专利名称：分配器设备及其控制方法
技术领域：
本发明涉及一种分配器设备及其控制方法，且更确切地说，本发明涉及一种间隙 传感器(gap sensor)的测量参考点(measurement reference point)较容易设置的分配 器设备及其控制方法。
背景技术：
已将阴极射线管(cathode ray tube, CRT)用作现有技术的显示装置。然而，存 在以下限制CRT较为庞大且笨重。最近，例如液晶显示装置(liquid crystal display device, LCD)、等离子体显示面板(plasma display panel, PDP)以及有机发光装置 (organic light emitting device,OLED)等平板显示器(flat panel display,FPD)被广 泛用作显示装置。FPD具有重量轻、外形薄和功耗低的特征。在此类FPD的情况下，一对平坦型衬底(substrate)彼此结合。也就是说，制造包 含液晶显示面板的彩色滤光片(color filter)和共用电极(common electrode)的下部衬 底和上部衬底。此后，将由金属膏(metal paste)形成的图案形成于上部和下部衬底中的 至少一者上，以将上部衬底电连接到下部衬底。分配器设备是用于将金属膏涂覆到上部和下部衬底中的一者或两者上的涂覆设 备(coating apparatus)，其包含平台(stage)，其上安放有衬底；分配器，其包含用于将 源材料(例如，金属膏)排放到安放于所述平台上的衬底上的喷嘴；传感器，其用于测量衬 底与喷嘴之间的间隙；驱动单元，其用于抬升所述分配器；传送单元，其用于水平移动分配 器；以及控制单元，其用于控制分配器的操作。首先，根据现有技术的分配器设备，使用传感器来测量衬底与喷嘴之间的间隙，以 将金属膏涂覆到衬底上。接着，分配器使用驱动单元以根据测量到的值而上升或下降，以调 整衬底与喷嘴之间的间隙。此处，间隙传感器的测量参考点应为衬底的顶部表面，以准确 地测量衬底与喷嘴之间的间隙。为此，在现有技术中，将接触传感器(touch sensor)安置 于与衬底的高度相等的高度处。而且，当分配器下降以准许喷嘴的端部接触所述接触传感 器时，用于告知喷嘴与接触传感器的接触的信号被发射到间隙传感器。此处，在间隙传感器 中，依据所发射的信号而将衬底的顶部表面设置为测量参考点。因此，当经由间隙传感器来 控制衬底与喷嘴之间的间隙时，可将衬底的顶部表面设置为用于测量衬底与喷嘴之间的间 隙的参考点。然而，当喷嘴的端部接触所述接触传感器时，留在喷嘴中的源材料粘附到接触 传感器。当源材料粘附到接触传感器时，由于会发生测量误差，所以应清洁该接触传感器。 通常，使用例如丙醇(acetone)等清洁材料来清洁该接触传感器。然而，在此情况下存在以 下限制该接触传感器被清洁材料损坏。因此，由于难以准确地测量该衬底与喷嘴之间的间 隙，所以可能会发生多种装置缺陷。
发明内容
本发明提供一种分配器设备，其中排放单元(discharge unit)通过排放单元的喷嘴与衬底碰撞(collide)时发生的反作用而抬升，且位移检测单元(displacement detection unit)检测该排放单元的移动，以顺利地设置间隙传感器的参考点。本发明还提 供一种将源材料稳定地涂覆在衬底上的分配器设备及其控制方法。根据示范性实施例，一种分配器设备包含排放单元，其包含用于将源材料排放 到衬底上的喷嘴；间隙传感器，用于测量排放单元的喷嘴与衬底之间的间隙；支撑单元 (support unit)，其具有上面安装有排放单元的一个侧面和上面安装有间隙传感器的另一 侧面；滑动单元(slide unit)，其安置于支撑单元与排放单元之间，以通过排放单元的喷嘴 与衬底碰撞时发生的反作用而抬升该排放单元；以及头块(head block)，其包含位移检测 单元，用于检测借助滑动单元而上升的排放单元的移动。