技术总结
本发明公开了一种高粘性改性PI膜，其表面依次经过物理改性和化学改性，所述物理改性为所述PI膜至少一层具有凸凹结构，且该凹凸结构中的凹结构的深度小于该PI膜的厚度，所述PI薄膜的凸凹结构采用光刻模具制成，或采用模压模具压缩成型；所述化学改性为等离子体处理和表面接枝改性相结合。本发明制备的高粘性PI膜具有粘性高，良好的亲水性，有利于提高与胶粘剂粘结的有益效果。
技术研发人员：李彦
受保护的技术使用者：苏州柯创电子材料有限公司
文档号码：201610656689
技术研发日：2016.08.11
技术公布日：2017.01.04