大开门单晶收集室的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及到单晶炉设备领域，具体涉及到一种大开门单晶收集室。
【背景技术】
[0002]传统单晶收集室为筒状设计，仅开一处200平方厘米左右的清洗窗口。在拉晶结束后清理过程中，清洗工装需要从这里探入收集室内部进行清理，这无疑给清洗过程增加难度，且对于一些死角清理不到位，留有杂质。如果清理不够彻底，将直接影响拉晶的品质。对于半导体级单晶炉，很有可能会导致晶棒纯度达不到半导体要求的纯度等级。
【实用新型内容】
[0003]为解决上述问题，本新型提供一种大开门单晶收集室，全面无死角，可以彻底解决清洗困难和清洗不彻底的隐患，不会因为收集室内部清洁问题影响半导体单晶品质。
[0004]为实现以上目的，采用以下技术方案:大开门单晶收集室，由门板和收集室腔体组成，收集室腔体上表面为法兰面，门板与法兰面边沿通过铰链接连，在靠近收集室腔体的法兰面上装有密封圈，门板上迎合密封圈处设计为沟槽，法兰面与铰链对应的边沿上设有锁扣。
[0005]本实用新型益效果:针对存在清洗不净的问题进行设计改造，减轻清洗人员的工作难度，可以达到无死角清理，避免清洁问题影响半导体单晶品质。结构简单、实用，并且保证了在工作情况下完全密封。
【附图说明】
[0006]图1是本实用新型的结构示意图；
[0007]如图所示:1、门板；2、铰链；3、密封圈；4、收集室腔体；5、法兰面；6、沟槽；7锁扣。
【具体实施方式】
实施例
[0008]如图1所示，收集室腔体(4)上表面为法兰面(5)，门板(I)与法兰面(5)边沿通过铰链(2 )接连，在靠近收集室腔体(4 )的法兰面(5 )上装有密封圈(3 )，门板(I)上迎合密封圈(3)处设计为沟槽(6)，法兰面(5)与铰链(2)对应的边沿上设有锁扣(7)。拉晶时，门板(I)与收集室腔体(4)闭合，通过锁扣(7)锁紧，门板(I)与收集室腔体(4)之间通过密封圈(3)密封。启动真空泵将单晶炉内抽真空，门板(I)在腔内负压的吸力下，与收集室腔体(4)的法兰面(5)完全密封，可开始拉晶操作。
[0009]拉晶结束后，平衡炉内气压，打开锁扣(7)，拉开门板(1)，即可从门框出取出晶棒，也可以采用传统方式取晶。待炉体冷却完毕，即可对敞开的收集腔体(4)内部以及门板(O内侧进行无死角的彻底清理。
【主权项】
1.大开门单晶收集室，由门板(I)和收集室腔体(4)组成，其特征在于，收集室腔体(4)上表面为法兰面(5 )，门板(I)与法兰面(5 )边沿通过铰链(2 )接连，在靠近收集室腔体(4 )的法兰面(5)上装有密封圈(3)，门板(I)上迎合密封圈(3)处设计为沟槽(6)，法兰面(5)与铰链(2)对应的边沿上设有锁扣(7)。
【专利摘要】本实用新型公开了大开门单晶收集室，由门板和收集室腔体组成，收集室腔体上表面为法兰面，门板与法兰面边沿通过铰链接连，在靠近收集室腔体的法兰面上装有密封圈，门板上迎合密封圈处设计为沟槽，法兰面与铰链对应的边沿上设有锁扣。本实用新型针对存在清洗不净的问题进行设计改造，减轻清洗人员的工作难度，可以达到无死角清理，避免清洁问题影响半导体单晶品质。结构简单、实用，并且保证了在工作情况下完全密封。
【IPC分类】C30B15-00
【公开号】CN204550783
【申请号】CN201520136660
【发明人】刘二飞, 约翰·A·李斯, 王永利
【申请人】大连连城数控机器股份有限公司
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年3月11日