本发明涉及陶瓷表面处理，尤其涉及一种提高陶瓷光泽度的工艺方法。
背景技术：
1、日用瓷是日常生活中使用的一种瓷器。瓷器是一种由瓷石、高岭土、石英石、莫来石等组成，外表施有玻璃质釉或彩绘的物器。瓷器的成形要通过在窑内经过高温烧制，瓷器表面的釉色会因为温度的不同从而发生各种化学变化。其中，透明釉能够通过釉层可以看见釉下坯体的颜色以及各种雕刻和彩饰的釉。
2、随着日用陶瓷颜色越来越繁多、装饰效果强，对透明釉料的光泽度提出了更高的要求。
技术实现思路
1、(一)解决的技术问题
2、针对现有技术的不足，本发明提供了一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，能够提高瓷器在烧成之后的光泽度，提高瓷器在使用过程中的美观，用于解决现有技术中随着日用陶瓷颜色越来越繁多、装饰效果强，对透明釉料的光泽度提出了更高的要求的问题。
3、(二)技术方案
4、为实现上述提高瓷器在烧成之后的光泽度，提高瓷器在使用过程中的美观的目的，本发明提供如下技术方案：一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，包括以下步骤：
5、s1，按照一定的份数原材料制成透明釉，获得釉料；
6、s2、将制备好的釉料静置0.5-3天，在静置的过程中将釉料分为一次釉料和二次釉料；
7、s3、利用陶瓷坯料制作为素坯，素坯在前处理之后进入窑炉中进行一次烧制；
8、s4、将烧制好的素坯拉出，进行静置冷却；
9、s5、将冷却后的素坯外表面进打磨，增加其表面的光滑度；
10、s6、之后将素坯需要进行上釉的部位喷水，之后进行一次上釉；
11、s7、在一次上釉稍微晾干之后，再次对一次上釉之后的本体进行二次上釉；
12、s8、在上釉完成之后将素坯放置今日窑炉内部对其进行二次烧制，烧制完成之后将其取出冷却。
13、在一种可能的实施方式中，在s1中，原材料包括：石英5-20份、长石10-18份、单晶花岗岩7-10份、大理石3-8份、高岭土5-11份、粘土8-13份、粉碎的废瓷片5-15份、萤石0-3份以及冰晶0-6份。
14、在一种可能的实施方式中，将原料按照份数进行球磨，原料：球：水的比例为1:1.7-1.9：0.8-1.4，制成釉料，对釉料进行过筛。
15、在一种可能的实施方式中，在s2中，进行静置的过程中，将位于料桶上层的釉料取出，成为二次釉料，留在料桶下层的釉料为一次釉料。
16、在一种可能的实施方式中，在s5中，对素坯的外表面进行处理，打磨表面粗糙的部位，打磨目数为800目、1000目或600目。
17、在一种可能的实施方式中，在s6中，进行一次上釉时采用一次釉料，一次釉料在进行上釉时搅拌均匀，使其沉淀物进行混合。
18、在一种可能的实施方式中，在s7中，进行二次上釉时采用二次釉料，二次釉料内部的沉淀物较少，在进行上釉之前也需要进行搅拌混合。
19、在一种可能的实施方式中，在进行一次上釉时，采用浸釉法进行上釉，在上釉之后晾干，二次上釉为喷釉法，在进行喷釉之前应当使一次上釉的釉料晾干到不会受到喷油气流的影响的状态。
20、在一种可能的实施方式中，一次烧制的温度为1250-1300℃，二次烧结的温度为750-800℃。
21、与现有技术相比，本发明提供了一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，具备以下有益效果：
22、本发明通过对烧结而成的素坯进行修整，使其的表面光滑度增加，利用修整打磨之后的素坯进行上釉，能够对其釉色所产生的外表面光泽度进行提升，利用两次上釉，保证其外表面的光泽度，且烧制而成的釉色厚重，进而提升在使用过程中的美观性，利用成为釉料之后对进行分别处理获得的两种釉料，能够进行一次以及二次上釉，利用釉料在处理之后细度不同的方式来保证最后上釉之后外表面的光泽度。
1.一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，其特征在于，在s1中，原材料包括：石英5-20份、长石10-18份、单晶花岗岩7-10份、大理石3-8份、高岭土5-11份、粘土8-13份、粉碎的废瓷片5-15份、萤石0-3份以及冰晶0-6份。
3.根据权利要求2所述的一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，其特征在于，将原料按照份数进行球磨，原料：球：水的比例为1:1.7-1.9：0.8-1.4，制成釉料，对釉料进行过筛。
4.根据权利要求1所述的一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，其特征在于，在s2中，进行静置的过程中，将位于料桶上层的釉料取出，成为二次釉料，留在料桶下层的釉料为一次釉料。
5.根据权利要求1所述的一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，其特征在于，在s5中，对素坯的外表面进行处理，打磨表面粗糙的部位，打磨目数为800目、1000目或600目。
6.根据权利要求1所述的一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，其特征在于，在s6中，进行一次上釉时采用一次釉料，一次釉料在进行上釉时搅拌均匀，使其沉淀物进行混合。
7.根据权利要求6所述的一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，其特征在于，在s7中，进行二次上釉时采用二次釉料，二次釉料内部的沉淀物较少，在进行上釉之前也需要进行搅拌混合。
8.根据权利要求7所述的一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，其特征在于，在进行一次上釉时，采用浸釉法进行上釉，在上釉之后晾干，二次上釉为喷釉法，在进行喷釉之前应当使一次上釉的釉料晾干到不会受到喷油气流的影响的状态。
9.根据权利要求1所述的一种提高陶瓷光泽度的工艺方法，其特征在于，一次烧制的温度为1250-1300℃，二次烧结的温度为750-800℃。