生长源管路系统和外延生长设备的制作方法

文档序号:41799520发布日期:2025-05-06 16:57阅读:21来源:国知局

本发明涉及外延生长制造领域,尤其是涉及一种生长源管路系统和外延生长设备。


背景技术:

1、在将生长源通入外延生长反应设备之前,通常需要保证生长源的流量稳定,从而使外延层生长均匀。相关技术中,用于外延生长设备的生长源管路系统,通常将每一个生长源输送管对应一个排放管,在将生长源通入生长源输送管之前,先通入对应的排放管,待该生长源流量稳定后,再切换阀门,将生长源通入到生长源输送管中。

2、通常,薄膜的生长是需要通过多种生长源气体反应,生长源管路系统中需要包括多个生长源输送管以分别输送多种生长源气体,每种生长源气体都设置单独的排放管,导致管路数量较多管路系统复杂;并且,每个生长源输送管和每个排放管中都需要通入载气,由于管路数量较多,载气使用量较大,造成载气的浪费。因此,需要改进。


技术实现思路

1、本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明的一个目的在于提出一种生长源管路系统,生长源管路系统包括载气供气管、排放管和多个生长源输送管,通过使每个生长源供气管均与同一排放管连接,使得管路数量减少,管路排布更加简单,生长源管路系统占据空间更小,节约空间;并且,通过减少管路的数量,可以减少载气的使用量,降低成本。

2、本发明还提出了一种包括上述生长源管路系统的外延生长设备。

3、载气供气管,用于输送载气;排放管,所述排放管的一端与所述载气供气管连接,所述排放管的另一端形成为排放口;多个生长源输送管,每个所述生长源输送管的一端与所述载气供气管连接,且每个所述生长源输送管的另一端用于与反应腔体连接;多个生长源供气管,多个所述生长源供气管与多个所述生长源输送管的数量相同且分别一一对应,每个所述生长源供气管与对应的所述生长源输送管连接,且每个所述生长源供气管均与同一所述排放管连接。

4、根据本发明实施例的生长源管路系统,包括载气供气管、排放管和多个生长源输送管,通过使每个生长源供气管均与同一排放管连接,使得管路数量减少,管路排布更加简单,生长源管路系统占据空间更小,节约空间;并且,通过减少管路的数量,可以减少载气的使用量,降低成本。

5、根据本发明的一些实施例,每个所述生长源供气管包括供气主管、第一供气支管、第二供气支管以及三通阀,所述三通阀具有进口、第一出口和第二出口,所述供气主管与所述进口连接,所述第一供气支管的一端与所述第一出口连接,所述第一供气支管的另一端与对应的所述生长源输送管连接,所述第二供气支管的一端与所述第二出口连接,所述第二供气支管的另一端与所述排放管连接。

6、根据本发明的一些实施例,所述三通阀为三通隔膜阀;和/或,每个所述生长源供气管的所述供气主管设有第四质量流量控制器,所述第四质量流量控制器位于对应的所述三通阀的上游侧。

7、根据本发明的一些实施例,每个所述生长源输送管设有第一质量流量控制器,所述生长源供气管与对应的所述生长源输送管的连接位置为输送连接位置,在所述生长源输送管内气体的流动方向上,所述第一质量流量控制器位于所述输送连接位置的上游侧;

8、所述排放管设有第二质量流量控制器,所述生长源供气管与所述排放管的连接位置为排放连接位置,在所述排放管内气体的流动方向上,所述第二质量流量控制器位于所有所述排放连接位置的上游侧。

9、根据本发明的一些实施例,每个所述生长源输送管设有第三质量流量控制器,所述生长源供气管与对应的所述生长源输送管的连接位置为输送连接位置,在所述生长源输送管内气体的流动方向上,所述第三质量流量控制器位于所述输送连接位置的下游侧;和/或,每个所述生长源供气管设有第四质量流量控制器。

10、根据本发明的一些实施例,每个所述生长源输送管设有第一压力控制器,所述生长源供气管与对应的所述生长源输送管的连接位置为输送连接位置,在所述生长源输送管内气体的流动方向上,所述第一压力控制器位于所述输送连接位置的下游侧;

11、所述排放管设有第二压力控制器,所述生长源供气管与所述排放管的连接位置为排放连接位置,在所述排放管内气体的流动方向上,所述第二压力控制器位于所有所述排放连接位置的下游侧。

12、根据本发明的一些实施例,每个所述生长源输送管设有第三质量流量控制器,在所述生长源输送管内气体的流动方向上,所述第三质量流量控制器位于所述压力控制器的下游侧。

