双面镀膜减反射玻璃的制作方法

本实用新型属于镀膜玻璃技术领域，尤其涉及一种双面镀膜减反射玻璃。

背景技术：

众所周知，光在两种介质的界面上会发生反射现象，当太阳光照射到光学元件的玻璃表面时，其反射光不仅影响光学元件的通光能量，而且这些反射光还会在仪器中形成杂散光，影响光学仪器的成像质量。为了解决这些问题，通常在玻璃的表面镀上一定厚度的单层或多层薄膜，目的是为了减少玻璃表面的反射光，这样的光学膜就是减反膜(Anti-reflection film)。减反射玻璃普通玻璃相比具有较低的反射比，使光的反射率降低到1％以下，从而降低环境光的干扰。减反射玻璃可以有效削弱因强光导致画面变白，无法看清画面的缺点，可真实反映事物，使得色彩更艳丽、对比更强烈，景物更清晰，让观赏者享受到更佳的视觉效果。

减反射玻璃应用初期，主要用来制作照相机以及显微镜的光学镜头，应用范围较窄，而现在，随着技术的发展，减反射玻璃被大量用于高端橱窗玻璃，博物馆展示柜玻璃、机场塔台玻璃、观景台玻璃、风景区观景点玻璃、画框玻璃等对消除玻璃反射炫光影响有高要求的领域

减反射膜分为单面减反射膜和双面减反射膜两种，而双面减反射膜具有更低的反射率和更高的可见光透过率。目前市场上的双面减反膜主要是由12层高反射率和低反射率膜层组成，高反射材料多是氧化钛TiO2、Nb2O5等，低折射率材料多是SiO2。

本案使用的双面减反射膜与传统双面减反射膜相比，有3大改善：

(1)膜层数量少：传统是12层，本案是8层，便于生产和降低生产成本。

(2)使用材料单一：传统至少使用2种材料，本案只要使用一种材料SiAl(Si3Nx、Si3NxOy是使用SiAl靶材通入不同的反应气体制得的)。

(3)因为材质相同，所以在本案中，膜层之间的结合力会更牢固。

技术实现要素：

针对现有技术存在的问题，本实用新型提供了一种双面镀膜减反射玻璃，上述双面镀膜减反射玻璃膜层数量和膜层厚度都有所减少，使得双面镀膜减反射玻璃的厚度更小，满足产品小型化的需求；同时，上述双面镀膜减反射玻璃具有良好的耐磨性、耐划伤性能及良好的耐酸碱腐蚀性，确保本双面镀膜减反射玻璃可户外使用。

本实用新型是这样实现的，一种双面镀膜减反射玻璃包括玻璃基板、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层、第三高折射率层、第三低折射率层、第四高折射率层、第四低折射率层，

上述双面镀膜减反射玻璃膜层数量和厚度都有所减少，使得上述双面镀膜减反射玻璃的可见光反射率≤1％，且上述双面镀膜减反射玻璃膜层数量和厚度都有所减少，使得双面镀膜减反射玻璃的厚度更小，满足产品小型化的需求；同时，上述双面镀膜减反射玻璃具有良好的耐磨性、耐划伤性能及良好的耐酸碱腐蚀性，确保双面镀膜减反射玻璃可户外使用。

第一高折射率层层叠于玻璃基板的一表面；第一高折射率层为Si3Nx层；第一高折射率层的厚度为10nm～50nm。第一高折射率层主要起到和玻璃基板连接的作用，第一高折射率层也能调节反射色性能，并阻挡玻璃中碱金属离子的扩散。

第一低折射率层层叠于第一高折射率层远离玻璃基板的表面；第一低折射率层为SiNxOy层；第一低折射率层的厚度为20nm～60nm；第一低折射率层的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。

第二高折射率层层叠于第一低折射率层远离第一高折射率层的表面；第二高折射率层为Si3Nx层；第二高折射率层的厚度为70nm～150nm。第二高折射率层的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。

第二低折射率层层叠于第二高折射率层远离第一低折射率层的表面；第二低折射率层为SiNxOy层；第二低折射率层的厚度为50nm～100nm。第二低折射率层的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色，并具有耐划伤、耐研磨及耐腐蚀的效果功，能使双面镀膜减反射玻璃暴露在户外环境使用，也可防止镀膜层出现划伤、化学腐蚀等缺陷，保证产品在运输、安装及使用过程中的整体性。

