本发明涉及陶瓷制品领域，更具体地说是涉及一种陶瓷盘子。
背景技术：
：陶瓷盘是日常生活中不可或缺的物品，用途十分广泛，分为菜盘、果盘、汤盘等，均为硅酸盐制品，许多陶瓷盘因选材和烧制方法差别，其表面细腻程度，光洁度，稳定性存在瑕疵，本发明通过严格的选材和烧制方式，制作出盘面细腻光泽，稳定性好的陶瓷盘。技术实现要素：本发明的目的在于提供盘面细腻光泽，稳定性好的一种陶瓷盘子。为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种陶瓷盘子，其特征在于，坯泥原料包括：二氧化硅65-70%、氧化铝20-22%、氧化铁0-1%、二氧化钛0-1%、氧化钾2-3%、氧化钠0-1%，及釉料：75-80%、氧化铝11-13%、氧化铁0-1%、二氧化钛0-1%、氧化钾4-4.5%、氧化钠0-1%。优选的，在上述的一种陶瓷盘子中，具体的操作流程包括如下步骤:a）原料球磨：将原料过筛，泥料＜5cm，球磨比例料：球：水=1:（1.5-2.5）：（0.8-1.2），球磨时间＜20小时/磨（30吨磨）；釉料过8-12目筛，球磨比例料：球：水=1:（1.5-2.5）：（0.5-0.6），球磨时间＜35小时/磨（5吨磨）得到备用原料一；b）除铁筛选：对上述备用料一进行除铁，磁通强度＞8000高斯，过≥200目筛，得到备用料二；c）坯泥精炼：对步骤b）中得到的备用料二控制水分23-24.5%，精炼四次，得到备用料三；d）制模：将石膏粉过筛，细度＞100目，水：石膏=1：（1.8-2）（滚压模），1：1.1-1.2（注浆模）；经初凝、终凝、修模，干燥完成，干燥温度＜55°；e）制坯：对步骤c）中得到的备用料三通过滚压机、修坯机制坯，滚压机主轴转速：450-550（r/min），滚头转速：300-380（r/min），转速比：主轴：滚头=1：（0.5-0.7），修坯机转速：350-500（r/min），修坯水分：＜2%，釉层厚度：0.2-0.4mm；f）烧制：对步骤e）中的得到的泥坯进行烧制，遂道窑温度控制：烧一：氧化温度880-900℃、临界温度980-1040℃、1200-1220℃、烧成温度1320-1360℃、烧成气氛：还原；烧二：氧化温度810-860℃、临界温度990-1040℃、1230-1250℃、烧成温度1320-1360℃、烧成气氛：还原。优选的，在上述的一种陶瓷盘子中，所述制备过程中，釉水比重1.68-1.70g/ml，浓度60-65°be（淋釉），50-55°be（浸釉）。优选的，在上述的一种陶瓷盘子中，所述制备过程中，挑选煤炭：发热量＞5000千卡/公斤，挥发份＞25%，灰份＜30%，固定碳＞42%，含硫＜1%，结渣：中等。经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本发明的一种陶瓷盘子，其特征在于，坯泥原料包括：二氧化硅65-70%、氧化铝20-22%、氧化铁0-1%、二氧化钛0-1%、氧化钾2-3%、氧化钠0-1%，及釉料：75-80%、氧化铝11-13%、氧化铁0-1%、二氧化钛0-1%、氧化钾4-4.5%、氧化钠0-1%；制备过程分为原料球磨、除铁过筛，坯泥精炼，制模，制盘坯，上釉烧制等。选料精细，制备严苛，产品铅镉溶出量符合多国标准，使用安全。具体实施方式本发明实施例提供一种盘面细腻光泽，稳定性好的一种陶瓷盘子。请参阅本发明公开的一种陶瓷盘子，其主要原料为：坯泥原料包括：二氧化硅65-70%、氧化铝20-22%、氧化铁0-1%、二氧化钛0-1%、氧化钾2-3%、氧化钠0-1%，及釉料：75-80%、氧化铝11-13%、氧化铁0-1%、二氧化钛0-1%、氧化钾4-4.5%、氧化钠0-1%；为了进一步优化上述技术方案，具体的操作流程包括如下步骤:a）原料球磨：将原料过筛，泥料＜5cm，球磨比例料：球：水=1:（1.5-2.5）：（0.8-1.2），球磨时间＜20小时/磨（30吨磨）；釉料过8-12目筛，球磨比例料：球：水=1:（1.5-2.5）：（0.5-0.6），球磨时间＜35小时/磨（5吨磨）得到备用原料一；b）除铁筛选：对上述备用料一进行除铁，磁通强度＞8000高斯，过≥200目筛，得到备用料二；c）坯泥精炼：对步骤b）中得到的备用料二控制水分23-24.5%，精炼四次，得到备用料三；d）制模：将石膏粉过筛，细度＞100目，水：石膏=1：（1.8-2）（滚压模），1：1.1-1.2（注浆模）；经初凝、终凝、修模，干燥完成，干燥温度＜55°；e）制坯：对步骤c）中得到的备用料三通过滚压机、修坯机制坯，滚压机主轴转速：450-550（r/min），滚头转速：300-380（r/min），转速比：主轴：滚头=1：（0.5-0.7），修坯机转速：350-500（r/min），修坯水分：＜2%，釉层厚度：0.2-0.4mm；f）烧制：对步骤e）中的得到的泥坯进行烧制，遂道窑温度控制：烧一：氧化温度880-900℃、临界温度980-1040℃、1200-1220℃、烧成温度1320-1360℃、烧成气氛：还原；烧二：氧化温度810-860℃、临界温度990-1040℃、1230-1250℃、烧成温度1320-1360℃、烧成气氛：还原。为了进一步优化上述技术方案，所述制备过程中，釉水比重1.68-1.70g/ml，浓度60-65°be（淋釉），50-55°be（浸釉）。为了进一步优化上述技术方案，所述制备过程中，挑选煤炭：发热量＞5000千卡/公斤，挥发份＞25%，灰份＜30%，固定碳＞42%，含硫＜1%，结渣：中等。对上述具体实施例制备的产品做铅镉溶出量检测，与gb12651—2003标准要求铅镉溶出量标准对比，结果如下：铅含量镉含量对上述具体实施例制备的产品做铅镉溶出量检测，与美国fda标准要求铅镉溶出量标准对比，结果如下：铅含量镉含量对上述具体实施例制备的产品做铅镉溶出量检测，与美国加州65规定（califomiaprop.652002）标准要求铅镉溶出量标准对比，结果如下：铅含量类型运算基数加州65规定公司扁平器皿六件平均0.2260.225镉含量类型运算基数加州65规定公司扁平器皿六件平均3.1643.163物理性能满足国标gb3298-82热稳定性180℃-20℃热交换一次无裂纹；吸水率＜0.5%；满足国标gb919-93要求白度≥60度、光泽度≥80度。产品外观质量标准按国标gb/t3532-1995并结合企业《白瓷分级内控标准》执行。由以上数据标准可知，本产品安全性高，各项指标均符合标准，细腻光泽，稳定性好。本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。当前第1页12