一种样品台底座、样品台组件及MPCVD设备的制作方法

本技术涉及微波等离子体，具体而言，涉及一种样品台底座、样品台组件及mpcvd设备。

背景技术：

1、微波等离子体化学气相沉积法，是当今制备高质量金刚石膜的先进方法，该方法需要用到微波等离子体化学气相沉积设备（简称mpcvd），mpcvd是将微波发生器产生的微波经波导传输系统导入反应腔，并通入甲烷与氢气的混合气体，在微波的激励下，反应腔内产生辉光放电，使反应气体的分子离化、产生等离子体，在样品台上沉积从而得到金刚石膜。

2、mpcvd反应腔内的温度非常高，而样品台底座长时间置于该高温环境中，如不及时有效的助其散热降温，势必降低其使用寿命甚至损坏。

3、现有技术的样品台底座，其螺旋状的散热结构较难加工，且散热效果不理想、温差较大（见图5），严重制约了mpcvd设备的应用前景。

技术实现思路

1、本实用新型的目的，在于克服现有技术的不足，提供了一种散热结构易于加工、散热效果较好、被散热部位温差较小的样品台底座。

2、本实用新型的另一目的，在于提供了一种样品台组件，其采用了上述样品台底座。

3、本实用新型的又一目的，在于提供了一种mpcvd设备，其采用了上述样品台组件。

4、本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：

5、一种样品台底座，所述样品台底座设置有平底盲孔，所述平底盲孔底面设置有第一通孔和第一环形凹槽，所述第一环形凹槽环绕第一通孔设置，所述第一环形凹槽底面均匀设置有多个第二通孔，所述平底盲孔底面与第一通孔的孔壁之间设置有倒角，所述平底盲孔、第一通孔与第一环形凹槽同轴。

6、进一步的，还包括环绕第一环形凹槽设置的第二环形凹槽，所述第二环形凹槽底面设置有第三环形凹槽和第四环形凹槽，所述第四环形凹槽环绕第三环形凹槽设置，所述第三环形凹槽底面均匀设置有多个第三通孔，所述第四环形凹槽底面均匀设置有多个第四通孔，所述第二环形凹槽与第一通孔同轴。

7、一种样品台组件，包括所述样品台底座，还包括与所述样品台底座连接的上面板，所述平底盲孔与上面板形成用于冷却介质流通的第一通道，所述第二环形凹槽与上面板形成用于冷却介质流通的第二通道。

8、进一步的，所述上面板设置有与所述倒角匹配的凸起，所述凸起包括圆台和球体，所述圆台直径较大的一端与上面板连接，所述圆台直径较小的一端与球体连接。

9、进一步的，所述底座与上面板之间设置有第一密封圈，所述第一密封圈环绕第二通道设置。

10、进一步的，所述底座与上面板之间设置有第二密封圈，所述第二密封圈设置在第一通道与第二通道之间。

11、进一步的，还包括第一管道、第二管道、第三管道和第四管道，所述第一管道、第二管道、第三管道和第四管道分别与第一通孔、第二通孔、第三通孔和第四通孔连通。

12、进一步的，所述样品台底座与上面板之间可拆卸的连接。

13、一种mpcvd设备，所述mpcvd设备包括所述样品台组件。

14、一种mpcvd设备，所述mpcvd设备包括所述样品台组件，所述第一管道、第三管道与冷却介质输入端连接，所述第二管道、第四管道与冷却介质输出端连接。

15、本实用新型具有以下优点：

16、1. 平底盲孔、环形凹槽加通孔的散热结构，大大降低了加工难度；

17、2. 平底盲孔可使冷却介质与被散热件直接接触，提高了热交换的效率，使被散热件能够更快的散热；

18、3. 平底盲孔、环形凹槽与第一通孔同轴设置，使得冷却介质始终以第一通孔为中心流入流出，避免了因冷却介质流入流出不同心而造成散热不均，从而导致局部温差过大，可靠的保证了散热的均匀性；

