青铜无光窑变釉及其制备方法与流程

文档序号:16671438发布日期:2019-01-18 23:36阅读:426来源:国知局

本发明涉及一种青铜无光窑变釉及其制备方法。



背景技术:

目前,在瓷器行业中,瓷坯的造型是优质产品的基础,釉料的调配使瓷器更加绚丽多彩。同一造型的瓷坯,往往因釉面的不同,而对消费者的视觉产生不同的影响,那种仿青竹色体的釉面能使瓷器给人一种回归大自然的感觉,这也是当今瓷器行业的一种时尚。



技术实现要素:

本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷,提供一种青铜无光窑变釉,它的釉面呈现仿青竹色,给人一种回归大自然的感觉。

为了解决上述技术问题,本发明的技术方案是:一种青铜无光窑变釉,它所使用的釉料中含有的组分及各组分的质量份如下:

钾长石:20-30份;

钠长石:10-20份;

方解石:5-10份;

碳酸钡:5-10份;

石英:5-10份;

粘土:5-15份;

氧化锌:3-6份;

钛白粉:5-10份;

碳酸锶:5-10份;

氧化铜:3-6份。

本发明还提供了一种青铜无光窑变釉的制备方法,方法的步骤中含有:

s1:按照各组分及各组分质量份备料;

s2:按照料:球:水的质量比=1:1:1.6,湿法球磨8~12小时,球磨后的釉料过325目筛后,调制成比重为1.4~1.6的釉浆待用;

s3:取干净的坯体,采用釉浆直接在坯体上浸釉或泡釉或淋釉或喷釉,然后在1250℃-1280℃的温度环境下烧制而成。

采用了上述技术方案后,本发明的青铜无光窑变釉,它的釉面呈现仿青竹色,给人一种回归大自然的感觉。

具体实施方式

为了使本发明的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例,对本发明作进一步详细的说明。

实施例一

一种青铜无光窑变釉,它所使用的釉料中含有的组分及各组分的质量份如下:

钾长石:20份;

钠长石:10份;

方解石:5份;

碳酸钡:5份;

石英:5份;

粘土:5份;

氧化锌:3份;

钛白粉:5份;

碳酸锶:5份;

氧化铜:3份。

该青铜无光窑变釉的制备方法,方法的步骤中含有:

s1:按照各组分及各组分质量份备料;

s2:按照料:球:水的质量比=1:1:1.6,湿法球磨8小时,球磨后的釉料过325目筛后,调制成比重为1.4~1.6的釉浆待用;

s3:取干净的坯体,采用釉浆直接在坯体上浸釉或泡釉或淋釉或喷釉,然后在1250℃-1280℃的温度环境下烧制而成。

实施例二

一种青铜无光窑变釉,它所使用的釉料中含有的组分及各组分的质量份如下:

钾长石:30份;

钠长石:20份;

方解石:10份;

碳酸钡:10份;

石英:10份;

粘土:15份;

氧化锌:6份;

钛白粉:10份;

碳酸锶:10份;

氧化铜:6份。

该青铜无光窑变釉的制备方法,方法的步骤中含有:

s1:按照各组分及各组分质量份备料;

s2:按照料:球:水的质量比=1:1:1.6,湿法球磨12小时,球磨后的釉料过325目筛后,调制成比重为1.4~1.6的釉浆待用;

s3:取干净的坯体,采用釉浆直接在坯体上浸釉或泡釉或淋釉或喷釉,然后在1250℃-1280℃的温度环境下烧制而成。

实施例三

一种青铜无光窑变釉,它所使用的釉料中含有的组分及各组分的质量份如下:

钾长石:25份;

钠长石:15份;

方解石:7份;

碳酸钡:7份;

石英:7份;

粘土:10份;

氧化锌:4份;

钛白粉:8份;

碳酸锶:8份;

氧化铜:5份。

该青铜无光窑变釉的制备方法,方法的步骤中含有:

s1:按照各组分及各组分质量份备料;

s2:按照料:球:水的质量比=1:1:1.6,湿法球磨10小时,球磨后的釉料过325目筛后,调制成比重为1.4~1.6的釉浆待用;

s3:取干净的坯体,采用釉浆直接在坯体上浸釉或泡釉或淋釉或喷釉,然后在1250℃-1280℃的温度环境下烧制而成。

以上三个实施例制备得到的青铜无光窑变釉经过观测发现,其釉面均能呈现仿青竹色,符合设计要求。

以上所述的具体实施例,对本发明解决的技术问题、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种青铜无光窑变釉及其制备方法,青铜无光窑变釉所使用的釉料中含有的组分及各组分的质量份如下:钾长石:20‑30份;钠长石:10‑20份;方解石:5‑10份;碳酸钡:5‑10份;石英:5‑10份;粘土:5‑15份;氧化锌:3‑6份;钛白粉:5‑10份;碳酸锶:5‑10份;氧化铜:3‑6份。本发明的釉面呈现仿青竹色,给人一种回归大自然的感觉。

技术研发人员:姚威;谭建华;杨三喜;罗建平
受保护的技术使用者:湖南高峰陶瓷制造有限公司
技术研发日:2018.09.13
技术公布日:2019.01.18
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