清洁短路后的溅镀室高压阴极的方法和装置的制作方法

专利名称:清洁短路后的溅镀室高压阴极的方法和装置的制作方法
本发明涉及清洁电气短路的方法和装置，特别是涉及除去溅镀室靶阴极短路积物的方法和装置。
溅镀是在载体上电积镀层用的一种工艺。典型的工艺内容为往真空室内引入惰性气体，真空室内包括阴极、待镀层的载体和靶阴极，在阳极和靶阴极之间施加较高的直流电压，使惰性气体分子电离，并形成等离子体。电离的气体分子将撞击靶阴极，从而使靶阴极的原子和/或分子从其表面溅散。载体处于截获溅散的靶材料的位置，使得靶材料以附着层形式电积在其上。
美国4080281号专利披露一种溅镀装置，用来制造诸如电阻或电容电极的金属膜，在这种装置中，载体位于作为阳极的筒形笼内。一个同轴的外部筒形靶阴极围绕阳极笼，以从各方向朝阳极笼向内径向溅散。一个同轴的内部棒状靶阴极沿阳极笼纵轴放置，以从各方向朝阳极笼向外径向溅散。
美国3562140号和3632494号专利披露剃刀片镀铬溅镀装置。
溅镀设备还用于镀覆核燃料芯块。熟悉核反应堆工艺的人员知道，利用计量的可燃中子吸收剂化合初期产生的大量裂变物质，能延长核燃料组件的寿命。可燃吸收剂是吸收中子几率(或截面)高的物质(例如，二硼化锆、硼、钆、钐、铕等)，生成一些同位素，这些同位素的中子俘获截面很低，以致基本上透过中子，从而始终不再产生新中子或额外中子。可燃吸收剂抵销大量裂变物质，而延长燃料组件早期寿命。在反应堆运行过程中，可燃吸收剂的作用逐渐降低，使较长的燃料组件寿命处于相对恒定的裂变能级。燃料组件寿命长意味着更换核反应堆燃料组件次数少，更换组件是一个费钱、费时的作业。
申请人:的美国3427222号专利披露往核燃料芯块表面熔合一层可燃吸收剂物质(亦即可燃吸收体)的方法;申请人的美国5487088号和4560462号专利分别披露溅镀核燃料芯块的方法和装置。
在溅镀过程中，蓄积的吸收剂物质碎片杂散电积在非燃料芯块的组件表面，偶尔脱落到一个溅镀阴极上。这种碎片将构成电阻性导体，能使加到阴极的高压断路，并熄灭真空室中气化的中子吸收剂等离子体。
在典型的溅镀室中，所用的直流电源在大约480V可供给达17A的电流。为了激发和/或保持溅镀等离子体，要求最低电压约200V。可燃中子吸收剂(例如二硼化锆)碎片一旦造成阴极接地，各处电压就降到零达到25伏(直流)，这时阴极和地之间的电流将增高到电源供给的最大电流，亦即大约17A。虽然这种小功率足能使碎片灼烧，而且使之清晰可见，但产生足够的热来清短路则甚难实现，因为短路碎片一般既大且厚，以致难以气化。因此，在一般的溅镀室中阴极和地之间有短路碎片存在，就要使真空室停止溅镀，并清除短路碎片。因为真空室在大约30微托高真空工作，冷却溅镀装置一般需六小时之久，打开真空室，再清洗装置，再将真空室抽真空达30微托，然后再加适当电压，以激发高压溅镀等离子体。
发明的主要目的是提供最有效、最快速清除溅镀材料碎片这类短路物的方法和装置。
因此，本发明的一个方向指的是一种方法，用该法清除来自溅镀室内溅镀阴极组件的导电材料短路积物，以及用直流电源充分地激励并保持溅镀等离子体，其特点在于两个步骤(a)中断直流电源往阴极组件的供电(直流);(b)往阴极组件施加足以气化上述积物而不足以激发溅镀离子体的电能。
从高功率交流电源提供气化短路积物用的电能，但输出电压不足以激发溅镀等离子体。最好是以预定的时间提供一般足以气化短路积物用和电能，随后便恢复阴极组件的直流供电。如果发现阴极短路仍然存在，那么中断直流供电、施加气化电能、再恢复直流供电，这种操作顺序以预定的时间计数重复进行。如果短路继续存在，最好是使溅镀室停止运行，人工清除短路。