第三高折射率层，层叠于玻璃基板的另一表面；所述第三高折射率层为Si3Nx层；所述第三高折射率层的厚度为10nm～50nm；第三高折射率层主要起到和玻璃基板连接的作用，第一高折射率层也能调节反射色性能，并阻挡玻璃中碱金属离子的扩散。

第三低折射率层，层叠于第三高折射率层远离玻璃基板的表面；第三低折射率层为SiNxOy层；第一低折射率层的厚度为20nm～60nm；第三低折射率层的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。

第四高折射率层，层叠于第三低折射率层的表面，所述第四高折射率层为Si3Nx层，所述第四高折射率层的厚度为70nm～150nm；所述第四高折射率层的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。

第四低折射率层，层叠于第四高折射率层的表面，所述第四低折射率层为SiNxOy层，所述第二低折射率层的厚度为50nm～100nm，第四低折射率层的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色，并具有耐划伤、耐研磨及耐腐蚀的效果功，能使双面镀膜减反射玻璃暴露在户外环境使用，也可防止镀膜层出现划伤、化学腐蚀等缺陷，保证产品在运输、安装及使用过程中的整体性。综上所述，本实用新型和现有技术相比的膜层数量和厚度都有所减少，使得双面镀膜减反射玻璃的厚度更小，满足产品小型化的需求；同时，上述双面镀膜减反射玻璃具有耐磨性、耐划伤性能及良好的耐酸碱腐蚀性，使得双面镀膜减反射玻璃可户外使用。

附图说明

图1是本实用新型实施例1结构示意图。

图中，1、玻璃基板；2、第一高折射率层；3、第一低折射率层；4、第二高折射率层；5、第二低折射率层；6、第三高折射率层；7、第三低折射率层；8、第四高折射率层；9；第四低折射率层。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本实用新型实施例提供一种双面镀膜减反射玻璃，该双面镀膜减反射玻璃膜层数量和厚度都有所减少，使得双面镀膜减反射玻璃的厚度更小，满足产品小型化的需求；同时，上述双面镀膜减反射玻璃具有耐磨性、耐划伤性能及良好的耐酸碱腐蚀性，使得双面镀膜减反射玻璃可户外使用；下面结合附图和实施例详细说明本实用新型结构。

请参阅图1，一种双面镀膜减反射玻璃包括玻璃基板1、第一高折射率层2、第一低折射率层3、第二高折射率层4、第二低折射率层5、第三高折射率层6、第三低折射率层7、第四高折射率层8、第四低折射率层9；

在图1所示的实施方式中，玻璃基板1为经过清洗抛光处理后的玻璃基板。玻璃基板1的厚度为3mm～19mm。优选的，玻璃基板的厚度为3mm、4mm、5mm、6mm、8mm、10mm、12mm、15mm或19mm。玻璃基板1的最大玻璃尺寸为3300mm*6000mm。

在图1所示的实施方式中，玻璃基板1为钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃。

在图1所示的实施方式中，玻璃基板1的折射率为1.47～1.55。

在图1所示的实施方式中，第一、二、三、四高折射率层的折射率为2.10～2.15。

在图1所示的实施方式中，第一、二、三、四低折射率层的折射率为1.45～1.55。

第一高折射率层2为Si3Nx层。在实施例中，第一高折射率层2的厚度为10nm～50nm。优选的，第一高折射率层2的厚度为10nm～40nm。更优选的，第一高折射率层2的厚度为12nm～38nm。第一高折射率层2主要起到和玻璃基板连接的作用，第一高折射率层2也能调节反射色性能，并阻挡玻璃中碱金属离子的扩散。

在图1所示的实施方式中，第一低折射率层3层叠于第一高折射率层2远离玻璃基板1的表面。第一低折射率层3为SiNxOy层。在实施例中，第一低折射率层3的厚度为20nm～60nm。优选的，第一低折射率层3的厚度为20nm～55nm。更优选的，第一低折射率层3的厚度为25nm～50nm；第一低折射率层3的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。

