学组成为Na1.45La8.55(Si04)6(F0.90!.!):Eu2+，Dy3+。
[0027]施釉:采用浸釉方法在素烧后青瓷坯体上或直接在青瓷坯体表面上施发光青瓷釉层;发光龙泉青瓷釉层的厚度为I.1mm。
[0028]热处理:将施釉后的发光龙泉青瓷放入马弗炉中还原气氛中热处理，热处理得温度为1100°c，热处理的升温速率为2°C/min，得表面较平整、光滑;无放射性危害，余辉时间超过I Ih的发光龙泉青瓷釉层；
[0029]实施列2:与实施例1类似，其区别在于按质量百分比，青瓷基础釉为81.5%，发光粉为14.6%,纳米二氧化硅为3.9%,按质量比，聚甲基纤维素的加入量为发光龙泉青釉的3.5倍;热处理温度为1050°(3，升温速率为3°(3/1^11。
[0030]实施例3:与实施例1类似，其区别在于按质量百分比，青釉基础料为76.8%，发光粉为22.4%,纳米二氧化硅为0.8 %，按质量比，聚甲基纤维素或醇类的加入量为发光青釉的2.5倍;热处理温度为1100°C，升温速率为4°C/min。
[0031]实施例4:与实施例1类似，其区别在于按质量百分比，青釉基础料为72.9%，发光粉为26.5%,纳米二氧化硅为0.6 %，按质量比，聚甲基纤维素或醇类的加入量为发光青釉的2.5倍;热处理温度为1150°C，升温速率为3°C/min。
[0032]实施例5:与实施例1类似，其区别在于按质量百分比，青釉基础料为71.9%，发光粉为26.7%,纳米二氧化硅为0.8 %，按质量比，聚甲基纤维素或醇类的加入量为发光青釉的3倍;热处理温度为1180°C，升温速率为4°C/min。
[0033]实施例6:与实施例1类似，其区别在于按质量百分比，青釉基础料为67.4%，发光粉为31.7%，纳米二氧化硅为0.9%，按质量比，聚甲基纤维素或醇类的加入量为发光青釉的2.5倍;热处理温度为1200°C，升温速率为5°C/min。
[0034]以上实施例仅用以说明非限制本发明的技术方案，发光粉也可以采用其它组成的发光粉，而且分散剂也可以采用无水乙醇或由电解质与膨化剂组成。
[0035]对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。
[0036]此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
【主权项】
1.一种发光龙泉青瓷釉层，其特征在于:发光龙泉青瓷釉层组成包括发光龙泉青瓷釉料和聚甲基纤维素或醇类，发光龙泉青瓷釉料包括青瓷基础釉料、发光粉和纳米二氧化硅；发光龙泉青瓷釉料按质量百分比含量:发光粉为5%?55%，纳米二氧化硅为0.05%?1.21 %，其他均为青瓷基础釉料;聚甲基纤维素或醇类为发光龙泉青瓷釉料的I?5倍。2.如权利要求1所述的一种发光龙泉青瓷釉层，其特征在于:所述发光粉为稀土激活的硅酸盐化合物，其化学组成为Na1.45La8.55(Si04)6(F0.901.1):Eu2+，Dy3+。3.如权利要求1所述的一种发光龙泉青瓷釉层，其特征在于:发光青釉层厚度为I?2mm ο4.如权利要求1所述的一种发光龙泉青瓷釉层的制备方法，其特征在于包括以下步骤: a配制发光龙泉青釉料浆:将发光龙泉青瓷釉料按质量百分比:发光粉为5 %?55 %、纳米二氧化硅为0.05 %?1.21 %和其他均为青瓷基础釉料，混合研磨;然后加入聚甲基纤维素、醇类、粘土或其任意比例的混合物作悬浮介质调配成发光青瓷釉料浆，聚甲基纤维素或醇类为发光龙泉青瓷釉料的I?5倍； b施釉:可采用浸釉、浇釉、荡釉、喷釉或其他施釉方法，在龙泉青瓷坯体或素烧好青瓷坯体表面上施发光釉层； c热处理:将施釉后的发光龙泉青瓷在还原气氛下热处理，得最后的发光龙泉青瓷釉层。5.如权利要求4所述的一种发光龙泉青瓷釉层的制备方法，其特征在于按质量百分比，发光粉为11.2%,纳米二氧化硅为0.9%,其余87.9 %为龙泉青瓷基础釉粉，按质量比，醇类的加入量为发光青瓷釉料的2倍。6.如权利要求5所述的一种发光龙泉青瓷釉层的制备方法，其特征在于所述发光粉为稀土激活的硅酸盐化学物，其化学组成为Na1.45La8.55(Si04)6(F0.90!.!):Eu2+，Dy3+。7.如权利要求4-6之一所述的一种发光龙泉青瓷釉层的制备方法，其特征在于可先将青瓷坯体进行850?950°C素烧后，再施一层发光瓷釉层，发光瓷釉层厚度为I?2mm。8.如权利要求7所述的一种发光龙泉青瓷釉层的制备方法，其特征在于热处理的温度为 1000 ?1250°C。9.如权利要求8所述的一种发光龙泉青瓷釉层的制备方法，其特征在于热处理得升温速率为2?5°C/min。
【专利摘要】本发明公开了一种发光龙泉青瓷釉层及其制备方法，配制发光青釉料浆：将青瓷釉料、发光粉和纳米二氧化硅，研磨成发光青釉，计入聚甲基纤维素或醇类作悬浮剂调制成发光龙泉青瓷釉浆；施釉：可采用浸釉、浇釉、荡釉、喷釉或其他施釉方法，在青瓷坯体或素烧好青瓷坯体表面上施发光釉层；热处理：将施釉后的发光龙泉青瓷在还原气氛下热处理，得最后的发光龙泉青瓷釉层。发光龙泉青瓷可吸收可见光后，能够在黑暗处持续发光，具有化学稳定性好、发光亮度高、发光时间较长且对环境无任何污染，可用于装饰性陶瓷和安全消防疏散标志灯。
【IPC分类】C04B41/86, C03C8/00
【公开号】CN105541409
【申请号】CN201610060316
【发明人】施群, 李德胜
【申请人】丽水学院
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2016年1月28日