排放单元可包含注射器(syringe)，其储存源材料；喷嘴，其连接到注射器以将 源材料排放到衬底上；以及固定单元(fixing unit)，注射器和喷嘴固定到所述固定单元。在可安置排放单元的方向上突出的止动件(stopper)安置于支撑单元上。固定单元可包含突起(protrusion)，所述突起的一部分在安置止动件的方向上突 出，且所述突起可安置于止动件上方。 滑动单元可安置于止动件下方。可将线性运动(linear motion, LM)导引件(guide)用作滑动单元。可将线性编码器(linear encoder)用作位移检测单元。位移检测单元可包含安装于固定单元上的位移传感器(displacement sensor)和 安装于支撑单元上以面向位移传感器的标尺(scale)。可使位移传感器与排放单元一起移动。位移检测单元和间隙传感器可以信号的方式彼此连接。排放单元的上升可被位移检测单元检测到，且可将位移检测单元检测到的信号发 射到间隙传感器中。可依据从间隙传感器中的位移检测单元发射的信号将衬底的顶部表面设置为测
量参考点。在经由喷嘴将源材料排放到衬底上的过程期间，可通过喷嘴的端部与衬底的顶部 表面碰撞时发生的反作用来操作滑动单元，以抬升排放单元。分配器设备可进一步包含用于抬升整个头块的驱动单元。排放单元可因排放单元的喷嘴与衬底碰撞时发生的反作用而借助滑动单元的操 作而上升。根据另一示范性实施例，一种用于控制包含以下部分的分配器设备的方法排放 单元，其包含用于将源材料排放到衬底上的喷嘴；间隙传感器，其用于测量排放单元的喷嘴 与衬底之间的间隙；滑动单元，其通过喷嘴与衬底碰撞时发生的反作用而抬升排放单元； 头块，其包含位移检测单元，用于检测借助滑动单元而上升的排放单元的移动；以及驱动单 元，其用于抬升头块，所述方法包含使用驱动单元使头块下降，以准许排放单元的喷嘴的 端部与衬底碰撞；通过排放单元的喷嘴的端部与衬底碰撞时发生的反作用而操作该滑动单 元以抬升排放单元；经由位移检测单元来检测排放单元的上升移动；以及将所检测的排放 单元的上升移动信号发射到间隙传感器中，且在经由位移检测单元检测到排放单元的上升 移动时，设置用于测量衬底与间隙传感器中的喷嘴之间的间隙的测量参考点。
在通过排放单元的喷嘴的端部与衬底碰撞时发生的反作用来操作滑动单元以抬 升排放单元期间，只能抬升排放单元。可依据从间隙传感器中的位移检测单元发射的信号而将衬底的顶部表面设置为 测量参考点。所述用于控制分配器设备的方法进一步包含在设置间隙传感器的测量参考点之 后，通过使用驱动单元使整个头块上升或下降来调整喷嘴与衬底之间的间隙。所述用于控制分配器设备的方法进一步包含在调整喷嘴与衬底之间的间隙之 后，使用喷嘴将源材料涂覆到衬底上，其中在经由喷嘴而将源材料排放到衬底上的过程期 间，可通过排放单元的喷嘴的端部与衬底碰撞时发生的反作用来操作滑动单元以抬升排放 单元。
从结合附图进行的以下描述可更详细地理解示范性实施例，其中图1为根据示范性实施例的分配器设备的示意图。图2为根据示范性实施例的分配器的截面图。图3A至图3D为说明用于在根据示范性实施例而设置分配器设备的间隙传感器的 测量参考点的情况下，测量衬底与喷嘴之间的间隙的过程的截面图。
具体实施例方式在下文中，将参考各附图详细描述具体实施例。然而，本发明可能会以不同的形式 体现，且不应被解释为限于本文所陈述的实施例。相反，提供这些实施例是为了使本发明将 全面且完整，且将向所属领域的技术人员充分地传达本发明的范围。在图中，相同的参考标 号始终代表相同的元件。图1为根据示范性实施例的分配器设备的示意图。图2为根据示范性实施例的分 配器的截面图。参考图1和图2，分配器设备包含平台1000，其上面安放有衬底100 ；分配器 2000，其包含用于将源材料排放到安放于平台1000上的衬底100上的喷嘴2112 ；传送单元 300，其水平地传送分配器2000和平台1000 ；以及控制单元400，其用于控制分配器2000的 操作。