在图1所示的实施方式中，第二高折射率层4层叠于第一低折射率层3远离第一高折射率层2的表面。第二高折射率层4为Si3Nx层。在实施例中，第二高折射率层4的厚度为70nm～150nm。优选的，第二高折射率层4的厚度为80nm～140nm。更优选的，第二高折射率层4的厚度为90nm～120nm。第二高折射率层4的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。

在图1所示的实施方式中，第二低折射率层5层叠于第二高折射率层4远离第一低折射率层3的表面。第二低折射率层5为SiNxOy层。在实施例中，第二低折射率层5的厚度为50nm～100nm。优选的，第二低折射率层5的厚度为50nm～90nm。更优选的，第二低折射率层5的厚度为50nm～80nm。第二低折射率层5的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色，并具有耐划伤、耐研磨及耐腐蚀的效果功，能使双面镀膜减反射玻璃暴露在户外环境使用，也可防止镀膜层出现划伤、化学腐蚀等缺陷，保证产品在运输、安装及使用过程中的整体性。

第三高折射率层6，层叠于玻璃基板的另一表面；所述第三高折射率层为Si3Nx层；所述第三高折射率层的厚度为10nm～50nm；优选的，第三高折射率层2的厚度为10nm～40nm。更优选的，第三高折射率层2的厚度为12nm～38nm。第三高折射率层主要起到和玻璃基板连接的作用，第一高折射率层也能调节反射色性能，并阻挡玻璃中碱金属离子的扩散。

第三低折射率层7，层叠于第三高折射率层远离玻璃基板的表面；第三低折射率层7为SiNxOy层；第一低折射率层的厚度为20nm～60nm；优选的，第一低折射率层3的厚度为20nm～55nm。更优选的，第一低折射率层3的厚度为25nm～50nm；第三低折射率层7的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。

第四高折射率层8，层叠于第三低折射率层的表面，所述第四高折射率层为Si3Nx层，所述第四高折射率层的厚度为70nm～150nm；优选的，第二高折射率层4的厚度为80nm～140nm。更优选的，第二高折射率层4的厚度为90nm～120nm。所述第四高折射率层的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色。

第四低折射率层9，层叠于第四高折射率层的表面，所述第四低折射率层为SiNxOy层，所述第二低折射率层的厚度为50nm～100nm，优选的，第二低折射率层5的厚度为50nm～90nm。更优选的，第二低折射率层5的厚度为50nm～80nm。第四低折射率层的主要作用是调节膜层的干涉及外观颜色，并具有耐划伤、耐研磨及耐腐蚀的效果功，能使双面镀膜减反射玻璃暴露在户外环境使用，也可防止镀膜层出现划伤、化学腐蚀等缺陷，保证产品在运输、安装及使用过程中的整体性。综上所述，本实用新型和现有技术相比的膜层数量和厚度都有所减少，使得双面镀膜减反射玻璃的厚度更小，满足产品小型化的需求；同时，上述双面镀膜减反射玻璃具有耐磨性、耐划伤性能及良好的耐酸碱腐蚀性，使得双面镀膜减反射玻璃可户外使用。

上述双面镀膜减反射玻璃，由于包括依次层叠于玻璃基板的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率，同时包括在玻璃基板的另一面依次层叠的第三高折射率层、第三低折射率层、第四高折射率层、第四低折射率层，且对上述膜层的材料及厚度进行限定，使得上述双面镀膜减反射玻璃的可见光反射率≤1％，且上述双面镀膜减反射玻璃膜层数量和厚度都有所减少，使得双面镀膜减反射玻璃的厚度更小，满足产品小型化的需求；同时，上述双面镀膜减反射玻璃具有耐磨性、耐划伤性能及良好的耐酸碱腐蚀性，使得双面镀膜减反射玻璃可户外使用。上述双面镀膜减反射玻璃可以单片镀膜玻璃的形式应用于户外，也可以使双面镀膜减反射玻璃的减反射镀膜表面暴露于户外环境使用。

另外，上述双面镀膜减反射玻璃膜层厚度为纳米级，且膜层结构中不含有Ag、Au等贵金属，大大降低了生产成本；双面镀膜减反射玻璃具有可调的外观颜色效果，可根据客户需求进行调整，满足差异化需求；采用了固态纯无机材料，避免了有机化学生产原料对环境及人体的污染及损害；上述双面镀膜减反射玻璃可以大板进行销售，可实现产品外协厂的后续加工，带动了整个玻璃深加工企业，进一步整合并提高了生产效率及成本的降低。