本发明的另一方面指的是一种装置，用该装置清除来自溅镀室内溅镀阴极组件的导电材料短路积物，并接入直流电源足以激发并保持溅镀室内的溅镀等离子体。其特点是能够提供足以气化短路积物而不足以激发溅镀等离子体的辅助电源;以及往上述阴极组件交替接入直流电源和辅助电源的装置。
连接装置包括有开关装置用于开-关阴极组件方向和直流电源、辅助电源方向的通路;控制装置，用于在阴极组件短路时，起动开关装置造成中断阴极组件的直流电源供电而接通辅助电源;在阴极组件短路消失时，则断开阴极组件的辅助电源而再接通直流电源供电。开关装置可以是继电器开关，配用的控制装置包括能有效起动相应继电器开关的选择开关。在某些应用中，以最优方式起动开关装置的控制装置最好包括连续监测某些短路响应参数(例如，阴极组件两端电压、直流电源供给的电流)，并根据表示有无阴极组件短路的监测量自动起动开关装置的自动系统。如果完成上述开关顺序后，监测表示仍存在短路情况，那么控制系统将使之重复进行相同的开关顺序;如果重复进行该开关顺序到一预定次数后仍有短路情况存在，则最终停止溅镀室工作并/或发出告警信号。
对本发明的较佳实施方案，以实例结合附图阐述于后图1为本发明应用的溅镀装置的图解示意图;
图2与图1相同，但表示该装置的鼓轮从其溅镀室中撤回的情况;
图3为沿图1的剖线Ⅲ-Ⅲ的剖视图;
图4为溅镀室打开后下部的前视透视图，其中包含两个固定的下部靶阴极组件;
图5(a)-(d)为部分剖视图，说明设置在靶阴极组件之一的阴极和接地外壳之间间隙的四个不同方案细部情况;
图6为溅镀装置阴极组件供电电源的系统图;
图7为控制图6所示电源的程序控制系统简图。
现参照附图，特别是参照图1到图5，对以总参考号10所表示的溅镀装置结合核燃料芯块进行阐述。该装置10是属于上述申请人的美国专利4560462中所详述的类型，其中包括有一个真空室和一个基本上为园柱型骨架的鼓轮14，该鼓轮14由一台电动机15驱动而绕其纵轴缓慢旋转，并且是气密地密封在该真空室12中，图1说明鼓轮14正插入在真空小室12中的装置，图2则表示鼓轮从真空小空12中撤回的情况。鼓轮14的纵轴通常可以定位为水平向，但仍以稍倾斜些较好，最好如图3所示，将许多芯块16可拆卸地沿着鼓轮14的周围布设。该溅镀装置10包括有一个溅镀机24，它至少具有一套固定的上部靶阴极26和至少有一套固定和下部靶阴极28。靶阴极26和28中每个极包含多个靶阴极瓦30(图4)，它们最好由一种能被溅镀到核燃料芯块22上形成镀层的材料构成。控制台36(图1)用作控制鼓轮电动机15和溅镀机24。
通常，每个由裂变物质(如二氧化铀)构成的燃料芯块22(图3)可为正园柱体。并且长约13.5mm、直径8.2mm、重约7.8g。溅镀程序的目的是为了将芯块22覆盖上一层易燃的吸收剂，例如一层厚0.01mm的二硼化锆(ZrB2)镀层。
如图3所示的每个夹板16系由两个一般矩形的屏栅部件18和20组成，它们彼此分开且面对面地布设，从而形成一个装设芯块的空间，以单层较好，这样可避免诸如芯块碎裂、芯块镀层不均匀之类的问题。夹板16以用不锈钢制做较好，这不至于坚固地附着溅镀的二硼化锆。
