校准安装支架和长晶装置的制作方法

本技术涉及校准，尤其是涉及一种校准安装支架和长晶装置。

背景技术：

1、随着半导体市场的迅速发展，对半导体晶圆的需求越来越大；目前，国内外还是以直拉法生产半导体晶圆为主，在直拉法生产过程中，通常采用相机等来测量晶棒直径、监测液面位置等，从而控制拉晶工艺。

2、相关技术中，采用双目相机实现对长晶过程中相关参数的监测，双目相机相对于单目相机来说优势更加明显，单目相机需要在长晶炉的炉腔内设置标的物，同时要求视野角大，会影响到水冷组件的长度，从而影响拉晶效率；而双目相机不需要在炉腔内设置标的物，对水冷组件的长度影响小，双目相机需要在长晶炉上进行校准后才能应用于拉晶，但是校准时需要开炉，费时费力，校准难度较大。

技术实现思路

1、本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种校准安装支架，所述校准安装支架可以模拟被校准结构的实际应用场景，实现炉外校准，降低校准难度，提升校准准确性。

2、本实用新型还提出一种具有上述校准安装支架的长晶装置。

3、根据本实用新型第一方面实施例的校准安装支架，包括：底座；支架，所述支架设于所述底座，且所述支架具有安装部，所述安装部相对于竖直方向倾斜设置且用于安装被校准结构；校准板，所述校准板设于所述底座且位于所述安装部的下方，所述校准板的上表面具有校准标识，所述校准标识构造成能被安装于所述安装部的所述被校准结构识别；调节锁定机构，所述调节锁定机构设于所述底座，所述调节锁定机构用于调节所述校准板的高度位置，并将所述校准板锁定在多个上下间隔设置的预设高度位置，相邻两个预设高度位置之间的高度差为预设值。

4、根据本实用新型实施例的校准安装支架，通过设置调节锁定机构，以用于调节并锁定校准板的高度位置，且校准板上的校准标识能被安装于安装部的被校准结构识别，以便通过改变校准板的高度位置，实现对被校准结构的校准，从而在被校准结构校准后能用于实际使用场景中；而且，安装于校准安装支架的被校准结构在被校准时，可以模拟被校准结构的实际使用场景，实现在长晶炉外校准，降低了校准的难度，提升校准准确性。

5、在一些实施例中，调节锁定机构包括调节组件和测量组件，调节组件构造成使校准板的高度位置可连续调节并可被实时锁定，测量组件用于测量校准板的高度变化量，以使相邻两个预设高度位置之间的高度差为预设值，测量组件包括测量尺和与测量尺上下滑移配合的游标，游标与校准板固定，测量尺用于测量游标的高度变化量；或者，调节锁定机构构造成使校准板的高度位置可连续调节并在预设高度位置时可被锁定。

6、在一些实施例中，所述支架安装于所述底座的上表面，所述校准板通过所述调节锁定机构安装于所述底座的上表面，所述校准安装支架还包括：第一调平机构，所述第一调平机构用于将所述底座的上表面调节至水平设置。

7、在一些实施例中，所述底座包括：支撑板，所述支撑板形成为多边形板且具有多个间隔设置的边角部；支撑脚，所述支撑脚设于所述支撑板的下侧，每个所述边角部分别设有支撑脚，所述第一调平机构包括多个间隔设置的升降地脚，每个所述支撑脚的下端分别设有所述升降地脚。

8、在一些实施例中，所述校准安装支架还包括：第二调平机构，所述第二调平机构设于所述校准板和所述调节锁定机构之间，以使所述调节锁定机构通过所述第二调平机构调节所述校准板的高度位置，所述第二调平机构用于将所述校准板的上表面调节至水平设置。

9、在一些实施例中，所述调节锁定机构安装于所述底座上侧，所述第二调平机构包括第一安装架、第一固定螺栓和第一调节螺栓，且所述第一安装架形成有多个间隔设置的第一安装孔，所述第一调节螺栓螺纹配合于对应所述第一安装孔，以使所述第一调节螺栓向上伸出所述第一安装孔的长度可调，所述第一调节螺栓的上端与所述校准板止抵，且所述第一调节螺栓形成有第一通孔，所述第一固定螺栓穿设于所述第一通孔且与所述第一调节螺栓滑移配合，所述第一固定螺栓的上端与所述校准板固定，其中，所述调节锁定机构与所述第一安装架相连以调节所述第一安装架的高度位置。

