1.一种高粘性改性PI膜，其表面依次经过物理改性和化学改性，其特征在于：
所述物理改性为所述PI膜至少一层具有凸凹结构，且该凹凸结构中的凹结构的深度小于该PI膜的厚度，所述PI薄膜的凸凹结构采用光刻模具制成或采用模压模具压缩成型；
所述化学改性为等离子体处理和表面接枝改性相结合。
2.如权利要求1所述的一种高粘性改性PI膜，其特征在于：所述凸凹结构为呈周期性排布在PI膜表面的几何形状。
3.如权利要求1所述的一种高粘性改性PI膜，其特征在于：所述凹凸结构中的凹结构的深度为0.5～2μm。
4.如权利要求1所述的一种高粘性改性PI膜，其特征在于：所述PI膜厚为10～20μm。
5.如权利要求1所述的一种高粘性改性PI膜，其特征在于：所述等离子体处理和表面接枝改性相结合方法为：
S1：清洗，取物理改性后的PI薄膜在弱碱性溶液中除油去污并微蚀，然后用自来水清洗，晾干备用；
S2：等离子体处理，将清洗晾干后的PI薄膜放在等离子的真空室内，采用辉光放电的方式在氩气流0.6Torr下对PI薄膜进行等离子体处理，功率35W，处理时间为1～60s；
S3：活化，将处理好的PI薄膜取出后放空气中5min～60min形成活性中心；
S4：化学接枝，将活化好的PI薄膜放在丙烯酰胺、硫酸亚铁铵的N-甲基吡咯烷酮溶液中，常温下反应10～30min取出；
S5：后处理，将接枝后的PI膜用丙酮和40～60℃去热离子水进行冲洗10～20min，自然晾干得到表面化学改性的PI膜。
6.如权利要求5所述的一种高粘性改性PI膜，其特征在于：所述步骤S1中的弱碱性溶液为碳酸钠、磷酸钠和十二烷基苯磺酸钠的混合液。
7.如权利要求5所述的一种高粘性改性PI膜，其特征在于：所述步骤S1中将所述PI膜在所述弱碱性溶液中浸泡时间为5～10min。
8.如权利要求5所述的一种高粘性改性PI膜，其特征在于：所述步骤S3中丙烯酰胺、硫酸亚铁铵的N-甲基吡咯烷酮溶液中，丙烯酰胺和硫酸亚铁铵的质量分数分别为10wt～25wt％和0.5wt％～3wt％。