采用具有鼓轮14的溅镀机24对芯块22进行溅镀，包括以夹板16和溅镀室12作为一个阴极，并具有上部溅镀或靶阴极组件52，用以支撑该固定的上部靶阴极26，以便在鼓轮14被送入小室12中时，使上部靶阴极26被置于鼓轮14内贴近其内周，并在纵轴(旋转轴)之上。固定的上部靶阴极26的面一般朝上，以径向来说是朝外。溅镀机24还包括下部溅镀阴极或靶阴极组件54，用以支撑固定的下部靶阴极28，以便当鼓轮14被送入室12中时，使该下部靶阴极28处于鼓轮外面靠近其外周，并在其纵轴以下，而且下部靶阴极的面一般朝上及径向来说是朝内，在每个阴极组件52或54上的阴极瓦30被包围它的金属夹持带32(图4和图5a-d)固定就位。
在运行期间，当鼓轮14旋转时，涂敷材料即被溅镀到燃料芯块22上，它们是分别在包含有燃料芯块的夹板16每次交替地走行到上部靶阴极26和下部靶阴极28对面的时候溅镀上的。虽然溅镀也能只采用单个上部阴极26和单个下部阴极28来实现，但最好是用多个上部阴极和多个下部阴极，如这里所讲的，这样以求提高溅镀效率。
在典型的溅镀装置中，每对靶阴极的二硼化锆溅镀率经28到30小时，最终溅镀厚度约为10microns(微米)，系用矩形靶阴极，每个尺寸为68.5×12.7cm，并应用4列、6行二硼化锆矩形瓦，每个瓦的尺寸为11.4×3.2cm，厚为3.75mm。在每个阴极26或28上的各个瓦30(图4)是相同的，并因此可以互换。
在真空室12内的每个上部和下部阴极组件52、54、包括有一个铜底托34(图5)，它由液体进行冷却并支托着阴极瓦30，在阴极下面固定着一块永久磁铁(未示出)，处于很稀薄的氩气氛中的阴极组件52、54与地(阳极)之间施加直流高压而造成等离子体时，该磁铁便提供一种引导力。如前所述包含有芯块22的夹板16是接地的。
每个阴极组件52和54包括有一个金属接地屏蔽56，该屏蔽56与靶阴极26或28之间通过间隙58构成电绝缘。在图4、5a、5b和5d中，示出该接地屏蔽56包围着底托34、瓦30和靶阴极的瓦夹持带32，以及如图4、5a和5b中所示的间隙58开在靶阴极的顶部、也即如图4和5a所示开口在一个方向上，沿该方向(即向上)从瓦30的曝露面溅镀镀层材料，在图5b中，开口朝向一侧延伸到瓦30曝露面中部，这两种布置都大大存在靶阴极或溅镀阴极被溅镀材料-如二硼化锆碎片造成短路的危险，这些碎片落在接地屏蔽56和瓦的夹持带32(图4或5a)之间，或接地屏蔽与瓦30表层上部(图5b)，即造成上述短路。
在图5C中，接地屏蔽与分隔它与对电极之间的间隙58被设置在对电极的下面，瓦夹持带32延长，并朝相反方向弯曲，然后在侧面沿着边部延伸，并有一部分伸到靶阴极底下，并在这里与接地屏蔽56保持一定距离，从而使后者与夹持带32，以至阴极在结构上分开，在电气上绝缘，由于分开该夹持带32与接地屏蔽56的空隙是在靶阴极的下面，而且是位于与支托溅镀瓦30相反面的边上，所以就不致有散落的溅镀碎片桥接在该空隙，而造成阴极接地。
示于图5d的布置具有类似的优点，因为瓦夹持带32的一部分向侧外延伸而形成一个突沿悬盖在接地屏蔽56和它与靶阴极的间隙58之上，从而保护了该间隙58不致有溅镀材料的散落碎片掉到靶阴极上。
如前所述，溅镀材料碎片一旦落到靶阴极上，使该阴极上，使该阴极与的接地屏蔽间的空隙桥接，即造成靶阴极短路，从而气化的溅镀材料(如二硼化锆)的等离子体息灭，只是除掉造成短路的碎片之后，等离子体才能够再激发。同样地如上所述，本发明提供一种使短路积物(例如溅镀材料的碎片)能够被有效地清除，而不破坏溅镀装置的真空室中的真空。
广泛地说，本发明的构思在于利用一个辅助电源瞬时施加电能，足以快速地蒸发短路造成的积物碎片而不致激发溅镀等离子体。
