一种用于培养CHO细胞系细胞的培养方法及培养设备与流程

本发明涉及细胞培养领域，尤其涉及一种用于培养cho细胞系细胞的培养方法及培养设备。

背景技术：

1、在生物制药领域，cho细胞作为宿主细胞已被应用于大规模的生产场景并拥有十分久远的发展历史；在其发展进程中衍生出许多不同类型的cho细胞系，如chok1、chok1sv、chozn、dg44、chos等。伴随着技术设备的不断更新以及从事该行业的从业者对产量和质量不断提出更高的要求，培养基的性能显得至关重要因为培养基中营养物质会直接细胞生长，产物滴度和产物质量；因此对于培养基物质的探索和不断优化也是必不可少的一环。

2、抗体属于免疫球蛋白家族(ig)。分子量在150kda左右，在血液中存在5种类型免疫球蛋白，分别为igg、igm、iga、ige、igd，其均由重链和轻链连接形成。在血清中，igg含量最高，达75％，半衰期也是最长。抗体igg根据γ-chain序列和二硫键结构分为igg1、igg2、igg3、igg4四种亚型。抗体是由2个fab和1个fc通过二硫键和铰链区连接形成。fab区域结合抗原，fc区域结合fc受体和特定类型细胞表面蛋白受体。

3、如中国专利，公告号cn113088480b，一种用于cho细胞的培养基及其用途，公告了一种cho细胞无血清培养基及其应用，是化学成分明确，且不含血清、鸟氨酸、羟脯氨酸、对氨基苯甲酸、胸腺嘧啶、胸苷、尿嘧啶、鸟嘌呤和胞嘧啶的培养基，所述培养基包含基础培养基和终浓度为120-150g/l的流加培养基，用于cho细胞的培养基能够支持不同亚型cho细胞的长期传代生长；在细胞的批培养中能够维持高细胞密度的生长、后期细胞活率的维持和目的产品的高表达；有利于细胞代谢和产品质量的控制，便于培养工艺优化；该培养基成本低廉、配制方便、适于重组蛋白生物制品大规模生产。

4、但是在培养过程中易产生由于电荷异质性导致产生的酸性蜂，导致培养产物产生无法预测的效果，可能带来无法预测的危害。

技术实现思路

1、本申请实施例通过提供一种用于培养cho细胞系细胞的培养方法及培养设备，解决了现有技术中由于电荷异质性导致产生的酸性蜂的问题，实现了降低酸峰的技术效果。

2、本申请实施例提供了一种用于培养cho细胞系细胞的培养方法，所述的培养方法为将cho细胞在含铁、胱氨酸、半胱氨酸、铜、锰、精氨酸、组氨酸、赖氨酸的培养基中流加培养。

3、进一步的，培养方法具体为将cho细胞在基础培养基中培养，并在第三天开始补料，补料频率为每隔一天一次。

4、进一步的，所述的基础培养基为hi ghpro，补料采用dn feed 3+dn feed b3。

5、进一步的，所述的cho细胞包括cho-1、cho-2、cho-3、cho-4。

6、进一步的，所述的培养环境为37℃，5％二氧化碳。

7、进一步的，所述的培养基包含铁，胱氨酸，半胱氨酸，铜，锰，精氨酸，组氨酸，赖氨酸时，用于调控电荷异构体，降低酸性变体。

8、进一步的，所述的培养基包含铁，胱氨酸，半胱氨酸，精氨酸，组氨酸，赖氨酸时，用于增加产量。

9、一种用于培养cho细胞系细胞的培养设备，包括外壳体、培养架、雾化装置、报警装置、支撑装置；

10、其中，外壳体为长方体形，外壳体内安装有隔板；

11、隔板将外壳体内空间分为左腔、中腔、右腔，中腔空间大于左腔、右腔，外壳体的中腔空间中安装有培养架、报警装置、支撑装置，外壳体的左腔和右腔内皆装有雾化装置；

12、外壳体底部安装有支撑装置和报警装置；

13、支撑装置顶部安装有用于培养细胞的培养架；

14、培养架包括底板和横板；

15、底板上开设有进料孔，进料孔与雾化装置的输出端对应；

16、横板上开设有锥形的通孔，且若干通孔的直径自上而下逐渐增加；

17、雾化装置包括雾化器、分料室、输料管；

18、雾化器输出端与输料管的一端固定安装；

19、输料管的另一端还安装有分料室；

20、分料室安装在培养架的底部，分料室与进料孔对应；

21、报警装置包括旋钮、触钮；

22、旋钮调节触钮的伸出长度；

23、触钮与培养架触碰时触发报警；

24、支撑装置包括底座、伸缩套筒、伸缩杆、气泵、输气管；

25、底座固定在外壳体底部，底座顶部靠近四个角的位置上固定安装有伸缩套筒，伸缩套筒内部活动连接有伸缩杆；

26、底座与气泵通过输气管连接。

27、进一步的，底板上附有一层隔膜；隔膜上均匀间隔开设有若干细孔。

28、进一步的，底板安装有通孔针；通孔针与隔膜的细孔一一对应。

29、本申请实施例中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：

30、其一、该八种物质通在多个克隆均有效降低酸峰的积累，因此可能作为电荷异构体调控的通用且有效的手段；其次在降低酸峰的同时，其中的五种物质可以提升细胞的产量，很好的做到产量和产量兼顾。为快速反应解决工艺问题提供了很好的解决策略和思路。