在本实施例中，将金属膏用作涂覆材料。然而，本发明并不限于此。举例来说，可使 用各种涂覆材料。平台1000可具有对应于衬底100的形状的形状以将衬底100安放在其上。在本 实施例中，衬底100可具有正方形形状。因此，平台1000也可具有正方形形状。尽管未显 示，但可将用于安放衬底100的单独安放单元安置于平台1000上。此处，可将静电夹盘 (electrostatic chuck)或真空固定装置(vacuum fixing devic)用作安放单元。当将真 空固定装置用作安放单元时，可在平台1000的上部部分中界定与真空泵(vacuum pump)连 通的多个孔(hole)。因此，可使安放于平台1000上的衬底100固定。根据所述实施例的衬底可为用于液晶显示面板的上部衬底100和下部衬底100中 的一者。此处，尽管未显示，但彩色滤光片和共用电极可安置于上部衬底上，且多个薄膜晶 体管(thin film transistor)和像素电极(pixel electrode)可安置于下部衬底100上。而且，液晶可掉落到上部和下部衬底100中的一者上。此后，使用根据所述实施例的分配器 设备将用于使上部衬底100电连接到下部衬底100的金属膏涂覆在上部和下部衬底100中 的至少一者上。分配器2000借助传送单元300而在X轴或Y轴方向上移动，以将源材料(例如， 金属膏)涂覆到衬底100上。此处，传送单元300使用电动机(motor)和轨道(rail)而在 X轴或Y轴方向上移动分配器2000。或者，可使用各种单元来移动该分配器2000。而且，尽 管在本实施例中在X轴或Y轴方向上水平移动分配器2000，但本发明并不限于此。举例来 说，可在X轴或Y轴方向上移动平台1000以将源材料涂覆到衬底100上。或者，可在X轴 或Y轴方向上移动所有的平台1000和分配器2000以涂覆源材料。而且，可在一个轴方向 上移动平台1000，且可在另一个轴方向上移动分配器2000以涂覆源材料。参考图2，分配器2000包含头块2100，其用于将源材料涂覆到衬底100上；以及 驱动单元2200，其用于抬升头块2100。此处，分配器2000可进一步包含排放单元2110，其 包含用于将源材料排放到衬底100上的喷嘴2112 ；间隙传感器，其用于测量喷嘴2112与衬 底100之间的间隙；支撑单元2130，其具有上面安装有排放单元2110的一个侧面和上面安 装有间隙传感器2120的另一侧面，且以在垂直方向上延伸的形状而制成；滑动单元2140， 其安置于支撑单元2130与排放单元2110之间以垂直滑动排放单元2110 ；以及位移检测单 元2150，其安置于排放单元2110的上方以检测排放单元2110的移动。此处，通过排放单元 2110的喷嘴2112与衬底100碰撞时发生的反作用来操作根据所述实施例的滑动单元2140 以抬升排放单元2110。而且，止动件2132在安置排放单元2110的方向上安置于支撑单元 2130的一端上。止动件2132限制排放单元2110的下降。排放单元2110包含注射器2111，其中储存金属膏；喷嘴2112，其安置于注射器 2111的下方以将储存于注射器2111中的源材料排放到衬底100上；以及固定单元2113，注 射器2111和喷嘴固定于其上。此处，排放单元2110的喷嘴2112以及注射器2111可以可拆 卸的方式而安置于固定单元2113上，以准许更换喷嘴2112和注射器2111。而且，固定单元 2113包含直线单元(straight line unit) 2113a，其在垂直方向上延伸；第一突起2113b， 其安置于直线单元2113a的上方以在止动件2132的方向上突出；以及第二突起2113c，其 安置于直线单元2113a的下方以在与第一突起211 的方向相对的方向上突出。