本发明的实施方案将以图6所示的电路接线来说明，其中包括有一个直源电源60;一个辅助电源72;以及一个控制装置90，用于使电能或从直流电源60加到靶阴极组件上，以便激发和/或维持溅镀等离子体，或从辅助电源72加到该阴极组件上，以便蒸发造成短路的碎片及类似的积物，这些即指在溅镀室中桥接在阴极组件之一的靶阴极和接地屏蔽之间气隙中的物质。更详细地说，示于图6中的直流电源60与交流电源62，提供的输出电压高到足能激发和保持溅镀等离子体。
对于一台典型的溅镀设备，直流电源60将从440V的交流电源产生负600V直流输出，当然也能应用120V或222V市用交流电源。一般来说，激发和维持溅镀等离子体至少需要负220V电压。
电源60的正输出端64接到接地屏蔽56上，该屏蔽56是连接到溅镀装置10的公共阴极上的;其负输出端66通过继电器操作的开关68和70接到装置10的阴极组件52和54之一的上部或下部，每个阴极组件单独地激励(后面将进一步阐述)，这样以便在一个阴极电源断路时不致影响其它的阴极组件，并且接地故障发生时也容易查出和消除。该继电器操作的开关68在常态时闭路，而继电器操作的开关20在常态时开路。这种开关的运作将在下面叙述。显然，这些继电开关都可以用手动，电子或机械开关代替。
按照本发明，每个阴极组件52和54也可通过一个转换装置而连接到一个大功率低电压交流电源72上。在所述的实施方案中，交流电源72包括有一台降压隔离变压器74，此变压器通过一个继电器开关76接到电源62。同时，可以很方便地从同一电源去激励直流电源60和交流电源72，如果必要的话，这两个电源60和72也可以用单独电源来激励。
最好是将诸如可变电阻78之类的器件并联隔离变压器74的次级绕组，以吸收和抑制瞬态电压和峰值电压。该变压器74最好有一个60V交流输出(在10KVA时)绕组，在电压低到足能蒸发碎片而不产生不可控的电离情况下，该绕组能提供足够的功率。如上解释，因为需要约200V的电压才能激发或维持等离子体，故交流电源最好被限定在峰值输出约100V，以保证芯块完整。最佳情况是，一对继电器操作的开关80和82接在变压器次级和阴极接头66之间，而另一对继电器操作的开关84和86接在变压器次级和地之间。利用这组串联开关，保护变压器74免受来自直流电源的高压瞬变作用。在所述的实施方案中，开关80和84常态为开路，开关82和86常态为闭路。这些开关的动作在下文叙述。
最好设置一个或多个钨灯88构成的镇流负荷。对于一个典型的装置来讲，该镇流负荷应能消耗约2.0到6.0KW功率，每当交流电源通路，该镇流负荷就与可能造成阴极组件短路的碎片串联。在正常应用中，钨丝加热到限制电流通过电路之前，该碎片即被蒸发。如果镇流器为一种照明灯，就可以附带用作可见的指示灯，表示阴极组件被那些不象二硼化锆碎片易被气化的物质造成短路，例如被散落的金属或类似物造成短路。
最好是将直流和交流电源60和72分别由安全连锁系统90控制，连接阴极组件，该连锁系统90控制上述的继电器操作的开关。该安全连锁系统90的电源为交流电源较好，例如120V市用交流线路通过一个三位选择开关92，或相名器件接入，选择开关有一个位置“B”用于断开电源，一个位置“A”为“运行”位置，以保持直流电源接在阴极组件上，还有一个位置“C”，用来清除短路，在此位置，交流电源一旦瞬时(5-15秒)通路，而直流电源就与阴极组件断路。开关位置“C”可以是一个按钮开关或定时开关，它只按予定时间间隔动作。