31、其二、由于细胞受重力影响在培养过程中更多的聚集在靠近底部的位置，在底部补料能更多满足不同浓度细胞的需求，且不会因为培养架的移动影响进料，提高了进料的稳定性与细胞培养的需要。

32、其三、通过隔膜上均匀间隔开的细孔，可以确保所加的雾化料在培养区域内均匀分布。这有助于避免某些区域过度补料而其他区域补料不足，从而保证了细胞生长的均匀性；当隔膜鼓起时，新料获得初速度，能够有效地将堆积的细胞冲散。这有助于维持细胞的单层生长，防止细胞堆积造成的生长不均和营养摄取不足。

33、其四、通孔针与隔膜的细孔一一对应，当补料停止、隔膜贴附在底板上时，通孔针能够穿过隔膜的细孔；有助于疏通可能堵塞的细胞或其分泌物，确保补料通道畅通无阻，为下一次补料做好准备；通过及时、均匀的补料以及有效的细胞冲散，可以维持细胞的良好生长状态，提高细胞活性；有助于减少补料过程中可能出现的污染风险；由于补料是通过细孔进行的，且通孔针能够疏通堵塞物，因此可以降低因操作不当或设备故障导致的污染可能性。

技术特征：

1.一种用于培养cho细胞系细胞的培养方法，其特征在于，所述的培养方法为将cho细胞在含铁、胱氨酸、半胱氨酸、铜、锰、精氨酸、组氨酸、赖氨酸的培养基中，提供过流加培养的方法，初始只使用基础培养基，后再补料加入其他成分；

2.如权利要求1所述的一种用于培养cho细胞系细胞的培养方法，其特征在于，培养方法具体为将cho细胞在基础培养基中培养，并在第三天开始补料，补料频率为每隔一天一次，在第13天收获。

3.如权利要求2所述的一种用于培养cho细胞系细胞的培养方法，其特征在于，所述的基础培养基为highpro 200，补料采用dn feed 3+dn feed b3。

4.如权利要求1所述的一种用于培养cho细胞系细胞的培养方法，其特征在于，所述的cho细胞包括cho-1、cho-2、cho-3、cho-4。

5.如权利要求1所述的一种用于培养ch0细胞系细胞的培养方法，其特征在于，所述的培养环境为37℃，5％二氧化碳，培养至第四天降温，温度为室温。

6.如权利要求1所述的一种用于培养cho细胞系细胞的培养方法，其特征在于，所述的培养基包含铁，胱氨酸，半胱氨酸，铜，锰，精氨酸，组氨酸，赖氨酸，能够调控电荷异构体，降低酸性变体。

7.如权利要求1所述的一种用于培养cho细胞系细胞的培养方法，其特征在于，所述的培养基包含铁，胱氨酸，半胱氨酸，精氨酸，组氨酸，赖氨酸时，用于增加产量。

8.一种用于培养cho细胞系细胞的培养设备，其特征在于，包括外壳体(100)、培养架(200)、雾化装置(300)、报警装置(400)、支撑装置(500)；

9.如权利要求8所述的一种用于培养ch0细胞系细胞的培养设备，其特征在于，底板(210)上附有一层隔膜(340)；隔膜(340)上均匀间隔开设有若干细孔。

10.如权利要求9所述的一种用于培养cho细胞系细胞的培养设备，其特征在于，底板(210)安装有通孔针(350)；通孔针(350)与隔膜(340)的细孔一一对应。

技术总结
本申请公开了一种用于培养CHO细胞系细胞的培养方法及培养设备，涉及细胞培养技术领域，其中培养方法为将CHO细胞在含铁、胱氨酸、半胱氨酸、铜、锰、精氨酸、组氨酸、赖氨酸的培养基中流加培养；可以有效调控电荷异构体，降低酸性变体的通用性策略并应用在CHO细胞培养中同时提升了生长和产量；铁，胱氨酸，半胱氨酸，铜，锰，精氨酸，组氨酸，赖氨酸在对细胞的生长，产量和质量具有调控作用，并且重点发现通过DOE实验设计发现调整这几种物质的浓度可以有效降低抗体酸性变体的积累进而实现对抗体质量属性的调控回归到合适的范围内。

技术研发人员：王龙,杨一鸣,王猛
受保护的技术使用者：上海多宁生物科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/11