本发明涉及一种玻璃基材炫光闪光砂蚀刻效果成型工艺。
背景技术：
现有的蚀刻工艺仅仅进行蒙砂液处理，只能达到防划伤、防指纹、防眩光、防反射性效果，而在炫光效果以及抗污染抗划伤的效果这一方面就显得稍差，不能满足人们的实际所需，因此需要一种新型的工艺来满足人们的实际所需，提高生活的品味和享受。
技术实现要素：
为克服现有技术的缺陷，本发明提供一种一种玻璃基材炫光闪光砂蚀刻效果成型工艺，本发明的技术方案是：
一种玻璃基材炫光闪光砂蚀刻效果成型工艺，包括以下步骤：
(1)配制蒙砂液并搅拌均匀进行熟化；
(2)将待蒙砂的玻璃基材用清水进行第一次清洗，同时对不需要蒙砂的玻璃基材面进行保护；
(3)将玻璃基材放入蒙砂液里进行蒙砂50～200秒；
(4)取出后用清水对玻璃基材进行第二次清洗；
(5)用荧光砂玻璃蚀刻粉进行蚀刻，荧光砂玻璃蚀刻粉在玻璃基材蚀刻后吸附在玻璃基材的表面并产生炫光效果；所述的荧光砂玻璃蚀刻粉由卤磷酸钙荧光粉和稀土荧光粉组成，该卤磷酸钙荧光粉50-80份，稀土荧光粉50-60份；
(6)将蒙砂和蚀刻后的玻璃基材放入抛光液里，取出后即得有闪光砂效果的玻璃基材成品。
所述的步骤(1)中的蒙砂液包括以下重量份的各组分：氢氟酸30-35％，硫酸钠5-10％，强酸35-45％，填料20-30％；按照配比称取各组分后进行混合搅拌均匀，熟化24～30小时，配成蒙砂液。
所述的步骤(6)中的抛光液为硫酸和氢氟酸的混合液，其中，硫酸的浓度为95％-99％，氢氟酸的浓度为50％-60％。
所述的强酸为硫酸与盐酸的混合液，所述硫酸浓度为95～98％，盐酸浓度为32～37％。
所述的填料为钛白粉、活性炭或氟化钙中的一种。
本发明的优点是：
1、改善现有蚀刻达不到炫光效果。现在通过改善蚀刻工艺使产品在经过蚀刻处理之后可以达到在自然光下油光闪亮；在点状光源下有明显光圈以及炫光效果。
2、有效地增加了玻璃表面的抗污染抗划伤的效果，更容易清洁。
具体实施方式
下面结合具体实施例来进一步描述本发明，本发明的优点和特点将会随着描述而更为清楚。但这些实施例仅是范例性的，并不对本发明的范围构成任何限制。本领域技术人员应该理解的是，在不偏离本发明的精神和范围下可以对本发明技术方案的细节和形式进行修改或替换，但这些修改和替换均落入本发明的保护范围内。
实施例1：一种玻璃基材炫光闪光砂蚀刻效果成型工艺，针对用于手机、平板等电子产品的玻璃后盖装饰件进行加工，包括以下步骤：
(1)配制蒙砂液并搅拌均匀进行熟化；
(2)将待蒙砂的玻璃基材用清水进行第一次清洗，同时对不需要蒙砂的玻璃基材面进行保护；
(3)将玻璃基材放入蒙砂液里进行蒙砂50秒；
(4)取出后用清水对玻璃基材进行第二次清洗；
(5)用荧光砂玻璃蚀刻粉进行蚀刻，荧光砂玻璃蚀刻粉在玻璃基材蚀刻后吸附在玻璃基材的表面并产生炫光效果；所述的荧光砂玻璃蚀刻粉由卤磷酸钙荧光粉和稀土荧光粉组成，该卤磷酸钙荧光粉50份，稀土荧光粉50份；
(6)将蒙砂和蚀刻后的玻璃基材放入抛光液里，取出后即得有闪光砂效果的玻璃基材成品。
所述的步骤(1)中的蒙砂液包括以下重量份的各组分：氢氟酸30％，硫酸钠5％，强酸35％，填料30％；按照配比称取各组分后进行混合搅拌均匀，熟化24小时，配成蒙砂液。
所述的步骤(6)中的抛光液为硫酸和氢氟酸的混合液，其中，硫酸的浓度为95％％，氢氟酸的浓度为50％％。
所述的强酸为硫酸与盐酸的混合液，所述硫酸浓度为95％，盐酸浓度为32％。
所述的填料为钛白粉。
基于上述工艺制备的玻璃基材具有颗粒均匀，手感细腻的特点，透光率为85，光泽度38。
实施例2：一种玻璃基材炫光闪光砂蚀刻效果成型工艺，包括以下步骤：
(1)配制蒙砂液并搅拌均匀进行熟化；
(2)将待蒙砂的玻璃基材用清水进行第一次清洗，同时对不需要蒙砂的玻璃基材面进行保护；