在开关位置“A”，电流通过常态闭路的开关96送到继电器94′而在开关位置“C”时，电流通过常态开路的开关100送到继电器98，继电器94受激励时，断开开关100、82和86，同时接通开关70，借此造成阴极端66只从直流电源60引入电源。当继电器94失励时，开关100、82、86和70恢复到常态位置。当继电器98受激励时，断开开关96和98，同时接通开关76、80和84，借此使加到阴极端66的电源只从来自交流电源72，并同时从阴极端66上断开直流电源60。
隔离变压器74选择成能在约60V交流条件下连续提供电流150-200A，这一功率足能蒸发任意想象得到的二硼化锆(ZrB2)碎片。对于另外的应用，将有其本身的不同要求，因为施加如此低的电压，即60V，它将不会激发等离子体，从而使整体芯块的纯度得以保证，在这方面，峰值交流电压应限制到一个这样的数值，即当碎片被蒸发时，该电压值不致在阴极和地之间造成电弧，以及由此而导致溅镀失控的危险。
应当指出，虽然上述的继电器控制开关的设置对许多应用是较好的，但是其它能证证直流电源从阴极端66断开，而将交流电源72同时对其接通，并且能保护溅镀设备不受电气拢动，这样的设置也属本发明的范畴。
短路碎片一经被蒸发，则流到阴极的交流电流即自动停止，而且即在此工作点上安全地转回到正常直流电源上运行，同时再激发等离子体，它按照预定的电压波形运行。
对上述实施方案叙述的仅为一个直流电源60以便简单明了，实际上可以采用多个高压直流电源60去激励阴极组件52和54，在这种多个直流电源和(或)阴极组件的情况中，可以采用一个手动或电动操作的选择开关，例如开关102，以便选择一路大电流交流电源，例如电源72，可选地接到需要清除碎片造成短路的阴极组件上。虽然一个足够大的直径电源能用作激励多个阴极组件，但是仍以每个阴极组件各用单独的直流电源60为好，这样以便在任一故障事件中，及至任一阴极组件或其电源故障时，其余阴极组件继续溅镀工作。
应用图6的电源，溅镀装置的操作人员将以手动通过对一个或多个开关92的操作而接通或断开全部所需的电源连接，这样一种安排适用于辅助的碎片蒸发系统，这种系统不要求经常运用。
对由于阴极组件的构形以致期望经常地清除与碎片关连的短路，或应用了特多的阴极组件的情况，则最好采用如图7所示的自动系统，其中各种系统参数信号a、b、c、d连接到一台输入/输出设备110，例如一个Keithley或一个Acromag数据收集装置。输入“a”可以代表在阴极端66(图6)和地之间的瞬时电压;输入“b”可以代表流过阴极电路的瞬时电流;输入“C”可代表分时计，如果程序控制器具有内部编程的时钟，则可不需要单独的分时计;输入“d”代表普通的残余气体分析器(RGA)的输出，它能检测出低含量的各种气体。特别是，RGA应能敏感到氮的存在，它将指示出真空中的真空已被破坏，或出现水蒸汽时将指示出有漏水情况，例如从阴极组件的冷却系统(未示出)中漏水。
一台可编程管理计算机112，例如以一台IBM PC/XT用作一个系统控制器来为控制溅镀室状态(溅镀率、溅镀时间、施加的电压等)以本领域技术人员熟悉的方式提供指令。由程序控制器114-如西屋公司的700B Numalogic程序控制器来监视系统状态，该控制器最好有三个逻辑输出，即一个输出O1指示正常运行，当O1出现时则控制该电源继续进行溅镀程序;一个输出为O2指示一个正输出，由RGA输入“d”，当它出现时将立即关断该溅镀程序，并最好发出警报或其它指示，以警告运行人员出现了泄露;以及一个输出O3指示短路状态，当出现时将给出一短路清除程序，见下述。
