技术总结
本发明公开了一种电子工业用完全无卤素无VOC水基清洗剂，其组成成分质量配比为：有机胺碱0.5～2.0％；特种无机盐0.5～1.0％；助溶杀菌剂3.0～10.0％；助溶增强剂1.5～4.0％；表面活性剂1.0～2.5％；缓蚀剂0.2～0.5％；消泡剂0.1～0.40％；去离子水余量。本发明的水基清洗剂完全无卤素无VOC符合环保要求，清洗效果和去污能力完全达到全氯氟烃类溶剂和VOC溶剂的效果，无毒无腐蚀性、不产生公害物质、使用操作方便、对环境无污染。
技术研发人员：刘竞;李维俊;郑世忠;刘芳;曹建峰;廖高兵
受保护的技术使用者：深圳市唯特偶新材料股份有限公司
文档号码：201610439355
技术研发日：2016.06.16
技术公布日：2016.11.16