防滑易洁陶瓷砖的制备方法、干粒及制备方法及装饰层与流程

本发明属于陶瓷技术领域，特别涉及一种防滑易洁陶瓷砖的制备方法、干粒及制备方法、防滑易洁陶瓷砖装饰层。

背景技术：

陶瓷砖作为一种建筑装饰行业的重要产品，与人们的生活密切相关，随着生活水平的不断提高，消费者的安全防范意识日益增强，对陶瓷砖的装饰效果要求越来越高，产品的防滑、防污易洁等功能方面的诉求也逐渐增多。为此国家标准化管理委员会和行业协会不断制定和完善相关标准，2019年新颁布的gt/b37798～2019国标更是为陶瓷砖的防滑要求作了全面、系统的规范。行业因此特别关注和重视，众多的从业技术人员作了大量的技术研究和创新，并申报了一系列相关的专利，在提升陶瓷砖防滑性能方面国内同行取得了显著的成绩。但是目前这些技术也还存在一些不足：

1、釉面防滑但粗糙不易清洁。这一类产品在销售市场上占主流，该类产品通过改变釉面粗糙度的方法来提高陶瓷砖的防滑性能，如“cn201710600631”、“cn201710456741”、“cn201810110182”、“cn201811355965”、“cn201910343133”的发明专利其技术方案都是采用改变模面模具的设计、应用干粒和防滑粒子、提高装饰釉层的火度等方式提高釉面防滑性能，此类产品其不足之处主要为：⑴釉面粗糙，影响装饰使用的触感。该类产品主要是应用摩擦力原理进行止滑，所以肢体接触后会有一定的不适；⑵容易藏污不易清洁。公开号为cn201710600631的发明说明书，公开了一种防滑耐磨易洁陶瓷砖，包括从下至上依次设置的坯体层、面釉层、装饰层、防滑耐磨层和易洁保护层，其中防滑耐磨层主要由防滑耐磨颗粒制备而成，其不足之处是由于砖面不平，导致这一类产品极易藏污造成难清洁，按照gb/t23764标准进行测试，检测数据显示做到最好水平时油污残余量大于0.4g/㎡，高的已超过2g/㎡，所以该类产品普遍存在藏污现象；⑶防滑性能随着使用次数逐渐降低。由于这一类产品是通过表面粗糙度来产生止滑作用，当使用后磨损后表面粗糙度逐渐下降导致防滑性能降低。

2、釉面光滑易洁但防滑性能较低。这类产品表面光滑主要应用吸附力原理产生止滑作用，如公开号为cn201811430498的发明专利，公开了一种防滑陶瓷砖的制备方法，其技术方案是采用拨开墨水打印在装饰图案层表面再施抛釉，其不足之处是：⑴防滑效果不好。从公开的专利说明书中可知，其产品的干摩擦系数最高0.6，湿态下只有0.3～0.4，陶瓷砖在干态的情况下大部分产品的防滑性能都是可以满足使用需要的，湿态情况下则不然，容易摔倒、滑倒，所以防滑陶瓷砖的湿态防滑值在0.4以下止滑效果相对有限，公共场所普遍不能使用；⑵耐久性不佳。这一类产品使用以后，封闭气孔打开，一方面防污性能会下降，防滑性能也会受到影响。

技术实现要素：

本发明的目的是针对现有技术中存在的不足，提供一种解决了干粒面陶瓷砖因为干粒高温、颗粒粗(普通干粒粒径为0.075mm～0.25mm)带来的砖面粗糙问题的防滑易洁陶瓷砖的制备方法。本发明的另一目的是提供一种采用摩擦力与吸附力相结合的止滑作用原理，做到湿态防滑与干态相当且砖面易清洁的防滑易洁陶瓷砖的制备方法。本发明的再一目的是提供一种解决防滑陶瓷砖使用后防滑性能下降或不耐污问题的防滑易洁陶瓷砖的制备方法。

