1.一种低温形状记忆高分子材料，其特征在于，主要由以下按重量份的原料制成：聚己内酯60-100份，低熔点聚酰胺10-40份，交联剂0-3份，增塑剂0-5份，抗氧剂0-1份，色粉0-1份。
2.如权利要求1所述的一种低温形状记忆高分子材料，其特征在于，所述交联剂为丙烯酸异辛酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三烯丙基异氰尿酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯或二季戊四醇六丙烯酸酯。
3.如权利要求1所述的一种低温形状记忆高分子材料，其特征在于，所述增塑剂为环氧大豆油、邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二丁酯或聚乙二醇400。
4.如权利要求1所述的一种低温形状记忆高分子材料，其特征在于，所述抗氧剂为抗氧剂1135、抗氧剂1010、抗氧剂1098或抗氧剂168。
5.如权利要求1所述的一种低温形状记忆高分子材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
s1：取一定量的聚己内酯、低熔点聚酰胺、交联剂、增塑剂、抗氧剂以及色粉，放入搅拌机中混合均匀；
s2：将s1中的混合物经过挤出机制板，挤出机的温度控制范围在60-130℃之间，经过冷却辊后得到厚薄均匀的板材，然后在利用冲压机进行冲孔；
s3：对s2中制成的板材进行辐照交联，辐照剂量在3-20kgy之间。
6.如权利要求5所述的一种低温形状记忆高分子材料的制备方法，其特征在于，所述步骤s3中的辐照方式采用放射性同位素co-60或电子加速器进行。