输出O3是按照予定的短路标准被触发的。对于一个典型的溅镀过程，短路条件被定义为从阴极端66到地的电压降低于约25V，而且阴极电流超过12-15A，这里直流电源60的最大电流为17A。因为这样的状态可能会由于与碎片造成短路无关的各种原因(例如在起弧期间)引起短路时地出现，如果这种状态出现则至少在予定时间周期-如1秒，输出O3才被触发，这些被编程到程序控制器114中。
在发生阴极组件短接，也即在出现输出为O3时，系统112被预编程去中断发生短接的阴极组件的电流，在经过1-5秒的延时(防止开关重燃弧)后，电源才能被转接，在一种类似于前述关于安全连锁90的情况下，将交流电源72连接到被短接的阴极组件。然后交流电源72经过一定时间的激励，例如约5-15秒以便使造成短接的碎片蒸发，同时对信息输入a、b、c、d和管理计算机指令进行监控。
在预定的时间间隔过去后，交流电源72失励，在防止开关重燃弧的等待时间1-5秒暂停过后，直流电源60与阴极端66之间重新接通，并且交流电源72与阴极端60断开，直流电源60是按照予定的电压波形接入的，该波形由系统控制器计算机112控制，以及阴极组件状态被监视。如果在阴极组件上存在的状态是可接受的，则正常运行继续进行。如果阴极组件仍不正常，则指出仍有短路存在，则重复上述程序，但只重复有限次数。如经3-5次尝试后，例如短路状态的保留，则系统控制器即关断该溅镀装置，并最好提供一个需要修理的指示。由于一个固体的金属构造成阴极组件短接，则往往造成“坚固短接”(stubborn short)，这种情况虽经几次试图之后短接是不能消除的。
如前所述，仅通过一例对较佳实施方案进行了表示和描述，在本发明的启示下有可能进行修改，包括用电子开关接线来代替所述的继电器操作的开关，以及用单一总目标计算机来代替图7所示的计算机112和114。尤其是，能被插接到该阴极电路的任意合适的电源以及能满足本发明所提的有效使碎片蒸发的低电压大电流源都可以应用。
权利要求
1.一种清除导电材料构成的短路积物的方法，由布置在一个溅镀室中并受直流电源激励的溅镀阴极组件进行，该直流电源足能使溅镀阴极组件建立和维持溅镀等离子体，其特征为下列步骤(a)遮断从直流电流供给该阴极组件的直流功率，(b)对阴极组件提供足能蒸发所述的积物和足能建立并维持溅镀等离子体的电源。
2.如权利要求
1所述的方法，其特征为所述的电能是由具有足能建立溅镀等离子体所需输出电压的大功率交流电源提供。
3.如权利要求
1或2的方法，其特征在于步骤(b)是连续地进行一预定的时间间隔，此时间间隔正常足能蒸发掉所述的积物，然后进行步骤(c)恢复从直流电源供到该阴极组件上的功率。
4.如权利要求
3的方法，其特征为监测该等离子体指示出阴极组件的短路，并且在被监测的等离子体在步骤(c)期间仍表明该阴极组件有短路存在时就重复进行步骤(a)和(b)。
5.按照权利要求
4的方法，其特征为，步骤(a)、(b)和(c)被重复一预定的次数，如果对该被监测的等离子体在重复所述步骤(a)、(b)和(c)一定次数后仍表明该阴极组件有短路存在，随后就停止该溅镀室运行。
6.如权利要求
3、4或5所述的方法，其特征为，第一次中断被导致在步骤(a)和(b)之间，以及第二次中断被导致在步骤(b)和(c)之间。
7.如权利要求
3、4、5或6所述的方法，其特征在于步骤(c)中包含有按照预定电压波形使所述的直流电源斜升。
