一种支撑平台和磁流变抛光设备的制作方法

本技术涉及抛光，具体涉及一种支撑平台和磁流变抛光设备。

背景技术：

1、磁流变抛光设备是利用磁流体抛光液进行抛光的设备，可以在磁场的精确控制下进行高精度的抛光工作，抛光精度通常可以达到微米级，使得磁流变抛光设备是一种精密抛光设备。

2、现有的磁流变抛光设备通常包括机架(或称为支撑平台)、安装于机架的磁流变抛光头以及相关的控制器件等，比较重，甚至会超过一顿，而且磁流变抛光头在打磨抛光过程中的也会常出现不同程度的磁流变抛光头振动。而随着技术的进步，磁流变抛光设备的集成度越来越高，功能也越来越完善，磁流变抛光设备不仅需要利用磁流变抛光头对产品进行打磨抛光处理，而且还需要对打磨抛光后的产品进行检查，以便查看抛光质量，评估是否满足精度要求，因此，需要在磁流变抛光设备内配置检测模组；由于磁流变抛光设备的抛光精度通常为微米级，因此，所述检测模组通常也采用的是高精度的视觉检测模组。但是，如果在现有磁流变抛光设备的机架上同时集成安装磁流变抛光头和检测模组，一方面，磁流变抛光头运行时所产生的振动会通过机架传递到检测模组，从而影响检测模组的检测精度，另一方面，现有的机架通常采用钢板来形成一安装平台，安装磁流变抛光头和检测模组都安装于该安装平台，由于安装平台是由钢板加工而成，加工后的钢板存在应力释放过程，在这个过程中，钢板会慢慢发生变形，不仅持续周期不确定，短的几个月，长的会持续几年时间，而且对磁流变抛光头的抛光精度、对检测模组的检测精度都有影响，亟待解决。

技术实现思路

1、本实用新型第一方面要解决磁流变抛光设备中，将磁流变抛光头和检测模组集成安装于现有机架时存在，磁流变抛光头运行时所产生的振动会降低检测模组检测精度、机架的应力释放过程会同时影响抛光精度和检测精度的问题，提供了一种设计更加合理的支撑平台，不仅可以有效防止磁流变抛光头运行过程中产生的振动影响检测模组，而且基本不存在应力释放的过程，可以有效保证磁流变抛光头的抛光精度和检测模组的检测精度，主要构思为：

2、一种支撑平台，包括用于承载的支架，所述支架上设置有用于安装检测模组的第一安装平台和用于安装抛光头的第二安装平台，

3、第一安装平台与第二安装平台相邻设置，且第一安装平台与第二安装平台有间隙，

4、第一安装平台与支架之间设置有若干隔振器，第二安装平台与支架之间设置有若干隔振器，

5、第一安装平台和第二安装平台分别采用的是大理石平台。在本方案中，通过配置支架，以便为第一安装平台和第二安装平台的设置提供稳定的安装基础；通过在支架上同时设置用于安装检测模组的第一安装平台和用于安装抛光头的第二安装平台，并使得第一安装平台与第二安装平台相邻设置，且第一安装平台与第二安装平台有间隙，即二者不直接接触，不仅便于在磁流变抛光设备中同时集成检测模组和磁流变抛光头，有利于提高磁流变抛光设备集成度，而且可以有效防止磁流变抛光头打磨抛光过程中所产生的振动经由第二安装平台传递到第一安装平台而影响检测模组的检测精度；通过在第一安装平台与支架之间设置有若干隔振器，同时，在第二安装平台与支架之间也设置有若干隔振器，可以有效磁流变抛光头打磨抛光过程中所产生的振动经由支架传递到第一安装平台而影响检测模组的检测精度；而将第一安装平台和第二安装平台分别采用大理石平台，一方面，大理石平台加工的平面度更高，精度更高，从而有利于提高检测模组和磁流变抛光头安装精度，另一方面，大理石平台在后期使用过程中基本不存在应力释放过程，即使存在，形变量也会非常小且持续时间很短，从而可以有效保证磁流变抛光头的抛光精度和检测模组的检测精度。

6、优选的，所述隔振器采用的是橡胶垫块、弹簧阻尼隔振器或气垫式隔振器。

7、优选的，所述第一安装平台的上表面与第二安装平台的上表面平齐。以便形成更大的安装平面。

8、优选的，所述支架的顶部设置有若干垫块，所述垫块上安装有隔振器，所述第一安装平台和第二安装平台分别约束于对应的隔振器。在本方案中，通过在支架的顶部设置若干垫块，以便利用垫块来接触和安装隔振器，使得在生产制造时，不需要直接加工整个支架的上表面，而只需对垫块的上表面进行加工即可，不仅加工更方便，并可以大大减小加工面积，而且不会影响支架的强度，使得支架更稳定、可靠。

9、优选的，垫块焊接于支架或通过螺栓或螺钉等可拆卸的安装于支架。

10、进一步的，所述第一安装平台和第二安装平台分别构造有至少两个贯穿其上下两端的约束孔，第一安装平台和第二安装平台分别通过适配约束孔的紧固件约束于对应的隔振器。不仅可以维持第一安装平台和第二安装平台在支架上的稳定性，而且便于安装和拆卸维护。