(3)将玻璃基材放入蒙砂液里进行蒙砂100秒；
(4)取出后用清水对玻璃基材进行第二次清洗；
(5)用荧光砂玻璃蚀刻粉进行蚀刻，荧光砂玻璃蚀刻粉在玻璃基材蚀刻后吸附在玻璃基材的表面并产生炫光效果；所述的荧光砂玻璃蚀刻粉由卤磷酸钙荧光粉和稀土荧光粉组成，该卤磷酸钙荧光粉65份，稀土荧光粉55份；
(6)将蒙砂和蚀刻后的玻璃基材放入抛光液里，取出后即得有闪光砂效果的玻璃基材成品。
所述的步骤(1)中的蒙砂液包括以下重量份的各组分：氢氟酸35％，硫酸钠10％，强酸35％，填料20％；按照配比称取各组分后进行混合搅拌均匀，熟化26小时，配成蒙砂液。
所述的步骤(6)中的抛光液为硫酸和氢氟酸的混合液，其中，硫酸的浓度为99％，氢氟酸的浓度为60％。
所述的强酸为硫酸与盐酸的混合液，所述硫酸浓度为98％，盐酸浓度为37％。
所述的填料为活性炭。
基于上述工艺制备的玻璃基材具有颗粒均匀，手感细腻的特点，透光率为82，光泽度33。
实施例3：一种玻璃基材炫光闪光砂蚀刻效果成型工艺，包括以下步骤：
(1)配制蒙砂液并搅拌均匀进行熟化；
(2)将待蒙砂的玻璃基材用清水进行第一次清洗，同时对不需要蒙砂的玻璃基材面进行保护；
(3)将玻璃基材放入蒙砂液里进行蒙砂200秒；
(4)取出后用清水对玻璃基材进行第二次清洗；
(5)用荧光砂玻璃蚀刻粉进行蚀刻，荧光砂玻璃蚀刻粉在玻璃基材蚀刻后吸附在玻璃基材的表面并产生炫光效果；所述的荧光砂玻璃蚀刻粉由卤磷酸钙荧光粉和稀土荧光粉组成，该卤磷酸钙荧光粉80份，稀土荧光粉60份；
(6)将蒙砂和蚀刻后的玻璃基材放入抛光液里，取出后即得有闪光砂效果的玻璃基材成品。
所述的步骤(1)中的蒙砂液包括以下重量份的各组分：氢氟酸31％，硫酸钠6％，强酸43％，填料20％；按照配比称取各组分后进行混合搅拌均匀，熟化30小时，配成蒙砂液。
所述的步骤(6)中的抛光液为硫酸和氢氟酸的混合液，其中，硫酸的浓度为99％，氢氟酸的浓度为60％。
所述的强酸为硫酸与盐酸的混合液，所述硫酸浓度为98％，盐酸浓度为37％。
所述的填料为氟化钙。
所得的高硼硅、高铝硅玻璃蒙砂颗粒均匀、手感细腻、防眩效果好，透光率约为81、光泽度约为37左右。
1.一种玻璃基材炫光闪光砂蚀刻效果成型工艺，其特征在于，包括以下步骤：
(1)配制蒙砂液并搅拌均匀进行熟化；
(2)将待蒙砂的玻璃基材用清水进行第一次清洗，同时对不需要蒙砂的玻璃基材面进行保护；
(3)将玻璃基材放入蒙砂液里进行蒙砂50～200秒；
(4)取出后用清水对玻璃基材进行第二次清洗；
(5)用荧光砂玻璃蚀刻粉进行蚀刻，荧光砂玻璃蚀刻粉在玻璃基材蚀刻后吸附在玻璃基材的表面并产生炫光效果；所述的荧光砂玻璃蚀刻粉由卤磷酸钙荧光粉和稀土荧光粉组成，该卤磷酸钙荧光粉50-80份，稀土荧光粉50-60份；
(6)将蒙砂和蚀刻后的玻璃基材放入抛光液里，取出后即得有闪光砂效果的玻璃基材成品。
2.根据权利要求1所述的一种玻璃基材炫光闪光砂蚀刻效果成型工艺，其特征在于，所述的步骤(1)中的蒙砂液包括以下重量份的各组分：氢氟酸30-35％，硫酸钠5-10％，强酸35-45％，填料20-30％；按照配比称取各组分后进行混合搅拌均匀，熟化24～30小时，配成蒙砂液。
3.根据权利要求1所述的一种玻璃基材炫光闪光砂蚀刻效果成型工艺，其特征在于，所述的步骤(6)中的抛光液为硫酸和氢氟酸的混合液，其中，硫酸的浓度为95％-99％，氢氟酸的浓度为50％-60％。
4.根据权利要求2所述的一种玻璃基材炫光闪光砂蚀刻效果成型工艺，其特征在于，所述的强酸为硫酸与盐酸的混合液，所述硫酸浓度为95～98％，盐酸浓度为32～37％。
5.根据权利要求2所述的一种玻璃基材炫光闪光砂蚀刻效果成型工艺，其特征在于，所述的填料为钛白粉、活性炭或氟化钙中的一种。