鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法与流程

文档序号:37437078发布日期:2024-03-25 19:35阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种鎓盐型单体,以下式(a1)或(a2)表示;

2.根据权利要求1所述的鎓盐型单体,其中,式(a1)表示的鎓盐型单体为下式(a1-1)表示者,且式(a2)表示的鎓盐型单体为下式(a2-1)表示者;

3.根据权利要求2所述的鎓盐型单体,其中,式(a1-1)表示的鎓盐型单体为下式(a1-2)表示者,且式(a2-1)表示的鎓盐型单体为下式(a2-2)表示者;

4.根据权利要求3所述的鎓盐型单体,其中,式(a1-2)表示的鎓盐型单体为下式(a1-3)表示者,且式(a2-2)表示的鎓盐型单体为下式(a2-3)表示者;

5.一种聚合物,含有来自根据权利要求1至4中任一项所述的鎓盐型单体的重复单元。

6.根据权利要求5所述的聚合物,更含有下式(b1)或(b2)表示的重复单元;

7.根据权利要求5所述的聚合物,更含有下式(c1)表示的重复单元;

8.根据权利要求5所述的聚合物,更含有下式(d1)表示的重复单元;

9.一种化学增幅抗蚀剂组成物,含有:

10.根据权利要求9所述的化学增幅抗蚀剂组成物,更含有(b)有机溶剂。

11.根据权利要求9所述的化学增幅抗蚀剂组成物,更含有(c)淬灭剂。

12.根据权利要求9所述的化学增幅抗蚀剂组成物,更含有(d)酸产生剂。

13.根据权利要求9所述的化学增幅抗蚀剂组成物,更含有(e)表面活性剂。

14.根据权利要求9所述的化学增幅抗蚀剂组成物,更含有(f)溶解抑制剂。

15.一种图案形成方法,包含下列步骤:

16.根据权利要求15所述的图案形成方法,其中,该高能射线为波长193nm的arf准分子激光或波长248nm的krf准分子激光、电子束或波长3~15nm的极紫外线。


技术总结
本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中,溶剂溶解性优良且为高感度、高对比度、EL、LWR等光刻性能优良同时即使在微细图案形成时图案崩塌耐性仍强且蚀刻耐性亦优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓盐型单体,以及提供含有来自该鎓盐型单体的重复单元的聚合物、含有该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段是一种鎓盐型单体,以下式(a1)或(a2)表示。

技术研发人员:福岛将大,畠山润,大桥正树
受保护的技术使用者:信越化学工业株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/3/24
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