本实用新型涉及水处理设备,具体指一种氯气发生器防爆装置。
背景技术:
污水处理厂中的污水经过粗格栅、细格栅、生化池和高密度沉淀池处理后,最后进入消毒池进行消毒后才排入水体,目前最常用的技术就是氯气消毒,因此污水处理厂都配备有氯气发生器来产生氯气。
氯气发生器产生的气态氯气和液体氯气通过管道接入水射器的进气管,水射器的喷嘴接高压水管,高压水压入喷嘴中,高压水从喷嘴喷入扩展管,高压水在喷射的过程中在吸引室形成负压,从而通过吸引室的进气管吸入气态氯气和液体氯气进入水射器中与高压水进行混合,这样将氯气发生器中产生的气态氯气和液体氯气运走,但是一旦发生高压水压力了不足或故障的情况,气态氯气和液体氯气会不断聚集,导致氯气发生器内的压力增加。当氯气发生器内压力增加到预设值时,氯气发生器上的泄压阀打开泄压,但是实际生产中出现多次因泄压阀故障无法及时打开,导致氯气发生器爆炸的情况,因此如何能有效保证高压水压力,让氯气发生器产生的气态氯气和液体氯气被及时运走则成为解决氯气发生器因内压过大而爆炸的另一重要途径。
技术实现要素:
针对现有技术存在的上述问题,本实用新型的目的是提供一种氯气发生器防爆装置,该装置可以有效保证高压水的压力,从而及时运走氯气发生器产生的气态氯气和液体氯气。
为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:一种氯气发生器防爆装置,包括水射器和高压水管,所述高压水管的出水端与水射器的喷嘴连通;还包括水压补充结构、数据采集结构和控制结构;
水压补充结构:包括自来水管;所述自来水管的出水口与高压水管连通;
数据采集结构:包括第一压力传感器和第二压力传感器;
所述第一压力传感器的信号监测端和第二压力传感器的信号监测端均设置在高压水管内,并且第一压力传感器的信号监测端和第二压力传感器的信号监测端分别位于自来水管与高压水管连接处的两侧,其中,
第一压力传感器的信号监测端靠近水射器,第二压力传感器的信号监测端远离水射器;
控制结构:包括常开电磁阀、常闭电磁阀和控制器;
所述常开电磁阀、常闭电磁阀均设置在自来水管上,并且常闭电磁阀距自来水管与高压水管连接处的距离小于常开电磁阀距自来水管与高压水管连接处的距离;
所述常开电磁阀和常闭电磁阀的信号输入端分别与控制器的控制信号输出端连接;
所述第一压力传感器和第二压力传感器的信号输出端分别与控制器的信号输入端连接。
作为改进,所述控制结构还包括止回阀,所述止回阀设在自来水管上,并且止回阀距自来水管与高压水管连接处的距离小于常闭电磁阀距自来水管与高压水管连接处的距离。
作为改进,所述控制结构还包括手阀;所述手阀设在自来水管上,并且手阀局自来水管与高压水管连接处的距离大于常开电磁阀距自来水管与高压水管连接处的距离。
作为改进,还包括一个增压泵;所述增压泵设置在自来水管上,且位于手阀与常开电磁阀之间;
所述增压泵的信号输入端与控制器的启动信号控制端连接。
相对于现有技术,本实用新型具有如下优点:
该氯气发生器防爆装置结构简单,使用方便,只需要在原有结构的基础上稍加改造即可,改建成本低,更重要的是使用该装置可以有效防止因为高压水压力故障或压力不够,导致氯气发生器内压过大发生爆炸的情况出现。
附图说明
图1为本实用新型所述氯气发生器防爆装置的结构简图。
图2为控制原理图。
图中的附图标记:自来水管-21、手动阀-22、常开电磁阀-23、止回阀-24、常闭电磁阀-25、控制器-27、增压泵-28、高压水管-31、第一压力传感器-33、第二压力传感器-35、水射器-40、氯气发生器-50。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步详细说明。
参见图1和图2,一种氯气发生器防爆装置,包括水射器40、高压水管31、水压补充结构、数据采集结构和控制结构;所述高压水管31的出水端与水射器40的喷嘴连通;
水压补充结构:包括自来水管21;所述自来水管21的出水口与高压水管31连通;连接时,采用一个三通即可实现。
数据采集结构:包括第一压力传感器33和第二压力传感器35;
所述第一压力传感器33的信号监测端和第二压力传感器35的信号监测端均设置在高压水管31内,并且第一压力传感器33的信号监测端和第二压力传感器35的信号监测端分别位于自来水管21与高压水管31连接处的两侧,其中,
第一压力传感器33的信号监测端靠近水射器40,第二压力传感器35的信号监测端远离水射器40,即第一压力传感器33的信号监测端到水射器40的距离小于第二压力传感器35的信号监测端到水射器的距离。第一压力传感器33用于检测进入水射器40的水压,当自来水管21没有接通时,第一压力传感器33检测的水压是高压水管31中的水压;当自来水管21接通时,第一压力传感器33检测的水压是高压水管31中水压与自来水管21中水压之和;第二压力传感器35用于检测高压水管31内的水压。
控制结构:包括常开电磁阀23、常闭电磁阀25和控制器27;
所述常开电磁阀23、常闭电磁阀25均设置在自来水管21上,并且常闭电磁阀25距自来水管21与高压水管31连接处的距离小于常开电磁阀23距自来水管21与高压水管31连接处的距离;
所述常开电磁阀23和常闭电磁阀25的信号输入端分别与控制器27的控制信号输出端连接;
第一压力传感器33和第二压力传感器35的信号输出端分别与控制器27的信号输入端连接。
作为改进,控制结构还包括止回阀24,所述止回阀24设在自来水管21上,并且止回阀24距自来水管21与高压水管31连接处的距离小于常闭电磁阀25距自来水管21与高压水管31连接处的距离。自来水管21内的水压通常小于高压水管31内的水压,止回阀24的设置主要是为了防止高压水倒灌进入自来水管21,污染自来水。
控制结构还包括手阀22;所述手阀22设在自来水管21上,并且手阀22局自来水管21与高压水管31连接处的距离大于常开电磁阀23距自来水管21与高压水管31连接处的距离。手阀22的设置主要是为了防止常开电磁阀23故障无法关闭的情况出现,关闭常开电磁阀23时是因为高压水已经恢复正常,此时关闭常开电磁阀23关闭自来水管21,但是一旦出现常开电磁阀23故障无法关闭的情况,则可以通过关闭手阀22实现关闭自来水管21,从而节约自来水。
虽然自来水的压力足以满足让水射器的吸引室形成负压,但是不排出有特殊情况的出现,因此本装置还可以包括一个增压泵28对自来水进行加压;所述增压泵28设置在自来水管21上,且位于手阀22与常开电磁阀23之间。
本实用新型提供的氯气发生器防爆装置的工作过程如下:
首先在控制器中设置水压补充结构启动水压阈值和水压补充结构停止水压阈值。
当第一压力传感器33传入的水压低于水压补充结构启动水压阈值时,说明高压水出现问题,则需要启动水压补充结构补充水压,此时控制器27向常闭电磁阀25发出信号,常闭电磁阀25接通,自来水管21接通,由于自来水具有一定的压力,该压力足以满足水射器中使吸引室形成负压,使气态氯气和液体氯气进入水射器内。
当水压补充结构启动后,第一压力传感器33传入的水压低于水压补充结构启动水压阈值时,说明自来水的压力不够,此时控制器27向增压泵28发出启动信号,增压泵28开始工作,对自来水进行加压。
当第二压力传感器35传入的水压等于或高于水压补充结构停止水压阈值时,说明高压水恢复正常,为了节约自来水,则需要关闭水压补充结构,此时控制器27向常开电磁阀23发出信号,常开电磁阀23接通,自来水管21关闭。
需要特别说明的是:本实用新型只保护氯气发生器防爆装置的结构,至于使用氯气发生器防爆装置时,需要在控制器中设定的算法不在本实用新型的保护之列。另外使用氯气发生器防爆装置时需要设定的算法也是现有技术,因此本实用新型中未做赘述。
最后说明的是,以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本实用新型技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。