19、4. 第二通孔均匀设置，可使冷却介质更加均匀的流入流出，使散热更加均匀从而进一步降低温差。

技术特征：

1.一种样品台底座（1），其特征在于：所述样品台底座（1）设置有平底盲孔（2），所述平底盲孔（2）底面设置有第一通孔（3）和第一环形凹槽（4），所述第一环形凹槽（4）环绕第一通孔（3）设置，所述第一环形凹槽（4）底面均匀设置有多个第二通孔（5），所述平底盲孔（2）底面与第一通孔（3）的孔壁之间设置有倒角，所述平底盲孔（2）、第一通孔（3）与第一环形凹槽（4）同轴。

2.根据权利要求1所述的样品台底座（1），其特征在于：还包括环绕第一环形凹槽（4）设置的第二环形凹槽（6），所述第二环形凹槽（6）底面设置有第三环形凹槽（7）和第四环形凹槽（8），所述第四环形凹槽（8）环绕第三环形凹槽（7）设置，所述第三环形凹槽（7）底面均匀设置有多个第三通孔（9），所述第四环形凹槽（8）底面均匀设置有多个第四通孔（10），所述第二环形凹槽（6）与第一通孔（3）同轴。

3.一种样品台组件，其特征在于：包括权利要求2所述的样品台底座（1），还包括与所述样品台底座（1）连接的上面板（11），所述平底盲孔（2）与上面板（11）形成用于冷却介质流通的第一通道（12），所述第二环形凹槽（6）与上面板（11）形成用于冷却介质流通的第二通道（13）。

4.根据权利要求3所述的样品台组件，其特征在于：所述上面板（11）设置有与所述倒角匹配的凸起（20），所述凸起（20）包括圆台和球体，所述圆台直径较大的一端与上面板（11）连接，所述圆台直径较小的一端与球体连接。

5.根据权利要求4所述的样品台组件，其特征在于：所述底座（1）与上面板（11）之间设置有第一密封圈（14），所述第一密封圈（14）环绕第二通道（13）设置。

6.根据权利要求5所述的样品台组件，其特征在于：所述底座（1）与上面板（11）之间设置有第二密封圈（15），所述第二密封圈（15）设置在第一通道（12）与第二通道（13）之间。

7.根据权利要求6所述的样品台组件，其特征在于：还包括第一管道（16）、第二管道（17）、第三管道（18）和第四管道（19），所述第一管道（16）、第二管道（17）、第三管道（18）和第四管道（19）分别与第一通孔（3）、第二通孔（5）、第三通孔（9）和第四通孔（10）连通。

8.根据权利要求3至7任一项所述的样品台组件，其特征在于：所述样品台底座（1）与上面板（11）之间可拆卸的连接。

9.一种mpcvd设备，其特征在于：所述mpcvd设备包括权利要求3至8任一项所述的样品台组件。

10.一种mpcvd设备，其特征在于：所述mpcvd设备包括权利要求7所述的样品台组件，所述第一管道（16）、第三管道（18）与冷却介质输入端连接，所述第二管道（17）、第四管道（19）与冷却介质输出端连接。

技术总结
本技术涉及微波等离子体技术领域，具体而言，涉及一种样品台底座、样品台组件及MPCVD设备，所述样品台底座设置有平底盲孔，所述平底盲孔底面设置有第一通孔和第一环形凹槽，所述第一环形凹槽环绕第一通孔设置，所述第一环形凹槽底面均匀设置有多个第二通孔，所述平底盲孔底面与第一通孔的孔壁之间设置有倒角，所述平底盲孔、第一通孔与第一环形凹槽同轴，提供了一种散热结构易于加工、散热效果较好、被散热部位温差较小的样品台底座。

技术研发人员：黄春林,刘文科,胡宗义,李俊宏,李东亚
受保护的技术使用者：成都沃特塞恩电子技术有限公司
技术研发日：20230224
技术公布日：2024/1/13