一种碳化硅沉积炉进气装置的制作方法

本技术涉及沉积炉，更具体地说，本技术涉及一种碳化硅沉积炉进气装置。

背景技术：

1、碳化硅是一种优良的涂层材料，具有耐磨性、耐腐蚀性以及抗氧化性等优良特性，可以为涂层基体提供有效的保护，广泛应用在各大领域。现有制备碳化硅涂层常用的方法是化学气相沉积方法，即反应气体通过进气装置进入反应室内进行化学反应，在基体表面形成所需厚度的碳化硅涂层。涂层的均匀性与气体的分布有直接关系，如何使气体在炉内进行更好的分布是解决涂层均匀性的有效措施之一。

2、专利公布号cn213739671u的实用新型专利公开了一种碳化硅沉积炉进气装置，该结构通过在进气管上端设置分气锥，使得进入反应腔室的气体得到有效分布。分气锥的形状可以根据生产需要而调节，不同的形状以及不同大小的锥度可以起到不同程度的分气作用，使得反应气体的分布更加均匀，充分利用反应气体，改善反应气体在基体表面形成的碳化硅涂层的均匀性，提高反应气体的利用效率。

3、但是该结构在实际使用时，由于该分气锥的形状不能够自动调节，需要根据使用需求进行选用不同的分气锥进行更换安装，从而不能够对直接通过对一个分气锥的位置调整，而起到不同程度的分气作用，从而在进行调整分气范围时，操作十分不便且提高了分气锥使用成本，降低了使用的实用性，因此，现提出一种碳化硅沉积炉进气装置。

技术实现思路

1、本实用新型技术方案针对于现有技术解决过于单一的技术问题，提供了显著不同于现有技术的解决方案。为了克服现有技术的上述缺陷，本实用新型提供一种碳化硅沉积炉进气装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种碳化硅沉积炉进气装置，包括进气管，进气管底端连接有螺杆，螺杆上套接有第一螺母，第一螺母顶端设置有第二螺母，第一螺母和第二螺母之间夹持有分气锥。

3、通过分别下旋螺杆上的第一螺母，上旋第二螺母，使得每个螺杆上的第一螺母和第二螺母之间产生一定距离，从而能够对分气锥进行移动，将分气锥向进气管的方向进行移动时，分气锥分出的气流距离基体表面形成的碳化硅涂层距离变远，从而使得沿着分气锥的锥面分散的气流提高了在反应腔室内的扩散范围，而分气锥向第二螺母的方向进行移动时，分气锥分出的气流距离基体表面形成的碳化硅涂层距离变近，从而使得沿着分气锥的锥面分散的气流缩短了在反应腔室内的扩散范围，从而实现单个分气锥对气流范围的调整，当分气锥的位置调整适当时，再分别旋动每个螺杆上的第一螺母和第二螺母向分气锥进行靠近，使得第一螺母进入安装槽内，对分气锥底部进行顶接，第二螺母则压接在分气锥顶面，从而在第一螺母和第二螺母的夹持下，使得分气锥固定在螺杆相应的位置上。

4、优选地，进气管上开设有三组螺孔，各螺孔内均旋插有螺杆，螺孔之间呈扇形排布，且相邻螺孔之间的夹角呈120°，以便于三个螺杆能够同步对分气锥进行支撑，提高分气锥安装的稳定性。

5、优选地，螺杆的数量设置有三组，且每组螺杆上均套接有一个第一螺母和一个第二螺母，通过每组第一螺母和第二螺母能够对螺杆上套接的分气锥的位置进行夹持固定。

6、优选地，分气锥上开设有三组插孔，三组插孔呈环形排列，且相邻的插孔之间与轴心的夹角为120°。

7、优选地，各插孔底端均配合开设有安装槽，插孔和安装槽同轴设置，以便于分气锥通过插孔与螺杆插接配合，且通过安装槽的开设，以便于对第一螺母进行隐藏，降低第一螺母对气流的阻挡。

