技术总结
本实用新型公开了一种制备多晶硅的还原系统，包括底座，原料供应系统，原料混配装置和还原炉；原料供应系统包括氢气储罐和三氯氢硅储罐，原料混配装置包括换热箱，气压平衡箱，气体混合器和气体配比装置；换热箱包括换热箱体和换热箱盖；气压平衡箱包括平衡箱体，平衡箱盖，隔板和若干连接柱；气体混合器包括混合器壳体和混合叶片；气体配比装置包括调节杆、控制齿轮、氢气流量控制板、三氯氢硅流量控制板和直齿条；还原炉的炉壁上设有冷媒进管，冷媒出管和温度计。本实用新型实现对混合气体的快速、精确的摩尔配比控制及调节，同时充分利用无定型硅的特性，在还原炉内壁附着一层无定型硅，起到保温的作用，大大降低了整个生产过程中的能耗。
技术研发人员：冯谨;杨刊;郝福涛
受保护的技术使用者：河北东明中硅科技有限公司
技术研发日：2017.12.14
技术公布日：2018.07.31