技术特征：
1.一种荧光陶瓷的制备方法，所述荧光陶瓷为m3-xal5o12 :xce3+，其中m为lu、gd、y中的一种或多种，0.005≤x≤0.2，其制备方法包括如下步骤：（1）按化学式中m、al和ce离子的化学计量比称取反应原料，加入球磨罐中；并加入去离子水、分散剂和球磨珠，在60~120r/min下球磨2~8h；（2）将步骤（1）的浆料滤出球磨珠，将滤出的浆料单独放置备用；（3）称量粘结剂和塑性剂，并缓慢加入步骤（2）的浆料中，用搅拌器缓慢搅拌30min，用100目滤网过滤出浆料；（4）将步骤（3）得到的浆料进行真空除泡，得到流延浆料；采用流延工艺将浆料流延成3~400 μ m厚的陶瓷膜，并切片保存；（5）取几片步骤（4）的陶瓷膜进行叠层，再用压力为30~300mpa等冷静压2~20min，得到陶瓷坯体；（6）将陶瓷坯体在800~1000℃进行排胶，再放置1550℃还原气氛炉中还原2-10h，取出，抛光，即得荧光陶瓷。2.根据权利要求1所述的荧光陶瓷制备方法，其中步骤（1）所述反应原料中，m对应的反应原料选自lu、gd、y的氧化物。3.根据权利要求1所述的荧光陶瓷制备方法，其中步骤（1）所述添加的去离子水，含量为30~55wt%。4.根据权利要求1所述的荧光陶瓷制备方法，其中步骤（3）所述添加的分散剂为paa，含量为0.5~10wt%。5.根据权利要求1所述的荧光陶瓷制备方法，其中步骤（3）所述添加的粘结剂为pva，含量4~38wt%。6.根据权利要求1所述的荧光陶瓷制备方法，其中步骤（3）所述添加的塑性剂为丙二醇，含量2~12wt%。7.根据权利要求1所述的荧光陶瓷制备方法，其中步骤（6）所述还原气氛的组成为：h2或co：5~100%，n2或ar：0~95%。