本发明涉及用于tft玻璃基板蚀刻组合物。
背景技术
在现有技术中，为满足制作超薄tft(thinfilmtransistor，薄膜晶体管)显示屏的要求，需要对现有规格玻璃基板进行薄化处理。常规的氢氟酸作为蚀刻液的蚀刻方式会产生局部缺陷，一般须要在薄化完成后进行抛光处理。抛光后的玻璃基板表面光泽度高，但易产生眩光，需要进行额外的防眩处理。如中国专利2016112686887公开了tft玻璃基板薄化工艺预处理剂，其配方为以tft玻璃基板薄化工艺预处理剂，其特征在于所述预处理剂由以下组分组成：质量百分比含量8～12％的盐酸(hcl)，质量百分比含量3-5％的硝酸，质量百分比含量2％～5％的氢氟酸(hf)，质量百分含量0.1～0.2％的氯化钙，质量百分比含量1～2％的羟丙基甲基纤维素(hpmc)，质量百分比含量0.5～1％的结冷胶，及余量的水。采用该预处理剂对液晶玻璃基板进行预处理后，再进行薄化处理后可以提高薄化处理的质量，但还需要进行抛光，无论是作为薄化预处理剂还是直接作为薄化用蚀刻液，采用该预处理均无法在玻璃表面形成适当的雾度以防眩。中国专利文献cn2011102930815公开了一种防眩玻璃的蚀刻液，但在研究中发现，采用这种方式制得的防眩玻璃在仅能用于对tft基板进行表面进行处理，无法直接用于薄化，尤其无法实现在薄化的同时即提高薄化后基板的表面质量，又能使玻璃基板表面产生适当的雾度从而产生防眩效果。因此提供能够防眩的tft玻璃薄化蚀刻液，能够在玻璃基板进行薄化的同时，使表面产生合适的雾度从而实现防眩效果，成为现有技术中亟待解决的问题。
技术实现要素：
为解决前述技术问题，本发明提供了用于tft玻璃薄化工艺蚀刻液，通过优选蚀刻液的处方，并采用适当的薄化处理工艺，意外的发现在对tft玻璃基板的进行薄化的同时，可以在基板表面形成适当的雾度，并能够减少表面进行防眩减反射处理的效果。为解决前述技术问题本发明采用的技术方案为：
提供了tft玻璃薄化工艺蚀刻液，所述组合物由以下组分组成：重量百分比含量5％-8％的盐酸(以hcl计)，重量百分比含量2％-4％的葡萄糖酸内酯，重量百分比含量4％～7％的氢氟酸(以hf计)，重量百分比含量0.3～0.5％的中链脂肪酸甘油三酯(mct)、重量百分比3～5％的c8-10醇聚氧乙烯醚，质量百分比1-2％的羟丙基甲基纤维素(hpmc)及余量的水。
所述的tft玻璃薄化工艺蚀刻液，所述组合物由以下组分组成：重量百分比含量6-7％的盐酸，重量百分比含量2.5-3.5％的葡萄糖酸内酯，重量百分比含量5％～6％的氢氟酸，重量百分比含量0.3～0.5％的中链甘油三酯(mct)、重量百分比3.5～4.5％的c8-10醇聚氧乙烯醚，质量百分比1.5-2％的羟丙基甲基纤维素(hpmc)及余量的水。
所述的tft玻璃薄化工艺蚀刻液，其特征是所述c8-10醇聚氧乙烯醚为渗透剂oe-6，其所述中链甘油三酯为c8～c10脂肪酸的甘油三酯。所述羟丙基甲基纤维素的粘度规格为3000～6000mpa.s，优选4000mpas
所述用于tft玻璃薄化工艺蚀刻液，其特征在于以如下方法配制，
1)将处方量盐酸与氢氟酸混合，加入适量水稀释，
2)将处方量的羟丙基甲基纤维素(hpmc)和葡萄糖酸内酯分别溶于水后混合；
3)将处方量的c8-10醇聚氧乙烯醚和mct混合后加入适量水乳化分散
4)先将步骤1)和步骤2)得到的混合液混合，在搅拌条件下再将步骤3)的混合液缓缓加入后混合均匀。
在研究中我们发现采用适当比例的盐酸与氢氟酸混酸，并加入适当比例的葡萄糖酸内酯、mct、及羟丙基甲基纤维素(hpmc)，得到的蚀刻液在采用特定工艺(45℃)下对tft玻璃基板进行薄化处理后，在提高薄化处理的质量同时，可以蚀刻时在玻璃基板表表面生产合适的雾度，从而实现防眩效果。在处方筛选时我们发现，上述组方中各成分在薄化蚀刻过程起到了协同作用，改变处方会导致无法得到高透光度的防眩玻璃。
具体实施方式
本发明提供的tft玻璃基板薄化用蚀刻液，以如下方法配制，
1)将处方量盐酸与氢氟酸混合，加入适量水稀释，
2)将处方量的羟丙基甲基纤维素(hpmc)和葡萄糖酸内酯分别溶于水后混合；
3)将处方量的c8-10醇聚氧乙烯醚和mct混合后加入适量水乳化分散
4)先将步骤1)和步骤2)得到的混合液混合，在搅拌条件下再将步骤3)的混合液缓缓加入后混合均匀。
所述羟丙基甲基纤维素的粘度规格为4000mpa.s，其粘度范围为3500～5600mpa.s(b型粘度计2％溶液20℃)购自戈麦斯化工(山东)有限公司。
c8-10醇聚氧乙烯醚为渗透剂oe-6
中链甘油三酯(mct)为辛癸酸甘油酯(cas)
实施例及对比例的配方见下表(质量百分比wt％)
对实施例及对比例得到的蚀刻液剂进行薄处理化的方法如下
取用原材料为板硝子na35相同厂家同批次的玻璃基板，其厚度为1.000mm，尺寸为100mm×100mm。
蚀刻处理工艺为
1)配制tft玻璃基板薄化用蚀刻液10l(以下简称蚀刻液)
2)将蚀刻液打入蚀刻机酸槽并将预处理剂温度控制在45℃±2℃，把作为实验组样品的玻璃基板浸泡在蚀刻液中，去除玻璃表面薄化至0.5mm；
3)用清水洗净玻璃表面。
检测实施例
对经过薄化处理的tft玻璃基板样品的光泽度、雾度和透过率进行检测，其中雾度采用wgw光电雾度仪，透过率采用btr-1型可见光透/反射率测试仪，光泽度检测采用光泽度仪，与60°条件下测试
检测方法应符合gbt_36260_20189电子显示用防眩减反射玻璃的规定
检验结果如下
对比例1～4在实施例2/3/6/7处方基础上分别不加入mct，hpmc，葡萄糖酸内酯，渗透剂oe-6。
根据gbt_36260_2018中规定电子显示用防眩减反射玻璃的光泽度应小于70，雾度应小于4％，可见光透射比(相当于光泽度)应为约98％，实验结果表明，仅当采用本发明提供的蚀刻液对玻璃基板进行薄化处理时的玻璃基板，在薄化处理完成后，能够基本符合gbt_36260_20189的规定。在保持高透过性能的同时，在玻璃表面实现较为理想的防眩效果。且实施例2/3/6/7得到的样品，则在实现防眩的同时表现出了更好的透光度。而对比例得到的玻璃则不能满足上述标准，说明本发明技术方案处方中各组分在进行蚀刻时产生了协同作用，从而使蚀刻后的玻璃基板在满足薄化要求的同时，还实现了防眩效果，基本可以符合gbt_36260_2018的规定。