本发明的第一技术解决方案是所述陶瓷砖用干粒，其特殊之处在于，所述陶瓷砖用干粒由以下重量百分比的组分组成：

作为优选：所述陶瓷砖用干粒由以下重量百分比的组分组成：

本发明的第二技术解决方案是所述制备干粒釉料用的溶剂，其特殊之处在于，所述溶剂由以下重量份组成：

水60～80份球土3～5份消泡剂1～3份

聚丙烯酸钠盐1～2份羧甲基纤维素钠3～5份

消泡剂为gpe型聚氧乙烯聚氧丙烯甘油醚。

作为优选：所述陶瓷砖用干粒,进一步由以下重量百分比的组分组成：

水72份球土3份消泡剂1.5份

聚丙烯酸钠盐1.1份羧甲基纤维素钠4份乙二醇5份

防腐剂0.5份

消泡剂为gpe型聚氧乙烯聚氧丙烯甘油醚。

本发明的第三技术解决方案是所述陶瓷砖用干粒的制备方法，其特殊之处在于，包括以下步骤：

⑴将干粒配方中的各原料按预设的重量百分比混合均匀，在1300℃～1500℃下熔融；

⑵经水淬、干燥、破碎、球磨、过筛分级后得到粒径为d10＜1μm、d50＜5μm、d90＜20μm的干粒。

本发明的第四技术解决方案是所述防滑易洁陶瓷砖的制备方法，其特殊之处在于，包括以下步骤：

⑴喷/淋装饰底釉/数码底釉；

⑵釉线干燥或不干燥：釉线干燥根据生产条件和需要来决定，其中釉线干燥的实现方式择一或混合用：釉线电红外干燥、燃气红外干燥、微波干燥、卧式干燥；

⑶进行包括平板、胶辊、喷墨装饰的综合组合装饰；

⑷釉线干燥或不干燥：釉线干燥根据生产条件和需要来决定，其中釉线干燥的实现方式择一或混合用：釉线电红外干燥、燃气红外干燥、微波干燥、卧式干燥；

⑸喷/淋/干粒釉或布干粒；

⑹入窑烧成；

⑺抛光。

本发明的第五技术解决方案是所述防滑易洁陶瓷砖装饰层，其特殊之处在于，由以下各层：砖坯层、底釉层、图案装饰层、干粒釉层制成复合层结构。

与现有技术相比，本发明的有益效果:

⑴本发明的高温超细干粒单独使用或配合溶剂制成干粒釉使用所得到的产品经金刚石粗抛处理后釉面平滑易清洁且具有良好的防滑性能。

⑵本发明的陶瓷砖在干态下，从实施案例的美标dcof和国标静摩擦系数的检测值可以看出，可以达到非常好的效果。这主要是高温超细干粒经金刚石粗抛处理后，由于干粒硬度大、抛光磨块又是目数较粗的模块，抛光处理后砖面整体平滑但每一个细小的局部形成了类似蜂窝状的结构，当物体与陶瓷砖面接触时产生摩擦阻力产生止滑作用。

⑶本发明的陶瓷砖具有遇水防滑的性能，从实施例的静摩擦系数检测值可以看出，一般的防滑砖干态比湿态的静摩擦系数要高0.2以上，该发明的陶瓷砖两者非常接近，这主要是高温超细干粒经金刚石粗抛处理后，由于干粒硬度大、抛光磨块又是目数较粗的模块，抛光处理后砖面整体平滑但每一个细小的局部形成了类似蜂窝状的结构，湿态情况下蜂窝状开口被水封闭，当物体与光滑的陶瓷砖接触产生作用力时，形成具有吸盘效果的相互作用力从而使得摩擦系数增大。

⑷本发明的陶瓷砖在干湿相间态下(所谓干湿相间是设计干湿相间的砖面，干湿面积比分别为2：1、1：1和1：2，分别采用美标和国标进行检测)，从实施案例的美标dcof和国标静摩擦系数的检测值可以看出，可以达到与干态接近的防滑值,这主要是在干湿相间的情况下砖面既有摩擦力产生的止滑也有吸附力产生的止滑作用，在现实生活中更多的是干湿相间的状态，该发明在干湿相间的情况下防滑效果与干态相当。

