微/纳米结构压印成型uv胶的制作方法

文档序号:3725737阅读:626来源:国知局
专利名称:微/纳米结构压印成型uv胶的制作方法
技术领域
本发明涉及一种UV胶,具体涉及一种应用在卷对卷(R2R)制程中微影成型环节的微/纳米结构压印成型UV胶,本发明还公开了这种微/纳米结构压印成型UV胶的制备方法。
背景技术
现有的压印成型微影技术一般都采用PMMA或PS等材料作为阻剂,通过加热方式使阻剂达到转换温度,当母模与阻剂完全密合后再降温使阻剂凝固,最后再将母模与阻剂分离。采用这种生产工艺由于不能一次完成大面积成型,操作起来非常耗时,且转写成功率也不高,无法满足如卷对卷(R2R)等高效率压印制程的要求,造成压印成本高、量产水平低。
3.

发明内容
本发明的目的是提供一种适用于卷对卷(R2R)压印设备的100%固体成分的微/纳米结构压印成型UV胶,以解决现有微影成型技术中存在的无法一次完成大面积成型、转写成功率不高的问题。为了达到上述目的,本发明所采用的技术方案是:一种微/纳米结构压印成型UV胶,其各组分及重量百分比为:
主要成分重量百分比
聚酯丙烯酸酯低聚物30-46%
纯丙烯酸低聚物13-19%
I,6己二醇二丙烯酸酯11-18%
三丙二醇二丙烯酸酯9-16%
1-羟基环己基苯基酮7-12%。所述聚酯丙烯酸酯低聚物为100%固成份的聚合物,无任何单体或溶剂的添加。聚酯丙烯酸酯低聚物是支撑整体物性的关键也是主要的材料,因此选择100%固体成分才不易会被其他添加物影响UV胶的性能。所述1,6己二醇二丙烯酸酯及三丙二醇二丙烯酸酯是重要的稀释剂,因为两者都是100%固成份不含溶剂,且能够稀释聚酯丙烯酸酯低聚物、纯丙烯酸低聚物,采用这类稀释剂才能制成100%固体成分的UV胶。本发明最终成品的外观为无色透明或是白色微雾。本发明所公开的微/纳米结构压 印成型UV胶的使用方法为:主要利用具有高透光性、高强度的石英玻璃、或软质的镍板、不锈钢板等模具材料来作为设计及制作图案的母模使用。在室温中将母模压入涂布于基材的UV胶中,再进行紫外光源照射,使UV胶与紫外光产生交链反应后凝固。压印完成后,将基材移除,进而在基材上得到预期的复制图案。本发明的有益效果是:对比现有压印微影技术中使用的阻剂,本发明所公开的微/纳米结构压印成型UV胶的物性有很大提升,详情如下表:
权利要求
1.一种微/纳米结构压印成型UV胶,包含如下各组分及重量百分比:主要成分重量百分比 聚酯丙烯酸酯低聚物30-46% 纯丙烯酸低聚物13-19%1,6己二醇二丙烯酸酯11-18% 三丙二醇二丙烯酸酯9-16%1-羟基环己基苯基酮7-12%。
2.根据权利要求1所述的微/纳米压印成型UV胶,其特征是:聚酯丙烯酸酯低聚物为100%固态成分的聚合物,无任何单体或溶剂的添加。
3.根据权利要求1所述的微/纳米压印成型UV胶,其特征是:1,6己二醇二丙烯酸酯及三丙二醇二丙烯酸酯都是100%固态成分不含任何液体溶剂,且能够稀释聚酯丙烯酸酯低聚物、纯丙烯酸低聚物。
4.根据权利要求1所述的微/纳米结构压印成型UV胶,其特征是:外观为无色透明或是白色微雾。
5.根据权利要求1-4任一所述的微/纳米结构压印成型UV胶,其制备步骤是: 首先以1,6己二醇二丙烯酸酯及三丙二醇二丙烯酸酯溶解1-羟基环己基苯基酮; 其后再添加聚酯丙烯酸酯低聚物及纯丙烯酸低聚物; 最后通过高速搅拌机搅拌、过滤后即可得。
全文摘要
本发明公开了一种微/纳米结构压印成型UV胶及其制备方法,该UV胶包含如下重量百分比组分聚酯丙烯酸酯低聚物30-46%、纯丙烯酸低聚物13-19%、1,6己二醇二丙烯酸酯11-18%、三丙二醇二丙烯酸酯9-16%、1-羟基环己基苯基酮7-12%。用1,6己二醇二丙烯酸酯及三丙二醇二丙烯酸酯来溶解1-羟基环己基苯基酮,其后再添加聚酯丙烯酸酯低聚物及纯丙烯酸低聚物,最后通过高速搅拌机搅拌、过滤后即可得。本发明可大面积成型,转写成功率高,特别适用于卷对卷压印设备以进行低成本、连续性生产,可广泛应用于大面积可挠性显示基板、抗反射纳米光学薄膜、超薄型大面积导光板、微光谱仪、次波长光学组件、生医芯片等高科技产品的生产工艺中。
文档编号C09J4/02GK103160210SQ20111042399
公开日2013年6月19日 申请日期2011年12月13日 优先权日2011年12月13日
发明者林英照 申请人:金甲化工企业(中山)有限公司
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