一种低透低反双银LOW‑E玻璃的制作方法

文档序号:12549322阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种低透低反双银LOW-E玻璃,包括玻璃基层(1),其特征是所述玻璃基层(1)上依次覆盖有第一介质层(2)、第二介质层(3)、第三介质层(4)、第一功能层(5)、第一阻挡层(6)、中间干涉层(7)、平整层(8)、第二功能层(9)、第二阻挡层(10)和第四介质层(11)。

2.根据权利要求1所述的低透低反双银LOW-E玻璃,其特征是所述第一介质层(2)为Si3N4层,该第一介质层(2)的厚度为10nm~100nm。

3.根据权利要求1所述的低透低反双银LOW-E玻璃,其特征是所述第二介质层(3)为TiO2层,该第二介质层(3)的厚度为10nm~100nm。

4.根据权利要求1所述的低透低反双银LOW-E玻璃,其特征是所述第三介质层(4)为AZO层,该第三介质层(4)的厚度为5nm~30nm。

5.根据权利要求1所述的低透低反双银LOW-E玻璃,其特征是所述第一功能层(5)为Ag层,该第一功能层(5)的厚度为5nm~15nm。

6.根据权利要求1所述的低透低反双银LOW-E玻璃,其特征是所述第一阻挡层(6)为NiCr层,该第一阻挡层(6)的厚度为2nm~10nm。

7.根据权利要求1所述的低透低反双银LOW-E玻璃,其特征是所述中间干涉层(7)为ZnSn层,该中间干涉层(7)的厚度为10nm~100nm。

8.根据权利要求1所述的低透低反双银LOW-E玻璃,其特征是所述平整层(8)为AZO层,该平整层(8)的厚度为5nm~30nm;第二功能层(9)为Ag层,该第二功能层(9)的厚度为5nm~15nm;第二阻挡层(10)为NiCr层,该第二阻挡层(10)的厚度为2nm~10nm。

9.根据权利要求1至8任一所述的低透低反双银LOW-E玻璃,其特征是所述第四介质层(11)为Si3N4层,该第四介质层(11)的厚度为10nm~100nm。

当前第2页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1