外延生长设备的制作方法

技术特征：

技术总结
本发明提供一种外延生长设备，所述外延生长设备包括一反应室，所述反应室的内表面设有反射层，所述反射层上设有保护层。本发明提供的外延生长设备，通过在反应室内表面的反射层上设置保护层，从而延缓所述反射层的表面在高温下的形变，因此延长了所述反射层的使用寿命，降低了生产成本，提高了生产效率。

技术研发人员：刘源;保罗·邦凡蒂
受保护的技术使用者：上海新昇半导体科技有限公司
技术研发日：2016.05.25
技术公布日：2017.12.05