技术特征：
1.一种聚酰亚胺树脂，其具有：源自四羧酸二酐的结构单元a和源自二胺的结构单元b，结构单元b包含：源自下述式(b1)所示的化合物的结构单元(b1)和源自下述式(b2)所示的化合物的结构单元(b2)，2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺树脂，其中，结构单元a包含：源自下述式(a1)所示的化合物的结构单元(a1)，3.根据权利要求1或2所述的聚酰亚胺树脂，其中，结构单元b还包含结构单元(b3)，所述结构单元(b3)为选自由源自下述式(b31)所示的化合物的结构单元(b31)、源自下述式(b32)所示的化合物的结构单元(b32)、和源自下述式(b33)所示的化合物的结构单元(b33)组成的组中的至少一种，4.一种清漆，其是由作为权利要求1～3中任一项所述的聚酰亚胺树脂的前体的聚酰胺酸溶解于有机溶剂而成的。5.根据权利要求4所述的清漆，其还包含：选自由咪唑化合物和叔胺组成的组中的至少一种。6.根据权利要求5所述的清漆，其中，所述咪唑化合物为选自由咪唑、1,2-咪唑和1-苄基-2-甲基咪唑组成的组中的至少一种。7.根据权利要求5或6所述的清漆，其中，所述叔胺为三亚乙基二胺。8.一种聚酰亚胺薄膜，其是将权利要求4～7中任一项所述的清漆涂布于支撑体上并加热而得到的。9.一种聚酰亚胺薄膜的制造方法，其将权利要求4～7中任一项所述的清漆涂布于支撑体上并加热。10.一种聚酰亚胺薄膜，其包含权利要求1～3中任一项所述的聚酰亚胺树脂。
技术总结
本发明为一种聚酰亚胺树脂，其具有：源自四羧酸二酐的结构单元A和源自二胺的结构单元B，结构单元B包含：源自下述式(b1)所示的化合物的结构单元(B1)和源自下述式(b2)所示的化合物的结构单元(B2)。本发明提供：能成型成为低残余应力、且耐热性优异、线热膨胀系数也低的薄膜的聚酰亚胺树脂；包含作为该聚酰亚胺树脂的前体的聚酰胺酸的清漆；和聚酰亚胺薄膜。和聚酰亚胺薄膜。和聚酰亚胺薄膜。
技术研发人员：安孙子洋平 三田寺淳
受保护的技术使用者：三菱瓦斯化学株式会社
技术研发日：2020.12.22
技术公布日：2022/8/5