一种光刻胶回收系统的制作方法
一种光刻胶回收系统的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种光刻胶回收系统，用于解决光刻胶涂布机排出的使用过的光刻胶浪费的问题。所述系统包括：接收装置，接收装置与光刻胶涂布装置连接，分别与第一缓冲装置和第二缓冲装置连接的输送装置，输送装置用于将第一缓冲装置中的光刻胶输送至第二缓冲装置；第二缓冲装置的顶部通过设置有第二控制阀的管道与干洁气源连接；第二缓冲装置的底部连接设置有第四控制阀的管道；第二缓冲装置用于容纳输送装置输送的使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，通过所述设置有第四控制阀的管道将所述使用过的光刻胶输送至胶桶。光刻胶涂布机排出的使用过的光刻胶通过上述各装置进入胶桶，可以再次利用，从而降低生产成本。
【专利说明】一种光刻胶回收系统
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示装置【技术领域】，尤其涉及一种光刻胶回收系统。
【背景技术】
[0002]在制作彩膜基板和阵列基板的光刻工艺中，主要是利用光刻胶加上稀释剂从而将光刻胶稀释成一定浓度后，再以旋转涂布方式(Spin coat)或狭缝涂布方式(Slit coat),将稀释后的光刻胶均匀涂布于基板上。而为了使光刻胶可以均匀地涂布于基板上，旋转涂布方式通常会先在该基板上涂布大量光刻胶，然后旋转基板使光刻胶能够均匀披覆于整个基板上，然而此种涂布方式中光刻胶的利用率较低，大多数的光刻胶都在旋转涂布的过程中，被排入废液槽中；而狭缝涂布方式中，是将工作台上涂布完成的基板取走，再放置新的基板进行涂布，而为了保证涂布的均匀，在等待下一基板到位的时间内，要保持喷嘴出胶的连续性，即等待时间内喷嘴也一直在出胶，该时间段的出胶也被排入废液槽中。由此可见，光刻胶的浪费比较严重，而且大量排出的光刻胶会对环境造成污染，尤其对于大规模生产线而言，光刻胶被大量的浪费，增加了生产成本。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是提供一种光刻胶回收系统，用于解决由于目前彩膜基板和阵列基板生产工艺中涂布光刻胶时的大量浪费的问题，从而降低生产成本。
[0004]本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
[0005]本发明实施例提供一种光刻胶回收系统，包括:
[0006]接收装置，所述接收装置与光刻胶涂布装置连接，用于接收所述光刻胶涂布装置排出的使用过的光刻胶；
[0007]第一缓冲装置，所述第一缓冲装置的顶部与所述接收装置的底部连接；用于容纳所述接收装置接收的所述使用过的光刻胶；
[0008]输送装置，通过设置有第一控制阀的管道与所述第一缓冲装置的底部连接，以及与第二缓冲装置连接；所述输送装置用于将所述第一缓冲装置中的所述使用过的光刻胶输送至所述第二缓冲装置中；
[0009]所述第二缓冲装置的顶部通过设置有第二控制阀的管道与干洁气源连接；所述第二缓冲装置的底部连接设置有第四控制阀的管道；所述第二缓冲装置用于容纳所述输送装置输送的所述使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，通过所述设置有第四控制阀的管道将所述使用过的光刻胶输送至胶桶。
[0010]本发明实施例中，通过缓冲装置和输送装置，使回收的光刻胶具有较充分的缓冲时间并能够具有足够的动力进入胶桶，从而实现使用过的光刻胶的回收，减小光刻胶的浪费，降低生产成本。
[0011]优选的，所述第二缓冲装置的顶部还通过设置有第三控制阀的管道与废液桶连接，所述控制装置控制所述第三控制阀的通断，所述设置有第三控制阀的管道用于在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出气体以减少所述第二缓冲装置内的压力，或者用于在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出清洗所述第二缓冲装置的液体。本发明实施例中，所述设置有第三控制阀的管道在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出气体以减少所述第二缓冲装置内的压力，因此不会影响所述输送装置的输送动作；在清洗该系统时，通过输送装置输送清洗液，所述设置有第三控制阀的管道在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出清洗所述第二缓冲装置的液体。
[0012]优选的，所述系统还包括控制装置、以及分别与所述控制装置连接的第一监测装置和第二监测装置；
