本发明涉及清洗液技术领域，具体涉及一种tft-lcd显示屏水基清洗液及其制备方法。
背景技术：
液晶显示屏(liquidcrystaldisplay，简称lcd)具有清晰度高、图像色彩好、无电磁辐射、省电、轻薄及便于携带等优点，已被广泛应用于家用电器、电脑和通信产品中。
目前，液晶显示屏清洗液的制备方法大多采用敞开式机械搅拌的方法。由于机械设备以及机械设备所使用的润滑剂中含有有机物、金属离子、大颗粒等有害成分，在搅拌过程中进入清洗液中，而且，采用金属反应器制备，反应器中的金属离子容易溶出，进入清洗液中，从而造成清洗后二次污染，使液晶显示屏性能及成品率降低。另外，在环境中以及操作人员体内存在大量的钠离子，很容易对清洗液造成污染。
技术实现要素：
本发明旨在提供了一种tft-lcd显示屏水基清洗液及其制备方法。
本发明提供如下技术方案：
一种tft-lcd显示屏水基清洗液，其特征在于，其是由以下重量份数的原料组成：十二烷基苯磺酸钠13-15份、三乙醇胺油酸酯22-25份、苯骈三氮唑9-16份、烷氧基醚胺氧化物10-15份、硼酸mea酯14-18份、渗透剂6-8份、非离子表面活性剂3-8份、缓蚀剂5-9份、金属离子螯合剂3-5份、去离子水52-60份。
一种tft-lcd显示屏水基清洗液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将十二烷基苯磺酸钠、三乙醇胺油酸酯、苯骈三氮唑、烷氧基醚胺氧化物、硼酸mea酯混合均匀后在温度为80℃下超声波搅拌2-3h，得到混合液，置于真空旋转蒸发仪中，45-60℃减压蒸馏，收集温度为98℃下的馏出液；
(2)将渗透剂、非离子表面活性剂、缓蚀剂、金属离子螯合剂、去离子水加入到透明密闭的反应器内，对透明密闭的反应器抽真空使透明密闭的反应器内成负压完全涡流状态，实现涡流搅拌；
(3)透明密闭反应器内持续保持完全涡流状态，边进行涡流搅拌边将步骤(1)得到的馏出液在负压的作用下抽入到透明密闭的反应器中；持续保持完全涡流状态，搅拌均匀20-30min得到tft-lcd显示屏水基清洗液。
所述非离子表面活性剂为fa/oi型活性剂或fa/oii型活性剂。
所述缓蚀剂为苯丙三氮唑或六次甲基四胺。
所述步骤(2)中超声波搅拌过程的超声波频率为18-40khz，超声波强度为0.5-1.2kw/m3。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明将渗透剂、非离子表面活性剂、金属离子螯合剂等用负压搅拌方式充分混合，再与混合液进行充分混合，从而避免了非离子表面活性剂局部胶束现象，提高tft-lcd显示屏水基清洗液的成品率，延长了tft-lcd显示屏水基清洗液的存放时间；通过超声波搅拌比原始的机械搅拌方法制备的清洗液，金属离子含量小2个数量级，能达到1ppm以下。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1一种tft-lcd显示屏水基清洗液，其特征在于，其是由以下重量份数的原料组成：十二烷基苯磺酸钠13份、三乙醇胺油酸酯22份、苯骈三氮唑9份、烷氧基醚胺氧化物10份、硼酸mea酯14份、渗透剂6份、非离子表面活性剂3份、缓蚀剂5份、金属离子螯合剂3份、去离子水52份。
一种tft-lcd显示屏水基清洗液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将十二烷基苯磺酸钠、三乙醇胺油酸酯、苯骈三氮唑、烷氧基醚胺氧化物、硼酸mea酯混合均匀后在温度为80℃下超声波搅拌2-3h，得到混合液，置于真空旋转蒸发仪中，45-60℃减压蒸馏，收集温度为98℃下的馏出液；