10、在一些实施例中，所述调节锁定机构包括测量组件，所述测量组件包括测量尺和与所述测量尺上下滑移配合的游标，所述游标与所述第二调平机构固定，所述测量尺用于测量所述游标的高度变化量。

11、在一些实施例中，所述校准安装支架还包括：第三调平机构，所述第三调平机构设于所述调节锁定机构和所述底座之间，且用于将所述调节锁定机构调节至水平设置，所述第三调平机构与所述第二调平机构在水平方向上错位设置。

12、在一些实施例中，所述第三调平机构安装于所述底座的上表面，且包括第二安装架、第二固定螺栓和第二调节螺栓，所述调节锁定机构安装于所述第二安装架，所述第二安装架围绕所述第二调平机构设置且形成有多个间隔设置的第二安装孔，所述第二调节螺栓螺纹配合于对应所述第二安装孔，以使所述第二调节螺栓向下伸出所述第二安装孔的长度可调，所述第二调节螺栓的下端与所述底座的上表面止抵，且所述第二调节螺栓形成有第二通孔，所述第二固定螺栓穿设于所述第二通孔且与所述第二调节螺栓滑移配合，所述第二固定螺栓的下端与所述底座固定。

13、根据本实用新型第二方面实施例的长晶装置，包括：长晶炉，所述长晶炉上形成有观察口；校准安装支架，所述校准安装支架为根据本实用新型上述第一方面实施例的校准安装支架；被校准结构，所述被校准结构适于在所述校准安装支架上校准后安装在所述观察口处，所述被校准结构为双目相机且用于监测所述长晶炉内的熔汤液面位置。

14、根据本实用新型实施例的长晶装置，通过采用上述的校准安装支架，实现了双目相机的炉外校准，校准便利，提升双目相机的使用可靠性。

15、本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

技术特征：

1.一种校准安装支架，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的校准安装支架，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的校准安装支架，其特征在于，所述支架安装于所述底座的上表面，所述校准板通过所述调节锁定机构安装于所述底座的上表面，

4.根据权利要求3所述的校准安装支架，其特征在于，所述底座包括：

5.根据权利要求1-4中任一项所述的校准安装支架，其特征在于，所述校准安装支架还包括：

6.根据权利要求5所述的校准安装支架，其特征在于，所述调节锁定机构安装于所述底座上侧，

7.根据权利要求5所述的校准安装支架，其特征在于，所述调节锁定机构包括测量组件，所述测量组件包括测量尺和与所述测量尺上下滑移配合的游标，所述游标与所述第二调平机构固定，所述测量尺用于测量所述游标的高度变化量。

8.根据权利要求5的所述校准安装支架，其特征在于，所述校准安装支架还包括：

9.根据权利要求8所述的校准安装支架，其特征在于，所述第三调平机构安装于所述底座的上表面，且包括第二安装架、第二固定螺栓和第二调节螺栓，所述调节锁定机构安装于所述第二安装架，所述第二安装架围绕所述第二调平机构设置且形成有多个间隔设置的第二安装孔，所述第二调节螺栓螺纹配合于对应所述第二安装孔，以使所述第二调节螺栓向下伸出所述第二安装孔的长度可调，所述第二调节螺栓的下端与所述底座的上表面止抵，且所述第二调节螺栓形成有第二通孔，所述第二固定螺栓穿设于所述第二通孔且与所述第二调节螺栓滑移配合，所述第二固定螺栓的下端与所述底座固定。

10.一种长晶装置，其特征在于，包括：

技术总结
本技术公开了一种校准安装支架和长晶装置，校准安装支架包括底座、支架、校准板和调节锁定机构，支架设于底座，且支架具有安装部，安装部相对于竖直方向倾斜设置且用于安装被校准结构，校准板设于底座且位于安装部的下方，校准板的上表面具有校准标识，校准标识构造成能被安装于安装部的被校准结构识别，调节锁定机构设于底座，调节锁定机构用于调节校准板的高度位置，并将校准板锁定在多个上下间隔设置的预设高度位置，相邻两个预设高度位置之间的高度差为预设值。根据本技术的校准安装支架，可以模拟被校准结构的实际应用场景，实现炉外校准，降低校准难度，提升校准准确性。

技术研发人员：宋涛,汪佳,王晓明,张龙飞
受保护的技术使用者：中环领先（徐州）半导体材料有限公司
技术研发日：20230830
技术公布日：2024/4/7