一种新型复合铜箔生产装置的制作方法

本技术涉及复合铜箔，特别涉及一种新型复合铜箔生产装置 。

背景技术：

1、复合集流体也叫复合铜箔，是一个导电元件，具有汇总传导电流功能。复合铜箔在储能电池，3c电池，动力电池等领域广泛应用；电池复合集流体就是复合铜箔其中一种应用。复合铜箔在加工过程中，基材在真空镀膜机的真空度环境下进行的镀膜。但现有真空镀膜机中放卷室，收卷室、放卷室和镀膜室均处于同一真空空间中，各个空间之间相互连通，因此在放卷室更换第二卷料时或者收卷室满料换卷时，需要停机并且重新抽真空，镀膜效率低；而且现有的真空镀膜机仅能够对镀膜进行单面镀膜，要对第二面进行镀膜时需要将膜卷取下然后再一次放入到镀膜机上，生产效率低。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种新型复合铜箔生产装置 。

2、为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

3、本实用新型所述的一种新型复合铜箔生产装置 ，它包括有放卷室、第一镀膜室、第二镀膜室和收卷室；放卷室、第一镀膜室、第二镀膜室和收卷室沿基材的输送方向依次排列；放卷室与第一镀膜室之间、第一镀膜室与第二镀膜室之间和第二镀膜室与收卷室之间三者均设置有气体分隔装置；

4、放卷室上设置有放卷机构；所述收卷室上设置有收卷机构；所述第一镀膜室和第二镀膜室的内部均设置有单面镀膜组件；

5、所述单面镀膜组件包括有镀膜鼓和多个靶位组成；靶位在镀膜鼓外呈圆周分布；放卷室、第一镀膜室、第二镀膜室和收卷室内均设置有将基材贴紧在镀膜鼓表面的张紧辊；第一镀膜室和第二镀膜室均连接在抽真空设备上。

6、进一步地，所述靶位为多个蒸发靶位和多个磁控靶位组合而成。

7、进一步地，蒸发靶位的数量和磁控靶位的数量均为三个。

8、进一步地，所述镀膜鼓为冷却辊。

9、进一步地，放卷室内设置有预处理装置。

10、进一步地，所述气体分隔装置包括封板、第一气缸、密封箱和第二气缸；所述封板上设置有与密封箱相接通的封板过薄膜槽；密封箱内设置有第一密封块和第二密封块；所述密封箱上设置有箱体过薄膜槽；第一气缸一端固定在封板上；第一气缸另一端伸入到密封箱后与第一密封块固定连接；第二气缸一端固定在封板上；第二气缸另一端伸入到密封箱后与第二密封块固定连接。

11、采用上述结构后，本实用新型有益效果为：本实用新型所述的一种新型复合铜箔生产装置 ，在使用本实用新型时，放卷机构放出的卷膜通过张紧辊张紧后紧贴在镀膜鼓，放卷机构和收卷机构配合动作，带动基材先进入到第一镀膜室内，第一镀膜室的张紧辊和镀膜鼓上，第一镀膜室上的靶位对基材上背对镀膜鼓表面的一表面进行镀膜，单面镀膜完毕后的基材通过第二镀膜室的张紧辊，使得基材上镀膜的表面贴合在第二镀膜室内镀膜鼓的表面上，第二镀膜室上的靶位对基材的另一表面进行镀膜，实现基材的双面镀膜，提高镀膜的生产效率；相邻的室之间采用气体分隔装置隔离，放卷室、第一镀膜室、第二镀膜室和收卷室各个腔体独立，防止气体在各个腔体之间互窜，所以在放卷室和收卷室打开状态下，第一镀膜室和第二镀膜室也处于真空环境，在更换料卷，仅需要放卷室或者收卷室单独破真空即可，降低能耗，提高镀膜生产效率。

技术特征：

1.一种新型复合铜箔生产装置 ，其特征在于：它包括有放卷室（2）、第一镀膜室（12）、第二镀膜室（8）和收卷室（9）；放卷室（2）、第一镀膜室（12）、第二镀膜室（8）和收卷室（9）沿基材的输送方向依次排列；放卷室（2）与第一镀膜室（12）之间、第一镀膜室（12）与第二镀膜室（8）之间和第二镀膜室（8）与收卷室（9）之间三者均设置有气体分隔装置（4）；

2.根据权利要求1所述的一种新型复合铜箔生产装置 ，其特征在于：所述靶位为多个蒸发靶位（6）和多个磁控靶位（7）组合而成。

3.根据权利要求2所述的一种新型复合铜箔生产装置 ，其特征在于：蒸发靶位（6）的数量和磁控靶位（7）的数量均为三个。

4.根据权利要求1所述的一种新型复合铜箔生产装置 ，其特征在于：所述镀膜鼓（5）为冷却辊。

5.根据权利要求1所述的一种新型复合铜箔生产装置 ，其特征在于：放卷室（2）内设置有预处理装置（3）。

6.根据权利要求1所述的一种新型复合铜箔生产装置 ，其特征在于：所述气体分隔装置（4）包括封板（401）、第一气缸（402）、密封箱（403）和第二气缸（406）；所述封板（401）上设置有与密封箱（403）相接通的封板过薄膜槽（401a）；密封箱（403）内设置有第一密封块（404）和第二密封块（405）；所述密封箱（403）上设置有箱体过薄膜槽（403a）；第一气缸（402）一端固定在封板（401）上；第一气缸（402）另一端伸入到密封箱（403）后与第一密封块（404）固定连接；第二气缸（406）一端固定在一端固定在封板（401）上；第二气缸（406）另一端伸入到密封箱（403）后与第二密封块（405）固定连接。

技术总结
本技术涉及复合铜箔技术领域，特别涉及一种新型复合铜箔生产装置，放卷室、第一镀膜室、第二镀膜室和收卷室沿基材的输送方向依次排列；放卷室与第一镀膜室之间、第一镀膜室与第二镀膜室之间和第二镀膜室与收卷室之间三者均设置有气体分隔装置；第一镀膜室和第二镀膜室的内部均设置有单面镀膜组件；单面镀膜组件包括有镀膜鼓和多个靶位组成。在使用本技术时，实现基材的双面镀膜，提高镀膜的生产效率；在更换料卷，仅需要放卷室或者收卷室单独破真空即可，降低能耗，提高镀膜生产效率。

技术研发人员：杜成城,邱佩菲,李功军
受保护的技术使用者：广东万顺科技有限公司
技术研发日：20230711
技术公布日：2024/1/15