的每个在第一方向上的宽度可以小于第一掩模片和第二掩模片中的每个在第二方向上的宽度。

27、在公开的实施例中，用于制造掩模组件的方法包括以下步骤：设置限定框架开口的框架，框架在第一方向上的宽度大于框架在与第一方向交叉的第二方向上的宽度；在框架上设置掩模片和至少一个杆部，至少一个杆部支撑掩模片中的两个相邻掩模片；在掩模片和至少一个杆部向在第二方向上的侧面张紧的状态下，通过将与至少一个杆部相邻的掩模片连接到至少一个杆部来形成结合片；通过施加张力将结合片向在第一方向上的侧面张紧，并且将结合片向在第二方向上的侧面张紧；将张紧的结合片连接到框架；减轻施加到与框架连接的结合片的张力；以及另外加工减轻了张力的结合片。

28、所述方法还包括在掩模片中的每个中形成预沉积开口的步骤，并且在框架上设置掩模片的步骤之前执行形成预沉积开口的步骤，或者在使结合片张紧的步骤与将张紧的结合片连接到框架的步骤之间执行形成预沉积开口的步骤。

29、在实施例中，掩模片可以包括第一掩模片、第二掩模片和第三掩模片，至少一个杆部可以包括：第一杆部，在平面图中与第一掩模片和第二掩模片叠置；以及第二杆部，在平面图中与第二掩模片和第三掩模片叠置，设置掩模片和至少一个杆部的步骤可以包括顺序地设置第一掩模片、第一杆部、第二掩模片、第二杆部和第三掩模片。

30、在实施例中，预沉积开口可以布置为在第一方向和第二方向上彼此间隔开。

31、在实施例中，在设置掩模片和至少一个杆部的步骤中，可以在掩模片和至少一个杆部中的每个向在第二方向上的侧面张紧的状态下，设置掩模片和至少一个杆部。

32、在实施例中，形成结合片的步骤可以包括将掩模片中的每个焊接到至少一个杆部中的对应的杆部。

33、在实施例中，将张紧的结合片连接到框架的步骤可以包括将结合片焊接到框架。

34、在实施例中，所述方法还可以包括在使结合片张紧的步骤与将张紧的结合片连接到框架的步骤之间调节施加到结合片的张力的步骤。

35、在实施例中，可以通过激光工艺执行形成预沉积开口的步骤。

36、在实施例中，另外加工减轻了张力的结合片的步骤可以包括切割掩模片以去除至少从框架暴露的区域。

37、在实施例中，另外加工减轻了张力的结合片的步骤可以包括修整预沉积开口以形成沉积开口。

38、在实施例中，沉积开口中的每个可以具有比预沉积开口中的每个的表面积大的表面积。

39、在公开的实施例中，用于使用掩模组件制造显示面板的方法包括以下步骤：用掩模组件在沉积基底上形成沉积层，其中，掩模组件包括：框架，框架包括：长边部，在第一方向上延伸并且在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开；以及短边部，连接到长边部，框架限定框架开口；第一杆部，在第二方向上延伸并且连接到框架；第一掩模片，限定第一沉积开口，第一沉积开口布置为在第一方向上彼此间隔开并且在平面图中与框架开口叠置，第一掩模片连接到第一杆部和框架；以及第二掩模片，限定第二沉积开口，第二沉积开口布置为在第一方向上彼此间隔开并且在平面图中与框架开口叠置，第二掩模片连接到第一杆部和框架。

40、在实施例中，沉积基底可以包括单元区域和与单元区域相邻的非沉积区域，单元区域中的每个可以在平面图中与第一沉积开口和第二沉积开口中的对应开口叠置，并且非沉积区域可以在平面图中与第一掩模片、第一杆部和第二掩模片叠置。

41、在实施例中，发光元件可以设置在单元区域中的每个中，发光元件中的每个可以包括第一电极、第二电极以及在第一电极与第二电极之间的发光层，发光层可以与由穿过对应开口的沉积蒸汽形成的沉积层对应，并且发光元件中的每个的发光层可以具有一体形状。

42、在实施例中，发光元件可以设置在单元区域中的每个中，至少一个无机层可以设置在发光元件中的每个的下部或上部上，至少一个无机层可以与由穿过对应开口的沉积蒸汽形成的沉积层对应，并且至少一个无机层可以具有一体形状。

43、根据公开的掩模组件可以包括一种类型的杆部以减少沉积层的阴影缺陷现象，该阴影缺陷现象发生在现有杆部彼此交叉的区域上(或中)。可以设置少量的杆部以降低由于杆部变形而发生沉积缺陷的风险。