一种平面ITO靶材叠烧方法与流程

文档序号:34886910发布日期:2023-07-25 16:15阅读:38来源:国知局
一种平面ITO靶材叠烧方法与流程

本发明涉及靶材烧结,尤其涉及一种平面ito靶材叠烧方法。


背景技术:

1、 ito靶材属于铟锡复合氧化物陶瓷,是一种重要的光电功能材料,常作为磁控溅射靶材在玻璃、塑料等基板材料上制备透明导电膜,用于生产液晶显示器、触摸屏等平板显示设备。

2、目前,ito靶材有二种,一种是平面氧化铟锡靶材,一种是旋转氧化铟锡靶材,ito平面靶材,经过一次二次成型后需要进行烧结,随着现在生产液晶显示器、触摸屏等平板显示设备产业不断兴起,平面ito需求量不断增加,在规定的时间内生产一批ito平面靶材,若采用原本的烧结模式,需要的烧结炉数量急剧增加,烧结成本也随着重新购入烧结炉而增加,因此亟需一种新的平面靶材烧结方法。


技术实现思路

1、有鉴于此,本发明的目的在于提出一种平面ito靶材叠烧方法,以解决烧结炉需求量急剧增加及烧结成本增加的问题。

2、基于上述目的,本发明提供了一种平面ito靶材叠烧方法,包括:

3、在支撑板上摆放多排垫片,并撒上第一承烧介质;将一片中间靶材放置在垫片上,并在中间靶材上撒上承烧体,得到烧结基体;将另一片中间靶材放置在烧结基体上,得到烧结体;将多个烧结体放入烧结炉内进行烧结,得到平面ito靶材。

4、可选的,所述将一片中间靶材放置在垫片上,并在中间靶材上撒上承烧体,得到烧结基体,包括:

5、将一片中间靶材放置在垫片上,并在中间靶材上均匀撒上第二承烧介质,得到中间基体;在中间基体上均匀撒上第三承烧介质,得到烧结基体。

6、可选的,所述垫片为氧化铝垫片。

7、可选的,每排所述垫片之间留有间隙。

8、可选的,所述第一承烧介质为白刚玉砂。

9、可选的,所述第二承烧介质为回收的粗氧化锆粉末,所述第三承烧介质为用筛网筛取的细的氧化锆粉末。

10、本发明的有益效果:第一承烧介质和承烧体的熔点和使用温度均高于靶材的熔点,并且不与靶材反应,在靶材与靶材之间撒上承烧体,防止靶材在烧结时烧结在一起,并且在一次烧结中,通过将多个靶材进行叠加烧结,一炉的烧结量相当于原来的多炉,从而极大的减少烧结炉使用量及烧结成本,提高了生产效率。



技术特征:

1.一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,所述将一片中间靶材(4)放置在垫片(2)上,并在中间靶材(4)上撒上承烧体(5),得到烧结基体,包括:

3.根据权利要求1所述的一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,所述垫片(2)为氧化铝垫片。

4.根据权利要求1所述的一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,每排所述垫片(2)之间留有间隙。

5.根据权利要求1所述的一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,所述第一承烧介质(3)为白刚玉砂。

6.根据权利要求2所述的一种平面ito靶材叠烧方法,其特征在于,所述第二承烧介质为回收的粗氧化锆粉末,所述第三承烧介质为用筛网筛取的细的氧化锆粉末。


技术总结
本发明涉及靶材烧结技术领域,具体涉及一种平面ITO靶材叠烧方法,包括:在支撑板上摆放多排垫片,并撒上第一承烧介质;将一片中间靶材放置在垫片上,并在中间靶材上撒上承烧体,得到烧结基体;将另一片中间靶材放置在烧结基体上,得到烧结体;将多个烧结体放入烧结炉内进行烧结,得到平面ITO靶材,本发明设置的第一承烧介质和承烧体的熔点和使用温度均高于靶材的熔点,并且不与靶材反应,在靶材与靶材之间撒上承烧体,防止靶材在烧结时烧结在一起,并且在一次烧结中,通过将多个靶材进行叠加烧结,一炉的烧结量相对于原来的多炉,从而极大的减少烧结炉使用量及烧结成本,提高了生产效率。

技术研发人员:陈光园,曾探,曾墩风,王志强,马建保
受保护的技术使用者:芜湖映日科技股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/13
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