8、优选地，各螺杆分别贯穿插接在对应的插孔内，且第二螺母压接在分气锥顶端，第一螺母压接在安装槽内，通过第一螺母和第二螺母之间的距离进行调整能够对分气锥进行夹持和松开。

9、优选地，进气管的直径与分气锥顶端直径相同，且直径尺寸为80～120mm。

10、本实用新型的技术效果和优点：

11、1、通过螺杆、第一螺母、第二螺母、分气锥、插孔和安装槽的设置，与现有技术相比，通过分气锥能够沿螺杆进行滑动，从而能够调整分气锥与进气管之间的距离，从而变相调整分气锥与基体表面形成的碳化硅涂层的距离，从而能够改变分气锥分散的气流的分散范围，且通过第一螺母和第二螺母在螺杆上进行旋动，能够对分气锥进行夹持固定，从而将分气锥固定在螺杆相应位置上，实现一个分气锥对气流分散范围的调整，操作简单，同时，避免了传统的需要对气流分散范围时需要更换不同的分气锥的情况，从而能够统一分气锥标准，降低分气锥的使用成本。

技术特征：

1.一种碳化硅沉积炉进气装置，包括进气管(1)，其特征在于：所述进气管(1)底端连接有螺杆(2)，所述螺杆(2)上套接有第一螺母(3)，所述第一螺母(3)顶端设置有第二螺母(4)，所述第一螺母(3)和第二螺母(4)之间夹持有分气锥(5)。

2.根据权利要求1所述的一种碳化硅沉积炉进气装置，其特征在于：所述进气管(1)上开设有三组螺孔(8)，各所述螺孔(8)内均旋插有螺杆(2)，所述螺孔(8)之间呈扇形排布，且相邻螺孔(8)之间的夹角呈120°。

3.根据权利要求1所述的一种碳化硅沉积炉进气装置，其特征在于：所述螺杆(2)的数量设置有三组，且每组螺杆(2)上均套接有一个第一螺母(3)和一个第二螺母(4)。

4.根据权利要求1所述的一种碳化硅沉积炉进气装置，其特征在于：所述分气锥(5)上开设有三组插孔(6)，三组插孔(6)呈环形排列，且相邻的插孔(6)之间与轴心的夹角为120°。

5.根据权利要求4所述的一种碳化硅沉积炉进气装置，其特征在于：各所述插孔(6)底端均配合开设有安装槽(7)，所述插孔(6)和安装槽(7)同轴设置。

6.根据权利要求1所述的一种碳化硅沉积炉进气装置，其特征在于：各所述螺杆(2)分别贯穿插接在对应的插孔(6)内，且第二螺母(4)压接在分气锥(5)顶端，第一螺母(3)压接在安装槽(7)内。

7.根据权利要求1所述的一种碳化硅沉积炉进气装置，其特征在于：所述进气管(1)的直径与分气锥(5)顶端直径相同，且直径尺寸为80～120mm。

技术总结
本技术公开了一种碳化硅沉积炉进气装置，具体涉及沉积炉领域，包括进气管，进气管底端连接有螺杆，螺杆上套接有第一螺母，第一螺母顶端设置有第二螺母，第一螺母和第二螺母之间夹持有分气锥，进气管上开设有三组螺孔，各螺孔内均旋插有螺杆，螺孔之间呈扇形排布，螺杆的数量设置有三组，分气锥上开设有三组插孔，三组插孔呈环形排列，各插孔底端均配合开设有安装槽。本技术具有方便对分气锥与进气管之间的距离进行调整，从而能够使分气锥向进气管进行靠近和远离，从而实现对分气锥对气流的分散范围进行调整，从而体现一个分气锥的安装即可对所需分散气流进行调整，不需进行更换，从而降低分气锥使用成本，且调节简单，操作方便的优点。

技术研发人员：赵光燮,张跃伟,姚树天
受保护的技术使用者：瑞晟鸿（山东）半导体科技有限公司
技术研发日：20230814
技术公布日：2024/3/11