11、优选的，所述约束孔采用的是沉头孔。使得紧固件不凸出安装平台的上表面，以便保持第一安装平台和第二安装平台上表面的平整。

12、本实用新型第二方面要解决进一步提高检测精度和抛光精度的问题，进一步的，还包括防护罩，所述防护罩连接于支架，并罩住支架、第一安装平台和第二安装平台，且第一安装平台和第二安装平台与防护罩的顶部之间形成第一装配空间，

13、所述防护罩配置有上下料口，且所述上下料口处设置有可开启的上下料门。在本方案中，由于磁流变抛光设备的精度较高，通过配置防护罩，并利用防护罩罩住支架、第一安装平台和第二安装平台，使得检测模组和磁流变抛光头都可以安装于防护罩内，并分别位于第一安装平台和第二安装平台的上方，同时，通过配置上下料门，以便通过所述上下料门方便的进行上下料操作，从而可以利用防护罩有效保护和隔离检测模组和磁流变抛光头，可以保证整个磁流变抛光设备的洁净度，从而有利于提高检测精度和抛光精度。

14、为便于操作，进一步的，所述防护罩配置有可开启的第一门，所述第一门设置于对应第一安装平台上方的位置处；

15、和/或，所述防护罩配置有可开启的第二门，所述第二门设置于对应第二安装平台上方的位置处。

16、为提高空间利用率，进一步的，支架还设置有隔板，所述隔板位于第一安装平台和第二安装平台的下方，隔板与第一安装平台及第二安装平台之间形成第二装配空间，

17、防护罩配置有可开启的第三门，所述第三门对应所述第二装配空间。第二装配空间可以用于安装磁流变抛光设备所需器电器件和相关附件，有利于提高整个设备的集成度和空间利用率。

18、一种磁流变抛光设备，包括检测模组、磁流变抛光头，还包括所述支撑平台，所述检测模组安装于所述第一安装平台，所述磁流变抛光头安装于所述第二安装平台。不仅可以同时集成检测模组和磁流变抛光头，有利于提高磁流变抛光设备集成度，并使得功能更完善，而且检测模组与磁流变抛光头互不干扰，可以有效保证磁流变抛光头的抛光精度和检测模组的检测精度。

19、为解决便于上下料的问题，进一步的，所述支撑平台还设置有工装治具，所述工装治具包括料台和直线导轨，直线导轨包括导轨和适配导轨的滑块，滑块可移动的约束于导轨，滑块安装于支撑平台，料台安装于导轨的一端，且导轨正对所述上下料口，料台可经由上下料口延伸到防护罩外；

20、料台构造有适配待抛光产品的定位凹槽，定位凹槽用于定位和承托待抛光产品。通过配置料台和直线导轨，不仅可以定位和承托待抛光产品，而且料台可以经由上下料口延伸到防护罩外，以便在防护罩外进行上下料操作，不仅更方便，而且有利于保证设备的洁净度。

21、优选的，料台的一侧设置有把手。

22、为使得本设备更便于使用和实现功能扩展，进一步的，防护罩的两侧分别设置有所述上下料口，且所述上下料口处分别设置有所述工装治具。既便于根据需要从设备的两侧上下料，而且更便于与其余的自动化设备相配合，更有利于实现功能扩展。

23、为解决防止导轨脱离滑块的问题，进一步的，工装治具还包括防脱机构，所述防脱机构包括设置于支撑平台的第一阻挡部和第二阻挡部、设置于导轨的第三阻挡部，第三阻挡部位于第一阻挡部与第二阻挡部之间，

24、在料台向防护罩外移动的过程中，第三阻挡部逐渐靠近第二阻挡部，在料台向防护罩内移动的过程中，第三阻挡部逐渐靠近第一阻挡部。第三阻挡部可以被第一阻挡部和第二阻挡部所阻挡，既可以防止导轨脱离滑块，又可以将料台限位于预定位置处，以便与机械手形成精确配合，更便于机械手精确抓取或放置屏幕。

25、本实用新型第三方面要解决得料台在防护罩内的停留位置不确定，很难保证料台精确停留于所预设位置处的问题，进一步的，所述支撑平台还设置有第一吸附部，所述工装治具设置有适配第一吸附部的第二吸附部，第一吸附部和第二吸附部中至少有一个具有磁性，当第三阻挡部接触第一阻挡部时，第一吸附部与第二吸附部通过磁力相互吸附。使得料台可以稳定的停留于第三阻挡部接触第一阻挡部的位置处，不存在料台位置不确定的问题，有利于使用更方便，并有利于提高配合精度。

26、优选的，所述第一吸附部为磁铁，所述第二吸附部为磁铁或铁块或钢板。

27、进一步的，还包括用于抓取待抛光产品的机械手，所述机械手安装于所述支撑平台。

28、与现有技术相比，使用本实用新型提供的一种支撑平台和磁流变抛光设备，设计更加合理，不仅可以有效防止磁流变抛光头运行过程中产生的振动影响检测模组的检测精度，而且基本不存在应力释放过程，可以有效保证磁流变抛光头的抛光精度和检测模组的检测精度。