13、根据本发明的一些实施例,多个所述生长源输送管沿第一方向排布,所述排放管位于多个所述生长源输送管沿第一方向的一侧,所述生长源输送管以及所述排放管均沿第二方向延伸,所述第二方向与所述第一方向相交,所述载气输送管和所述反应腔体位于所述生长源输送管沿第二方向的两侧。

14、根据本发明的一些实施例,多个所述生长源供气管沿所述第二方向排布。

15、根据本发明第二方面实施例的外延生长设备,包括:根据本发明第一方面实施例的生长源管路系统。

16、根据本发明实施例的外延生长设备,通过包括根据本发明第一方面实施例的生长源管路系统,生长源管路系统的管路数量减少,管路系统更加简单,节约空间;并且,可以减少载气的使用量,降低成本。

17、本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。



技术特征:

1.一种生长源管路系统,用于外延生长设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的生长源管路系统,其特征在于,每个所述生长源供气管包括供气主管、第一供气支管、第二供气支管以及三通阀,所述三通阀具有进口、第一出口和第二出口,所述供气主管与所述进口连接,所述第一供气支管的一端与所述第一出口连接,所述第一供气支管的另一端与对应的所述生长源输送管连接,所述第二供气支管的一端与所述第二出口连接,所述第二供气支管的另一端与所述排放管连接。

3.根据权利要求2所述的生长源管路系统,其特征在于,所述三通阀为三通隔膜阀;和/或,每个所述生长源供气管的所述供气主管设有第四质量流量控制器,所述第四质量流量控制器位于对应的所述三通阀的上游侧。

4.根据权利要求1所述的生长源管路系统,其特征在于,每个所述生长源输送管设有第一质量流量控制器,所述生长源供气管与对应的所述生长源输送管的连接位置为输送连接位置,在所述生长源输送管内气体的流动方向上,所述第一质量流量控制器位于所述输送连接位置的上游侧;

5.根据权利要求1所述的生长源管路系统,其特征在于,每个所述生长源输送管设有第三质量流量控制器,所述生长源供气管与对应的所述生长源输送管的连接位置为输送连接位置,在所述生长源输送管内气体的流动方向上,所述第三质量流量控制器位于所述输送连接位置的下游侧;和/或,每个所述生长源供气管设有第四质量流量控制器。

6.根据权利要求1所述的生长源管路系统,其特征在于,每个所述生长源输送管设有第一压力控制器,所述生长源供气管与对应的所述生长源输送管的连接位置为输送连接位置,在所述生长源输送管内气体的流动方向上,所述第一压力控制器位于所述输送连接位置的下游侧;

7.根据权利要求6所述的生长源管路系统,其特征在于,每个所述生长源输送管设有第三质量流量控制器,在所述生长源输送管内气体的流动方向上,所述第三质量流量控制器位于所述压力控制器的下游侧。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的生长源管路系统,其特征在于,多个所述生长源输送管沿第一方向排布,所述排放管位于多个所述生长源输送管沿第一方向的一侧,所述生长源输送管以及所述排放管均沿第二方向延伸,所述第二方向与所述第一方向相交,所述载气输送管和所述反应腔体位于所述生长源输送管沿第二方向的两侧。

9.根据权利要求8所述的生长源管路系统,其特征在于,多个所述生长源供气管沿所述第二方向排布。

10.一种外延生长设备,其特征在于,包括:根据权利要求1-9中任一项所述的生长源管路系统。


技术总结
本发明公开了一种生长源管路系统和外延生长设备。生长源管路系统包括:载气供气管、排放管、多个生长源输送管和多个生长源供气管,排放管的一端与载气供气管连接,排放管的另一端形成为排放口;每个生长源输送管的一端与载气供气管连接,且每个生长源输送管的另一端用于与反应腔体连接;多个生长源供气管与多个生长源输送管的数量相同且分别一一对应,每个生长源供气管与对应的生长源输送管连接,且每个生长源供气管均与同一排放管连接。根据本发明实施例的生长源管路系统,通过使每个生长源供气管均与同一排放管连接,使得管路数量减少,管路排布更加简单,生长源管路系统占据空间更小,节约空间;并且,可以减少载气的使用量,降低成本。

技术研发人员:王涛,游月辉,郭军强,王永,陈军
受保护的技术使用者:一塔半导体(安徽)有限公司
技术研发日:
技术公布日:2025/5/5
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