本发明涉及靶材烧结,尤其涉及一种平面ito靶材叠烧方法。
背景技术:
1、 ito靶材属于铟锡复合氧化物陶瓷,是一种重要的光电功能材料,常作为磁控溅射靶材在玻璃、塑料等基板材料上制备透明导电膜,用于生产液晶显示器、触摸屏等平板显示设备。
2、目前,ito靶材有二种,一种是平面氧化铟锡靶材,一种是旋转氧化铟锡靶材,ito平面靶材,经过一次二次成型后需要进行烧结,随着现在生产液晶显示器、触摸屏等平板显示设备产业不断兴起,平面ito需求量不断增加,在规定的时间内生产一批ito平面靶材,若采用原本的烧结模式,需要的烧结炉数量急剧增加,烧结成本也随着重新购入烧结炉而增加,因此亟需一种新的平面靶材烧结方法。
技术实现思路
1、有鉴于此,本发明的目的在于提出一种平面ito靶材叠烧方法,以解决烧结炉需求量急剧增加及烧结成本增加的问题。
2、基于上述目的,本发明提供了一种平面ito靶材叠烧方法,包括:
3、在支撑板上摆放多排垫片,并撒上第一承烧介质;将一片中间靶材放置在垫片上,并在中间靶材上撒上承烧体,得到烧结基体;将另一片中间靶材放置在烧结基体上,得到烧结体;将多个烧结体放入烧结炉内进行烧结,得到平面ito靶材。
4、可选的,所述将一片中间靶材放置在垫片上,并在中间靶材上撒上承烧体,得到烧结基体,包括:
5、将一片中间靶材放置在垫片上,并在中间靶材上均匀撒上第二承烧介质,得到中间基体;在中间基体上均匀撒上第三承烧介质,得到烧结基体。
6、可选的,所述垫片为氧化铝垫片。
7、可选的,每排所述垫片之间留有间隙。
8、可选的,所述第一承烧介质为白刚玉砂。
9、可选的,所述第二承烧介质为回收的粗氧化锆粉末,所述第三承烧介质为用筛网筛取的细的氧化锆粉末。
10、本发明的有益效果:第一承烧介质和承烧体的熔点和使用温度均高于靶材的熔点,并且不与靶材反应,在靶材与靶材之间撒上承烧体,防止靶材在烧结时烧结在一起,并且在一次烧结中,通过将多个靶材进行叠加烧结,一炉的烧结量相当于原来的多炉,从而极大的减少烧结炉使用量及烧结成本,提高了生产效率。
1.一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,所述将一片中间靶材(4)放置在垫片(2)上,并在中间靶材(4)上撒上承烧体(5),得到烧结基体,包括:
3.根据权利要求1所述的一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,所述垫片(2)为氧化铝垫片。
4.根据权利要求1所述的一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,每排所述垫片(2)之间留有间隙。
5.根据权利要求1所述的一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,所述第一承烧介质(3)为白刚玉砂。
6.根据权利要求2所述的一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,所述第二承烧介质为回收的粗氧化锆粉末,所述第三承烧介质为用筛网筛取的细的氧化锆粉末。