一种液态强力抛光剂的制作方法
【专利摘要】本发明涉及研磨及抛光技术，特别涉及一种液态强力抛光剂。按重量百分比计该抛光液含有：（1）MIRANOLC2M-SF浓缩表面活性剂10-20%，（2）胺缩合物15-20%，（3）乙二胺四乙酸（EDTA）3-5%，（4）水42-62%，（5）碳化硅超细抛光粉10-30%。其制做方法为：将（1）MIRANOLC2M-SF浓缩表面活性剂加入到（4）水42-62%搅拌溶解后，加入（2）胺缩合物15-20%和（3）乙二胺四乙酸（EDTA）3-5%搅拌，静置5-10小时后，再加入（5）碳化硅超细抛光粉充分搅拌。本发明的液态强力抛光剂在抛光过程中具有不易产生有害化合物、集物理抛光与化学抛光为一体、抛光速度快、产品用本发明的抛光剂抛光后的光泽度强、抛光效果好、容易清洗、制作方便、成本低。
【专利说明】—种液态强力抛光剂
【技术领域】
[0001]本发明涉及研磨及抛光技术，特别涉及一种液态强力抛光剂。
【背景技术】
[0002]现有的抛光产品，固体的抛光强度大，但抛光效果不显著，不能使被抛光物达到高度的光滑效果，液态的抛光液抛光效果好，但速度较慢。而且，液态抛光液为了使金属表面更光泽，一般采用含有磷酸和硝酸的液体，伤害皮肤，造成环境污染。用带有油性的液体又会使被抛光的物件不易清洗，污溃多。
【发明内容】
[0003]为了克服上述各种抛光产品的缺陷，本发明提供一种不含销酸、磷酸，集研磨与抛光为一体的强力抛光液，被抛光物使用该抛光剂抛光后的光泽度更强，抛光速度快，负作用少，对人体无害。
[0004]为了实现上述目的，本发明采用的技术方案如下:
提供一种强力抛光液，按重量百分比计该抛光液含有:(l)MIRANOL C2M-SF浓缩表面活性剂 10-20%, (2)胺缩合物 15-20%, (3)乙二胺四乙酸(EDTA) 3-5%, (4)水 42-62%，(5)碳化硅超细抛光粉10-30%。
[0005]其制做方法为:将(I )MIRAN0L C2M-SF浓缩表面活性剂加入到(4)水42-62%搅拌溶解后，加入(2)胺缩合物15-20%和(3)乙二胺四乙酸(EDTA) 3_5%搅拌，静置5_10小时后，再加入(5)碳化硅超细抛光粉充分搅拌。
[0006]上述的技术方案中，所选用的碳化硅超细抛光粉，规格在3000#_6000#。
[0007]本发明的有益效果
I)在抛光过程中不易产生有害化合物；2)集物理抛光与化学抛光为一体；3)抛光速度快；4)产品用本发明的抛光剂抛光后的光泽度强，抛光效果好；5)容易清洗；6)制作方便，成本低。
【具体实施方式】
[0008]为了使本发明的特征和技术手段与达成的目的易于明白理解，现结合具体实施例进一步阐述本发明
实施例:制备I公斤强力抛光液
取MIRANOL C2M-SF浓缩表面活性剂200克，胺缩合物150克，乙二胺四乙酸(EDTA)30克，水520克，碳化硅超细抛光粉100克。
[0009]用一容器，将MIRANOL C2M-SF浓缩表面活性剂加入到水中搅拌溶解后，再加入胺缩合物和乙二胺四乙酸搅拌，静置6小时后，再加入碳化硅超细抛光粉充分搅拌。然后分装进100克装的容器内密，贮藏在阴凉处，以备使用。
【权利要求】
1.一种液态强力抛光剂，其特征在于该抛光剂组份为:(1)MIRAN0L C2M-SF浓缩表面活性剂 10-20%, (2)胺缩合物 15-20%, (3)乙二胺四乙酸(EDTA) 3-5%, (4)水 42-62%，(5)碳化硅超细抛光粉10-30%，百分比均为重量百分比。
2.根据权利要求1所述一种液态强力抛光剂，其特征在于，制做方法为^f(I)MIRANOLC2M-SF浓缩表面活性剂加入到(4)水42-62%搅拌溶解后，加入(2)胺缩合物15-20%和(3)乙二胺四乙酸(EDTA)3-5%搅拌，静置5-10小时后，再加入(5)碳化硅超细抛光粉充分搅拌。
3.根据权利要求1所述一种液态强力抛光剂，其特征在于，所选用的碳化硅为超细抛光粉，规格在3000#-6000#。`
【文档编号】C09G1/02GK103509469SQ201210400229
【公开日】2014年1月15日 申请日期:2012年10月21日 优先权日:2012年10月21日
【发明者】连新兰 申请人:连新兰