实施方式中的双面镀膜减反射玻璃的制备方法，包括以下步骤：

先对玻璃基板进行清洗处理。

在实施方式中，玻璃基板为钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃。

在实施方式中，采用自动清洗机对玻璃基板进行清洗。

在实施方式中，通过真空磁控溅射的方式在玻璃基板上依次沉积第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层。之后在第二低折射率层上贴膜，并且将膜面朝下，再次通过真空磁控溅射的方式在玻璃基板非膜面上依次沉积第三高折射率层、第三低折射率层、第四高折射率层、第四低折射率层。

在实施方式中，采用卧式镀膜工艺进行镀膜。

在实施方式中，第一高折射率层的材料为Si3Nx层，所述第一高折射率层的厚度为10nm～50nm；所述第一低折射率层的材料为SiNxOy层，所述第一低折射率层的厚度为20nm～60nm；所述第二高折射率层的材料为Si3Nx层，所述第二高折射率层的厚度为70nm～150nm；所述第二低折射率层的材料为SiNxOy层，所述第二低折射率层的厚度为50nm～100nm；所述第三高折射率层的材料为Si3Nx层，所述第三高折射率层的厚度为10nm～50nm；所述第三低折射率层的材料为SiNxOy层，所述第三低折射率层的厚度为20nm～60nm；所述第四高折射率层的材料为Si3Nx层，所述第四高折射率层的厚度为70nm～150nm；所述第四低折射率层的材料为SiNxOy层，所述第四低折射率层的厚度为50nm～100nm。

上述双面镀膜减反射玻璃的制备方法采用卧式镀膜工艺通过磁控溅射的方式进行镀膜处理，可以实现大批量大尺寸的生产，双面镀膜减反射玻璃的最大尺寸可达3300mm*6000mm，简化制备工艺及缩短生产周期，降低成本的同时生产效率得到极大的提高，更有利于实现工业化生产。

下面是具体实施例的说明，以下实施例如无特殊说明，则不含有除不可避免的结构以外的其他未明确指出的结构。

具体实施例1，请参阅1，对玻璃基板进行清洗处理，采用卧式镀膜工艺通过磁控溅射的方式在玻璃基板上依次沉积第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层。之后在第二低折射率层上贴膜，并且将膜面朝下，通过真空磁控溅射的方式在玻璃基板非膜面上依次沉积第三高折射率层、第三低折射率层、第四高折射率层、第四低折射率层。其中，玻璃基板为超白钠钙玻璃，玻璃基板的厚度为6mm；第一高折射率层为Si3Nx层，膜层厚度为10nm；所述第一低折射率层为SiNxOy层，膜层厚度为40nm；所述第二高折射率层为Si3Nx层，膜层厚度为107nm；所述第二低折射率层为SiNxOy层，膜层厚度为85nm；所述第三高折射率层为Si3Nx层，膜层厚度为10nm；所述第三低折射率层为SiNxOy层，膜层厚度为40nm；所述第四高折射率层为Si3Nx层，膜层厚度为107nm；所述第四低折射率层为SiNxOy层，膜层厚度为85nm。进行磁控溅射的功率为30KW～80KW；磁控溅射的动态沉积率为1.6nm·(m/min)/KW～4.8nm·(m/min)/KW；磁控溅射的真空度为1.5*10-3mbar～5.5*10-3mbar。

对实施例1的双面镀膜减反射玻璃进行可见光反射率及透过率的测试，结果如表1所示。

其中，进行可见光反射率和可见光透过率测试是采用德国蔡司厂家生产的Ex-situ在线测色仪器测试得到。

表1

CIE1976L*a*b*色空间(CIE LAB色空间)，是1976年由国际照明学会(CIE)推荐的均匀色空间。该空间是三维直角坐标系统。是目前最受广用的测色系统。以明度L*和色度坐标a*、b*来表示颜色在色空间中的位置。其中，L*表示颜色的明度，a*正值表示偏红，负值表示偏绿；b*正值表示偏黄，负值表示偏蓝。

R代表反射率(Reflectivity),表示物体反射的辐射能量占总辐射能量的百分比。

T代表透光率(Transmittance),表示光线透过介质的能力，是透过透明或半透明体的光通量与其入射光通量的百分率。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。