8.一台清除导电材料构成的短路积物的装置，由布置在一个溅镀室中并与直流电源相接的溅镀阴极组件进行，该直流电源足能建立和维持处在溅镀室中的溅镀等离子体，其特征为设有一个辅助电源(72)，它能提供足以蒸发掉该短路积物和足以建立等离子体所需的电能;以及交替地对所述的阴极组件(52或54)连接直流电源和辅助电源(60和72)的装置(68-86、90或110-114)。
9.如权利要求
8的一个装置，其特征为，所述的连接电源用的装置包括第一开关装置(68、70)，连接在直流电源(60)和阴极组件(52或54)之间;第二开关装置(80-86)，连接在辅助电源(72)和阴极组件之间;以及控制装置(90或110-114)，用以按一定的方式操作所述的第一和第二开关装置，该方式为当阴极组件变成短路时，中断从直流电源(60)供到阴极组件(52;54)的功率，并将其连接到所述的辅助电源(72);然后当在阴极组件上的短路已经消失时，断开辅助电源(72)与阴极组件的连接，并恢复阴极组件从直流电源(60)的供电。
10.如权利要求
9的一个装置，其特征为，所述的第一和第二开关装置(68，70;80-86)是继电器操作的开关，以及所述的控制装置(90)包括有一个选择开关(90)，可以选择地操作到有效地驱动相关的继电器操作开关。
11.如权利要求
9的一个装置，其特征为，所述的控制装置(110-114)包括输入和输出装置(110)，用以监测电压和电流状态反应阴极组件上有无短路存在;以及一个程序控制器(114)，用于响应所述的输入和输出装置(110)的输出而自动地以所述的方式驱动第一和第二开关装置。
12.如权利要求
8、9、10或11的一个装置，其特征为，设有短路指示装置(88)，用以指示该阴极组件的短路持续超过一预定的时间间隔。
13.如权利要求
8、9、10、11或12的一个装置，其特征为，所述的辅助电源(72)包括一个大功率交流电源，它提供的输出电压足以能建立溅镀等离子体。
14.如权利要求
13的一个装置，其特征在于，所述的大功率交流电源(72)包括有一个降压变压器(74)，它具有一个适于接到阴极组件(52或54)上的次级绕组，以对其供给所需的电能。
15.如权利要求
14的一个装置，其特征为，所述的次级绕组串接限制电流的镇流装置(88)，它在所述大功率交流电源(72)连接到该阴极组件经过预定的后生效，所述的延时大于正常情况下有效蒸发造成短路的积物所要求的时间间隔。
16.如权利要求
8到15中任一项的一个装置，其中所述的溅镀室包含有多个所述的阴极组件，其特征为，所述的辅助电源(72)连接有选线开关装置(102)，用以使辅助电源(72)可选地接到溅镀室(12)中的任一个阴极组件(52，54)上。
专利摘要
本发明涉及清除溅镀室内溅镀阴极上的短路积物，在正常时由DC电源提供足能产生和维持溅镀等离子体的电能，清除短路积物时，首先中断接到被短路的阴极上的该DC电源(60)，然后用辅助电源(72)供电，该电能足能蒸发该短路积物，但不足以激励溅镀等离子体。造成短路的积物被清除后，辅助电源被切断，恢复接通DC电源。
文档编号G21C3/20GK86105616SQ86105616
公开日1987年4月22日 申请日期1986年7月26日
发明者克伦斯·加里·费弗尔 申请人:西屋电气公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan