一种大比表面积高纯度α-三氧化二铝及其制备方法与流程

文档序号:20766821发布日期:2020-05-15 19:03阅读:2267来源:国知局
技术特征:

1.一种大比表面积高纯度α-三氧化二铝,其特征在于采用固态水热法,氧化铝水热合成路线中,产物的形成遵守自磨、水合、水解、成核、结晶、生长的基本环节,即:自磨水解结晶机制(self-millinghydrolysiscrystallizedmechanism,s-mhc),氧化铝纳米颗粒的比表面积可达140m2·g-1。

2.根据权利要求1所述大比表面积高纯度α-三氧化二铝的制备方法,其特征在于采用固态水热法,包括如下工艺步骤:

(1)在洁净的聚四氟乙烯溶液中依次分别加入氧化铝粉末样品,表面活性剂和去离子水,其中,表面活性剂是peg400,peg2000或乙二胺中的一种或其组合;氧化铝粉末与表面活性剂的质量比为1:1~1:2;

(2)将内胆放入超声清洗器中分散10-20min;

(3)将内胆放入不锈钢反应釜中密闭,将高压水热釜在373~473k的温度下进行水热处理12~36小时,停止反应后将沉淀产物用去离子水洗涤,经干燥后得到大比表面积α-al2o3纳米颗粒。

3.根据权利要求2所述大比表面积高纯度α-三氧化二铝的制备方法,其特征在于:步骤(1)中所述氧化铝的加入质量与最终的反应液总体积之比为0.5克/100毫升~5克/100毫升。

4.根据权利要求2或3所述大比表面积高纯度α-三氧化二铝的制备方法,其特征在于:按如下工艺步骤:

(1)在洁净的聚四氟乙烯溶液中依次分别加入0.5克氧化铝粉末样品,0.5克peg400和100ml去离子水;

(2)将内胆放入超声清洗器中分散20min;

(3)将内胆放入不锈钢反应釜中密闭,将高压水热釜在373的温度下进行水热处理24小时,停止反应后将沉淀产物用去离子水洗涤,经干燥后得到大比表面积α-al2o3纳米颗粒。

5.根据权利要求2或3所述大比表面积高纯度α-三氧化二铝的制备方法,其特征在于:按如下工艺步骤:

(1)在洁净的聚四氟乙烯溶液中依次分别加入2.5克氧化铝粉末样品,5克乙二胺和100ml去离子水;

(2)将内胆放入超声清洗器中分散10min;

(3)将内胆放入不锈钢反应釜中密闭,将高压水热釜在473的温度下进行水热处理36小时,停止反应后将沉淀产物用去离子水洗涤,经干燥后得到大比表面积α-al2o3纳米颗粒。

6.根据权利要求2或3所述大比表面积高纯度α-三氧化二铝的制备方法,其特征在于:按如下工艺步骤:

(1)在洁净的聚四氟乙烯溶液中依次分别加入2克氧化铝粉末样品,2克peg2000和100ml去离子水;

(2)将内胆放入超声清洗器中分散15min;

(3)将内胆放入不锈钢反应釜中密闭,将高压水热釜在403的温度下进行水热处理12小时,停止反应后将沉淀产物用去离子水洗涤,经干燥后得到大比表面积α-al2o3纳米颗粒。

7.根据权利要求2或3所述大比表面积高纯度α-三氧化二铝的制备方法,其特征在于:按如下工艺步骤:

(1)在洁净的聚四氟乙烯溶液中依次分别加入4克氧化铝粉末样品,3克peg400、1克peg2000和100ml去离子水;

(2)将内胆放入超声清洗器中分散18min;

(3)将内胆放入不锈钢反应釜中密闭,将高压水热釜在373的温度下进行水热处理36小时,停止反应后将沉淀产物用去离子水洗涤,经干燥后得到大比表面积α-al2o3纳米颗粒。

8.根据权利要求2或3所述大比表面积高纯度α-三氧化二铝的制备方法,其特征在于:按如下工艺步骤:

(1)在洁净的聚四氟乙烯溶液中依次分别加入3克氧化铝粉末样品,2.5克peg400、1.5克乙二胺和100ml去离子水;

(2)将内胆放入超声清洗器中分散20min;

将内胆放入不锈钢反应釜中密闭,将高压水热釜在473的温度下进行水热处理12小时,停止反应后将沉淀产物用去离子水洗涤,经干燥后得到大比表面积α-al2o3纳米颗粒。


技术总结
本发明涉及一种大比表面积高纯度α‑三氧化二铝及其制备方法,采用固态水热法,氧化铝水热合成路线中,产物的形成遵守自磨、水合、水解、成核、结晶、生长等基本环节,即自磨水解结晶机制(Self‑milling Hydrolysis Crystallized mechanism,S‑MHC),氧化铝纳米颗粒的比表面积可达140 m2·g‑1。采用固态氧化物水热法,以氧化铝为反应原料,在表面活性剂的调控作用下,合成了表面积约为140 m2·g‑1的高纯度α‑Al2O3纳米颗粒。本发明工艺简单,制备方法温和,制备的纳米颗粒的‑Al2O3无需洗涂可直接用作合成氨催化剂载体,提升催化活性。

技术研发人员:崔大祥;林琳;吴晓燕;邬淑红;金彩虹
受保护的技术使用者:上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
技术研发日:2020.03.05
技术公布日:2020.05.15
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