此处，可安 置排放单元2110，使得第一突起2113b安置于止动件2132的上方。而且，可将注射器2111 和喷嘴2112安置于第二突起2113c上。由于止动件2132对应于固定单元2113的第一突 起2113b的下侧而安置，所以归因于排放单元2110的上升或下降，固定单元2113的第一突 起的下部部分可接触止动件2132的上部部分或与止动件2132的上部部分分离。因此，止 动件2132限制了第一突起2113b的下降。间隙传感器2120测量该衬底100与喷嘴2112之间相隔开的距离。头块2100经 由驱动单元2200以基于所测得的结果而垂直地移动，以恒定地维持衬底100与喷嘴2112 之间的间隙。举例来说，可将使用激光(laser)的距离测量传感器(distance measurement sensor)用作间隙传感器2120。尽管在本实施例中未显示，但间隙传感器2120包含发光 单元(light emitting unit)(未图示)，其发出用于测量距衬底100的距离的光，以及光 接收装置(light receiving unit)(未图示)，其接收从发光单元发出的光。此处，可将发 光单元(未图示)和光接收单元(未图示)集成到一个主体中且彼此间隔开一预定距离。为了使用间隙传感器2120来准确地测量喷嘴2112与衬底100之间的间隙，首先，应将衬底 100的顶部表面设置为参考点。也就是说，应通过将衬底100的顶部表面用作参考点来测量 从衬底100的顶部表面到喷嘴2112所间隔的距离。这得以实现是因为涂覆在衬底100上 的源材料具有图案形状和宽度，所述图案形状和宽度根据喷嘴2112与衬底100之间的间隙 而变化。当排放单元2110的喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面碰撞时，滑动单元 2140抬升排放单元2110。也就是说，当喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面碰撞时， 通过此二者之间的反作用来操作已与排放单元2110相接触的滑动单元2140，以抬升排放 单元2110。也就是说，在本实施例中，由于当喷嘴2112的端部与衬底100碰撞时排放单元 2110使用滑动单元2140而上升，所以检测到衬底100的顶部表面的位置，其成为间隙传感 器2120的测量参考点。滑动单元2140经安置以将支撑单元2130连接到排放单元2110的 固定单元2113。此处，可将滑动单元2140安置于支撑单元2130的止动件2132的下方。在 本实施例中，可将线性运动(LM)导引件用作滑动单元2140，但并不限于此。举例来说，当喷 嘴2112的端部与衬底100的顶部表面碰撞时发生的力可被一种单元用来在相对方向上抬 升该排放单元2110，则任一此种单元可用作滑动单元2140。当该排放单元2110的喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面碰撞时，位移检测 单元2150可检测借助滑动单元2140而上升的该排放单元2110的移动，以顺利地设置间隙 传感器2120的参考点。在本实施例中，可将使用电特征或光学特征来测量位置值的线性编 码器用作位移检测单元2150，但并不限于此。举例来说，可将可检测排放单元2110的移动 的任一单元用作位移检测单元2150。位移检测单元2150包含位移传感器2151，其安装于 排放单元2110的固定单元2113上；以及标尺2152，其安装于支撑单元2130上以面向位移 传感器2151。在本实施例中，可将线性头状物(linear head)用作位移传感器2151。位移 检测单元2150以信号的方式而连接到间隙传感器2120，且将位移检测单元2150所检测到 的信号发射到间隙传感器2120中。