(2)将渗透剂、非离子表面活性剂、缓蚀剂、金属离子螯合剂、去离子水加入到透明密闭的反应器内，对透明密闭的反应器抽真空使透明密闭的反应器内成负压完全涡流状态，实现涡流搅拌；
(3)透明密闭反应器内持续保持完全涡流状态，边进行涡流搅拌边将步骤(1)得到的馏出液在负压的作用下抽入到透明密闭的反应器中；持续保持完全涡流状态，搅拌均匀20-30min得到tft-lcd显示屏水基清洗液。
所述非离子表面活性剂为fa/oi型活性剂或fa/oii型活性剂。
所述缓蚀剂为苯丙三氮唑或六次甲基四胺。
所述步骤(2)中超声波搅拌过程的超声波频率为18-40khz，超声波强度为0.5-1.2kw/m3。
实施例2一种tft-lcd显示屏水基清洗液，其特征在于，其是由以下重量份数的原料组成：十二烷基苯磺酸钠15份、三乙醇胺油酸酯25份、苯骈三氮唑16份、烷氧基醚胺氧化物15份、硼酸mea酯18份、渗透剂8份、非离子表面活性剂8份、缓蚀剂9份、金属离子螯合剂5份、去离子水60份。
一种tft-lcd显示屏水基清洗液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将十二烷基苯磺酸钠、三乙醇胺油酸酯、苯骈三氮唑、烷氧基醚胺氧化物、硼酸mea酯混合均匀后在温度为80℃下超声波搅拌2-3h，得到混合液，置于真空旋转蒸发仪中，45-60℃减压蒸馏，收集温度为98℃下的馏出液；
(2)将渗透剂、非离子表面活性剂、缓蚀剂、金属离子螯合剂、去离子水加入到透明密闭的反应器内，对透明密闭的反应器抽真空使透明密闭的反应器内成负压完全涡流状态，实现涡流搅拌；
(3)透明密闭反应器内持续保持完全涡流状态，边进行涡流搅拌边将步骤(1)得到的馏出液在负压的作用下抽入到透明密闭的反应器中；持续保持完全涡流状态，搅拌均匀20-30min得到tft-lcd显示屏水基清洗液。
所述非离子表面活性剂为fa/oi型活性剂或fa/oii型活性剂。
所述缓蚀剂为苯丙三氮唑或六次甲基四胺。
所述步骤(2)中超声波搅拌过程的超声波频率为18-40khz，超声波强度为0.5-1.2kw/m3。
实施例3一种tft-lcd显示屏水基清洗液，其特征在于，其是由以下重量份数的原料组成：十二烷基苯磺酸钠14份、三乙醇胺油酸酯23份、苯骈三氮唑13份、烷氧基醚胺氧化物12份、硼酸mea酯16份、渗透剂7份、非离子表面活性剂5份、缓蚀剂7份、金属离子螯合剂4份、去离子水55份。
一种tft-lcd显示屏水基清洗液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将十二烷基苯磺酸钠、三乙醇胺油酸酯、苯骈三氮唑、烷氧基醚胺氧化物、硼酸mea酯混合均匀后在温度为80℃下超声波搅拌2-3h，得到混合液，置于真空旋转蒸发仪中，45-60℃减压蒸馏，收集温度为98℃下的馏出液；
(2)将渗透剂、非离子表面活性剂、缓蚀剂、金属离子螯合剂、去离子水加入到透明密闭的反应器内，对透明密闭的反应器抽真空使透明密闭的反应器内成负压完全涡流状态，实现涡流搅拌；
(3)透明密闭反应器内持续保持完全涡流状态，边进行涡流搅拌边将步骤(1)得到的馏出液在负压的作用下抽入到透明密闭的反应器中；持续保持完全涡流状态，搅拌均匀20-30min得到tft-lcd显示屏水基清洗液。
所述非离子表面活性剂为fa/oi型活性剂或fa/oii型活性剂。
所述缓蚀剂为苯丙三氮唑或六次甲基四胺。
所述步骤(2)中超声波搅拌过程的超声波频率为18-40khz，超声波强度为0.5-1.2kw/m3。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。