⑸本发明的陶瓷砖的防滑性能随着使用次数防滑值会逐渐提高，因为陶瓷砖经使用后光滑面不断被磨损变粗糙。

⑹本发明的陶瓷砖的防污性能使用后不会下降，因为所发明的干粒经高温烧制后气孔率非常低(吸水率在0.01％以下)。

附图说明

图1是本发明防滑易洁陶瓷砖装饰层的层状结构示意图；

图2是本发明防滑易洁陶瓷砖的制备方法的工艺流程图。

具体实施方式

本发明下面将结合实施例作进一步详述：

请参阅图1所示，防滑易洁陶瓷砖装饰层，由以下各层：砖坯层、底釉层、图案装饰层、干粒釉层制成复合层结构。

实施例1

普通水性底釉，采用淋干粒釉工艺，具体实施方案如下：

1)淋底釉；

砖坯经过圆盘钟罩淋一道装饰底釉，装饰底釉釉量：610～620g/㎡,比重：1.78～1.80，淋釉流速：25～30s；

2)平板、胶辊、喷墨装饰等综合组合装饰；

3)圆盘钟罩淋一道干粒釉，干粒釉的配置使用步骤①提供的干粒与步骤②提供的溶剂按重量百分比干粒100份、溶剂50份混合搅拌均匀，釉量：420～430g/㎡；

4)入窑烧成；

5)抛光；抛光时，采用金刚石粗抛技术，烧制好的陶瓷砖经过低目数弹性磨块进行抛光。本实施例中，采用模块排列，按200×2组弹性模块、400×2组弹性模块、600×4刷子模块，进行表面抛光处理，抛光处理时在保证砖面光度均匀的情况下尽量浅抛。

实施例2

普通水性底釉，采用喷干粒釉工艺，具体实施方案如下：

1)淋底釉；

砖坯经过圆盘钟罩淋一道装饰底釉，装饰底釉釉量：610～620g/㎡,比重：1.78～1.80，淋釉流速：25～30s；

2)平板、胶辊、喷墨装饰等综合组合装饰；

3)高压喷枪喷一道干粒釉，釉泵最大工作压力20bar，配置6支喷枪，按z字型错位排列，喷嘴别孔径搭配及排列(从进砖至出砖)：0.62、0.62、0.52、0.52、0.43、0.43；

干粒釉的配置，使用步骤①提供的干粒与步骤②提供的溶剂按重量百分比干粒100份、溶剂50份混合搅拌均匀，釉量：360～370g/㎡；

4)入窑烧成；

5)抛光；抛光时，采用金刚石粗抛技术，烧制好的陶瓷砖经过低目数弹性磨块进行抛光。本实施例中，采用模块排列，按400×2组弹性模块、600×4刷子模块，进行表面抛光处理，抛光处理时在保证砖面光度均匀的情况下尽量浅抛。

实施例3

普通水性底釉，布干粒工艺，具体实施方案如下：

1)淋底釉；

砖坯经过圆盘钟罩淋一道装饰底釉，装饰底釉釉量：610～620g/㎡,比重：1.78～1.80，淋釉流速：25～30s；

2)平板、胶辊、喷墨装饰等综合组合装饰；

3)干粒机干法布干粒，干粒量：150～160g/㎡；

4)喷固定剂，80～85g/㎡；

5)干燥；干燥的实现方式包括釉线电红外干燥、燃气红外干燥、微波干燥、卧式干燥等多种干燥方式。

6)入窑烧成；

7)抛光；抛光时，采用金刚石粗抛技术，烧制好的陶瓷砖经过低目数弹性磨块进行抛光。本实施例中，采用模块排列，按200×2组弹性模块、400×4组弹性模块、600×6刷子模块，进行表面抛光处理，抛光处理时在保证砖面光度均匀的情况下尽量浅抛。

实施例4

喷墨机喷数码底釉，采用淋干粒釉工艺，具体实施方案如下：

1)喷数码底釉；

采用喷墨机喷涂，釉量：60～70g/㎡；

2)干燥；干燥的实现方式包括釉线电红外干燥、燃气红外干燥、微波干燥、卧式干燥等多种干燥方式；

3)数码喷墨机喷印装饰图案；

4)圆盘钟罩淋一道干粒釉，干粒釉的配置使用步骤①提供的干粒与步骤②提供的溶剂按重量百分比干粒100份、溶剂50份混合搅拌均匀，釉量：420～430g/㎡；

5)入窑烧成；

6)抛光；抛光时，采用金刚石粗抛技术，烧制好的陶瓷砖经过低目数弹性磨块进行抛光。本实施例中，采用模块排列，按200×2组弹性模块、400×2组弹性模块、600×4刷子模块，进行表面抛光处理，抛光处理时在保证砖面光度均匀的情况下尽量浅抛。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明权利要求范围所做的均等变化与修饰，皆应属本发明权利要求的涵盖范围。