减少触摸屏玻璃镜面反射光处理方法与流程

文档序号:18892876发布日期:2019-10-15 22:14阅读:1382来源:国知局

本发明涉及触摸屏技术领域,具体是减少触摸屏玻璃镜面反射光处理方法。



背景技术:

触摸屏(touchscreen)又称为“触控屏”、“触控面板”,是一种可接收触头等输入讯号的感应式液晶显示装置,当接触了屏幕上的图形按钮时,屏幕上的触觉反馈系统可根据预先编程的程式驱动各种连结装置,可用以取代机械式的按钮面板,并借由液晶显示画面制造出生动的影音效果。触摸屏作为一种最新的电脑输入设备,它是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式。它赋予了多媒体以崭新的面貌,是极富吸引力的全新多媒体交互设备。目前的触摸屏玻璃存在透光性不佳的问题,镜面反射光会对使用体验造成不良影响。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供减少触摸屏玻璃镜面反射光处理方法,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

减少触摸屏玻璃镜面反射光处理方法,包括如下步骤:

s1、将玻璃原料加入研磨机中,充分破碎混合,再加入加热釜中,升温至1200-1400℃,得到熔融的玻璃料液;

s2、在玻璃料液中加入反应助剂,并在保温条件下匀速搅拌240-360min;

s3、将玻璃料液浇筑至模具中,退火、定型后得到玻璃基板;

s4、对玻璃基板进行清洗、打磨、干燥;

s5、在玻璃基板表面喷涂防护剂,形成防护膜层;

s6、将镀膜后的玻璃基板放入烘干机内,烘干3-5min。

作为本发明进一步的方案:所述步骤s1中的玻璃原料按照重量份数计包括如下成分:50-60重量份的二氧化硅、20-30重量份的三氧化二硼、20-30重量份的三氧化二镧、5-15重量份的氧化钾、5-15重量份的氧化钙、5-15重量份的氧化镁、15-25重量份的氧化钠。

作为本发明进一步的方案:所述步骤s2中的反应助剂为纳米二氧化钛与十二烷基硫酸钠的混合溶液。

作为本发明进一步的方案:所述步骤s2中的保温温度为1400-1600℃。

作为本发明进一步的方案:所述步骤s3中的退火温度为200-700℃。

作为本发明进一步的方案:所述步骤s6中的烘干温度为160-200℃。

作为本发明进一步的方案:所述步骤s5中的防护剂按照重量百分比计包括如下成分:50-60%的二氧化硅溶胶、1-2%的二氧化铈溶胶、1-2%的二氧化锆溶胶、1-5%的冰醋酸、3-10%的甲基三乙氧基硅烷、5-10%的丁醇、1-5%的添加剂,其余为水。

作为本发明进一步的方案:所述添加剂为纳米银离子溶液。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

本发明生产的触摸屏玻璃拥有良好的透光性与折射率,镜面反射光少,大大提高了触摸屏的使用体验,且具备良好的机械性能与耐候性,抗刮耐磨性能好。

具体实施方式

下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

实施例一:

减少触摸屏玻璃镜面反射光处理方法,包括如下步骤:

s1、将玻璃原料加入研磨机中,充分破碎混合,再加入加热釜中,升温至1200℃,得到熔融的玻璃料液;

s2、在玻璃料液中加入反应助剂,并在保温条件下匀速搅拌240min;

s3、将玻璃料液浇筑至模具中,退火、定型后得到玻璃基板;

s4、对玻璃基板进行清洗、打磨、干燥;

s5、在玻璃基板表面喷涂防护剂,形成防护膜层;

s6、将镀膜后的玻璃基板放入烘干机内,烘干3min。

所述步骤s1中的玻璃原料按照重量份数计包括如下成分:50重量份的二氧化硅、20重量份的三氧化二硼、20重量份的三氧化二镧、5重量份的氧化钾、5重量份的氧化钙、5重量份的氧化镁、15重量份的氧化钠。

所述步骤s2中的反应助剂为纳米二氧化钛与十二烷基硫酸钠的混合溶液。

所述步骤s2中的保温温度为1400℃。

所述步骤s3中的退火温度为200℃。

所述步骤s6中的烘干温度为160℃。

所述步骤s5中的防护剂按照重量百分比计包括如下成分:50%的二氧化硅溶胶、2%的二氧化铈溶胶、2%的二氧化锆溶胶、5%的冰醋酸、10%的甲基三乙氧基硅烷、10%的丁醇、5%的添加剂,其余为水。

所述添加剂为纳米银离子溶液。

实施例二:

减少触摸屏玻璃镜面反射光处理方法,包括如下步骤:

s1、将玻璃原料加入研磨机中,充分破碎混合,再加入加热釜中,升温至1300℃,得到熔融的玻璃料液;

s2、在玻璃料液中加入反应助剂,并在保温条件下匀速搅拌300min;

s3、将玻璃料液浇筑至模具中,退火、定型后得到玻璃基板;

s4、对玻璃基板进行清洗、打磨、干燥;

s5、在玻璃基板表面喷涂防护剂,形成防护膜层;

s6、将镀膜后的玻璃基板放入烘干机内,烘干4min。

所述步骤s1中的玻璃原料按照重量份数计包括如下成分:55重量份的二氧化硅、25重量份的三氧化二硼、25重量份的三氧化二镧、10重量份的氧化钾、10重量份的氧化钙、10重量份的氧化镁、20重量份的氧化钠。

所述步骤s2中的反应助剂为纳米二氧化钛与十二烷基硫酸钠的混合溶液。

所述步骤s2中的保温温度为1500℃。

所述步骤s3中的退火温度为500℃。

所述步骤s6中的烘干温度为180℃。

所述步骤s5中的防护剂按照重量百分比计包括如下成分:55%的二氧化硅溶胶、1.5%的二氧化铈溶胶、1.5%的二氧化锆溶胶、3%的冰醋酸、5%的甲基三乙氧基硅烷、8%的丁醇、3%的添加剂,其余为水。

所述添加剂为纳米银离子溶液。

实施例三:

减少触摸屏玻璃镜面反射光处理方法,包括如下步骤:

s1、将玻璃原料加入研磨机中,充分破碎混合,再加入加热釜中,升温至1400℃,得到熔融的玻璃料液;

s2、在玻璃料液中加入反应助剂,并在保温条件下匀速搅拌360min;

s3、将玻璃料液浇筑至模具中,退火、定型后得到玻璃基板;

s4、对玻璃基板进行清洗、打磨、干燥;

s5、在玻璃基板表面喷涂防护剂,形成防护膜层;

s6、将镀膜后的玻璃基板放入烘干机内,烘干5min。

所述步骤s1中的玻璃原料按照重量份数计包括如下成分:60重量份的二氧化硅、30重量份的三氧化二硼、30重量份的三氧化二镧、15重量份的氧化钾、15重量份的氧化钙、15重量份的氧化镁、25重量份的氧化钠。

所述步骤s2中的反应助剂为纳米二氧化钛与十二烷基硫酸钠的混合溶液。

所述步骤s2中的保温温度为1600℃。

所述步骤s3中的退火温度为700℃。

所述步骤s6中的烘干温度为200℃。

所述步骤s5中的防护剂按照重量百分比计包括如下成分:60%的二氧化硅溶胶、1%的二氧化铈溶胶、1%的二氧化锆溶胶、1%的冰醋酸、3%的甲基三乙氧基硅烷、5%的丁醇、1%的添加剂,其余为水。

所述添加剂为纳米银离子溶液。

对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。

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