因此，当因喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面的 碰撞而借助滑动单元2140而上升/下降的排放单元2110的移动被位移检测单元2150检 测到时，检测到的信号被发射到间隙传感器2120中。因此，可将衬底100的顶部表面设置 为间隙传感器2120中的参考点。图3A到图3D为说明用于在根据示范性实施例而设置分配器设备的间隙传感器的 测量参考点的情况下，测量衬底与喷嘴之间的间隙的过程的截面图。在下文中，将参考图3A 到图3D来描述用于在间隙传感器的测量参考点是使用根据示范性实施例的分配器设备来 设置的情况下，测量衬底与喷嘴之间的间隙的方法。参考图3A，整个头块2100使用驱动单元2200而下降。此处，如图所示，头块 2100可下降直到排放单元2110的喷嘴2112的端部接触衬底100的顶部表面为止。当头块 下降以准许喷嘴2112的端部接触衬底100的顶部表面时，连接到排放单元2110的滑动单 元2140通过喷嘴2112与衬底100之间的反作用而操作。而且，驱动单元2200的操作终止。 因此，如图3C所示，排放单元2110通过滑动单元2140的操作而上升。此处，支撑排放单元 2110的支撑单元2130并不上升，而是仅排放单元2110借助滑动单元2140而上升。由于排 放单元2110上升，所以固定单元2113的第一突起211 的下部部分与止动件2132的上部 部分分离。此处，由于位移检测单元2150的位移传感器2151安置于排放单元2110上，所以位移传感器也上升。位移传感器2151读取面向位移传感器2151的标尺的刻度，同时位 移传感器2151上升以将所读取的刻度作为距离单位来计算，进而检测排放单元2110的上 升移动。简要地描述来说，排放单元2110和位移传感器2151因喷嘴与衬底100之间的碰 撞而借助滑动单元2140而上升。因此，在喷嘴2112的端部与衬底100碰撞之前的位移传 感器2151的位置和在喷嘴2112的端部与衬底100碰撞之后的位移传感器2151的位置是 彼此不同的。因此，检测其中位移传感器2151从其原始位置(在喷嘴2112的端部与衬底 100碰撞之前位移传感器2151的标尺2152的位置)偏离的状态来检测排放单元2110的 移动。此处，由于排放单元2110的上升代表喷嘴2112的端部与衬底100之间的接触，所以 排放单元2110的上升起始点(ascent starting point)代表衬底100的顶部表面，所述顶 部表面为测量参考点。将位移检测单元2150所检测到的排放单元2110的上升移动信号发 射到间隙传感器2120中。而且，在间隙传感器2120中，可依据所发射的信号而将衬底100 的顶部表面设置为测量参考点。因此，当经由间隙传感器2120而控制衬底100与喷嘴2112 之间的间隙时，可顺利地将衬底100的顶部表面设置为用于测量衬底100与喷嘴2112之间 的间隙的参考点。参考图3D，使用间隙传感器2120来调整衬底100与喷嘴2112之间的间隙。也就 是说，将光从间隙传感器2120照射到衬底100上，以测量衬底100与喷嘴2112之间的间 隙。此处，由于间隙传感器2120的测量参考点是经由上述方法而设置，所以可准确地测量 从衬底100的顶部表面到喷嘴2112所间隔的距离。因此，可准确地测量喷嘴2112与衬底 100之间的间隙。尽管未显示，但在将源材料涂覆在衬底100上的过程期间，可防止衬底100被喷嘴 2112的端部刮擦。也就是说，当在经由喷嘴2112将源材料涂覆在衬底100上的同时该喷 嘴2112的端部与衬底100的顶部表面因分配器设备的误差而碰撞时，排放单元2110借助 滑动单元2140而上升或下降。而且，分配器设备的操作终止以停止涂覆过程。因此，由于 在涂覆过程期间，可防止在喷嘴2112的端部接触衬底100的顶部表面的情况下执行所述过 程，所以可防止衬底100被喷嘴2112损坏。该排放单元2110通过喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面碰撞时发生的反作 用而上升的技术并不限于上述分配器设备的结构。举例来说，分配器设备在结构上可以各 种方式变化。如上文所述，在根据本发明的实施例中，当排放单元的喷嘴与衬底碰撞时，连接到 排放单元的滑动单元通过喷嘴与衬底之间的反作用而操作。因此，排放单元可借助滑动单 元的操作而上升，且排放单元的上升/下降移动可被位移检测单元检测到。接着，将经由位 移检测单元检测到的信号发射到间隙传感器中，且间隙传感器依据所发射的信号而将衬底 的顶部表面设置为测量参考点。因此，当经由间隙传感器而测量到衬底与喷嘴之间的间隙 时，可顺利地将衬底的顶部表面设置为用于测量衬底与喷嘴之间的间隙的参考点。因此，可 在不使用现有技术的接触传感器的情况下设置用于测量衬底与喷嘴之间的间隙的参考点。而且，在将源材料涂覆在衬底上的过程期间，可防止衬底被喷嘴的端部刮擦。也就 是说，当在将经由喷嘴将源材料涂覆在衬底上的同时该喷嘴的端部与衬底的顶部表面因分 配器设备的误差而碰撞时，排放单元借助滑动单元而上升或下降。而且，分配器设备的操作 终止以停止涂覆过程。因此，由于在涂覆过程期间可防止在喷嘴的端部接触衬底100的顶部表面的情况下执行所述过程，所以可防止衬底100被喷嘴损坏。 尽管已参考具体实施例描述了分配器设备及其控制方法，但并不限于此。因此，所 属领域的技术人员将容易理解，可在不脱离由所附权利要求书界定的本发明的精神和范围 的情况下，对本发明作出各种修改和改变。
权利要求
1.一种分配器设备，其中包括排放单元，其包括用于将源材料排放到衬底上的喷嘴； 间隙传感器，其用于测量所述排放单元的所述喷嘴与所述衬底之间的间隙； 支撑单元，其具有上面安装有所述排放单元的一个侧面和上面安装有所述间隙传感器 的另一侧面；滑动单元，其安置于所述支撑单元与所述排放单元之间，以通过所述排放单元的所述 喷嘴与所述衬底碰撞时发生的反作用而抬升所述排放单元；以及头块，其包含位移检测单元，用于检测借助所述滑动单元而上升的所述排放单元的移动。
2.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于所述排放单元包括注射器，其储存 所述源材料；喷嘴，其连接到所述注射器以将所述源材料排放到所述衬底上；以及固定单 元，所述注射器和所述喷嘴固定到所述固定单元。
3.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于在安置所述排放单元的方向上突出 的止动件安置于所述支撑单元上。
4.根据权利要求2所述的分配器设备，其特征在于所述固定单元包括突起，所述突起 的一部分在安置止动件的方向上突出，且所述突起安置于所述止动件的上方。
5.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于所述滑动单元安置于所述止动件的 下方。
6.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于将线性运动导引件用作所述滑动单元。
7.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于将线性编码器用作所述位移检测单元。
8.根据权利要求7所述的分配器设备，其特征在于所述位移检测单元包括安装于所述 固定单元上的位移传感器和安装于所述支撑单元上以面向所述位移传感器的标尺。
9.根据权利要求8所述的分配器设备，其特征在于所述位移传感器与所述排放单元一 起移动。
10.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于所述位移检测单元和所述间隙传 感器以信号的方式而彼此连接。
11.根据权利要求10所述的分配器设备，其特征在于所述排放单元的上升是由所述位 移检测单元来检测，且所述位移检测单元检测到的信号被发射到所述间隙传感器中。
12.根据权利要求11所述的分配器设备，其特征在于所述衬底的顶部表面是依据从所 述间隙传感器中的所述位移检测单元发射的信号而被设置为测量参考点。
13.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于在经由所述喷嘴而将所述源材料 排放到所述衬底上的过程期间，通过所述喷嘴的端部与所述衬底的顶部表面碰撞时发生的 反作用来操作所述滑动单元以抬升所述排放单元。
14.根据权利要求1所述的分配器设备，其进一步包括用于抬升整个头块的驱动单元。
15.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于所述排放单元因所述排放单元的 所述喷嘴与所述衬底碰撞时发生的所述反作用而借助所述滑动单元的操作而上升。
16.一种用于控制分配器设备的方法，所述分配器设备包括排放单元，其包括用于将源材料排放到衬底上的喷嘴；间隙传感器，其用于测量所述排放单元的所述喷嘴与所述衬 底之间的间隙；滑动单元，其通过所述喷嘴与所述衬底碰撞时发生的反作用而抬升所述排 放单元；头块，其包括位移检测单元，用于检测借助所述滑动单元而上升的所述排放单元的 移动；以及驱动单元，其用于抬升所述头块，所述方法包括使用所述驱动单元使所述头块下降，以准许所述排放单元的所述喷嘴的端部与所述衬 底碰撞；通过所述排放单元的所述喷嘴的所述端部与所述衬底碰撞时发生的所述反作用而操 作所述滑动单元以抬升所述排放单元；经由所述位移检测单元来检测所述排放单元的上升移动；将所检测的所述排放单元的上升移动信号发射到所述间隙传感器中，且当经由所述位 移检测单元检测到所述排放单元的所述上升移动时，在所述间隙传感器中设置用于测量所 述衬底与所述喷嘴之间的所述间隙的测量参考点。
17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于在通过所述排放单元的所述喷嘴的所述 端部与所述衬底碰撞时发生的所述反作用来操作所述滑动单元以抬升所述排放单元的期 间，仅抬升所述排放单元。
18.根据权利要求16所述的方法，其特征在于依据从所述间隙传感器中的所述位移检 测单元发射的信号而将所述衬底的顶部表面设置为所述测量参考点。
19.根据权利要求16所述的方法，其进一步包括在设置所述间隙传感器的所述测量 参考点之后，通过使用所述驱动单元使所述整个头块上升或下降来调整所述喷嘴与所述衬 底之间的所述间隙。
20.根据权利要求19所述的方法，其进一步包括在调整所述喷嘴与所述衬底之间的 所述间隙之后，使用所述喷嘴将所述源材料涂覆到所述衬底上，其特征在于在经由所述喷 嘴将所述源材料排放到所述衬底上的过程期间，通过所述排放单元的所述喷嘴的所述端部 与所述衬底碰撞时发生的所述反作用来操作所述滑动单元以抬升所述排放单元。
全文摘要
提供一种分配器设备及其控制方法。该分配器设备包含排放单元，其包括用于将源材料排放到衬底上的喷嘴；间隙传感器，用于测量所述排放单元的喷嘴与所述衬底之间的间隙；支撑单元，其具有上面安装有所述排放单元的一个侧面和上面安装有所述间隙传感器的另一侧面；滑动单元，安置于所述支撑单元与所述排放单元之间，以通过所述排放单元的喷嘴与衬底碰撞时发生的反作用而抬升所述排放单元；以及头块，其包括位移检测单元，用于检测借助所述滑动单元而上升的所述排放单元的移动。因此，当排放单元的喷嘴与衬底碰撞时，连接到排放单元的滑动部件通过所述反作用而操作。排放单元通过所述滑动部件的操作而抬升，且排放单元的移动被位移检测单元检测。
文档编号B05B13/04GK102078846SQ201010568348
公开日2011年6月1日 申请日期2010年11月23日 优先权日2009年11月27日
发明者丁玄晟, 崔文基, 崔锺权, 黄世翰 申请人:Ap系统股份有限公司