[0013]所述第一监测装置与所述第一控制阀连接，用于监测所述第一缓冲装置中光刻胶的液位，并向控制装置发送第一液位信号；
[0014]所述第二监测装置与所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第四控制阀连接，用于监测所述第二缓冲装置中光刻胶的液位，并向控制装置发送第二液位信号；
[0015]所述控制装置与所述第一控制阀、所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第四控制阀连接和所述输送装置连接，用于根据接收的所述第一液位信号控制所述第一控制阀的通断和控制所述输送装置的开启和停止；还用于根据接收的所述第二液位信号控制所述第二控制阀、所述第三控制阀或所述第四控制阀的通断，及控制所述输送装置的停止。
[0016]本发明实施例中，通过所述控制装置、所述第一监测装置和所述第二监测装置，对缓冲装置中所述使用过的光刻胶的液位的监测，并对各控制阀输送装置进行控制，实现非人工的所述使用过的光刻胶收集。
[0017]优选的，还包括第一过滤装置，所述第一过滤装置设置于所述接收装置的底部，用于过滤所述接收装置排出的所述使用过的光刻胶。所述第一过滤装置为过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于I毫米的过滤孔。通过所述第一过滤装置对收集到的所述使用过的光刻胶进行初步过滤，以减少后续收集流程中收集的所述使用过的光刻胶中的颗粒。
[0018]优选的，还包括第二过滤装置，所述第二过滤装置设置于所述第二缓冲装置的底部，用于过滤所述第二缓冲装置排出的所述使用过的光刻胶。通过所述第二过滤装置对收集到的所述使用过的光刻胶进行进一步过滤，以使收集到的所述使用过的光刻胶符合标准。
[0019]优选的，所述第二过滤装置为过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于3微米的过滤孔。
[0020]优选的，还包括第二过滤装置，所述第二过滤装置设置于所述设置有第四控制阀的管道与所述胶桶之间。所述第二过滤装置为过滤器，所述过滤器内设置过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于3微米的过滤孔；所述过滤器用于过滤所述设置有第四控制阀的管道排出的所述使用过的光刻胶。通过所述第二过滤装置对收集到的所述使用过的光刻胶进行进一步过滤，以使收集到的所述使用过的光刻胶符合标准。
[0021]优选的，所述第一监测装置和所述第二监测装置为传感器，所述传感器包括超声波传感器、压力传感器、红外传感器、激光传感器和机械浮子中的任意一种或组合。
[0022]本发明实施例有益效果如下:通过缓冲装置和输送装置，使回收的光刻胶具有较充分的缓冲时间并能够具有足够的动力进入胶桶；多个控制阀的配合，能够使光刻胶按合理的速度过滤并进入胶桶；提供的过滤装置能够将回收的光刻胶过滤，使之符合使用要求；通过上述各部分装置的配合，从而实现使用过的光刻胶的回收，减小光刻胶的浪费，降低生产成本。
【专利附图】
【附图说明】
[0023]图1为本发明实施例提供的光刻胶回收系统的结构图；
[0024]图2为本发明实施例提供的包括第一监测装置和第二监测装置的光刻胶回收系统的结构图；
[0025]图3为本发明实施例提供的包括第一监测装置、第二监测装置和控制装置的光刻胶回收系统的结构图。
[0026]【专利附图】
【附图说明】:
[0027]接收装置I，第一缓冲装置2，输送装置3，第二缓冲装置4，胶桶5，第一控制阀6，第二控制阀7，第三控制阀8，第四控制阀9，第一过滤装置10，第二过滤装置11，第一监测装置12，第二监测装置13，控制装置14。
【具体实施方式】
[0028]下面结合说明书附图对本发明实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
[0029]参见图1，本发明实施例提供一种光刻胶回收系统，包括:
[0030]接收装置1，接收装置I与光刻胶涂布装置连接，用于接收光刻胶涂布装置排出的使用过的光刻胶。由于光刻胶涂布装置分为旋转涂布方式和狭缝涂布方式，接收装置I需要根据上述两种涂布方式的设备进行适应性调整，例如，对于旋转涂布方式的涂胶设备，通常具有基板旋转盘，可以将接收装置I设计成能够接收较大范围排胶且适应基板旋转盘的储槽；又例如，对于狭缝涂布方式，可以将接收装置I设计成较小，且接收装置I的位置对应接收喷嘴在预涂布位置，或者将接收装置I设计成较大，能够接收喷嘴在预涂布位置和涂布位置的喷胶和刮胶。需要说明的是，本实施例只是为了对接收装置I进行说明，本发明不限于此。本领域技术人员可以根据本发明的思想，对接收装置I进行变型，仍然在本发明的保护范围内。
[0031]第一缓冲装置2，第一缓冲装置2的顶部与接收装置I的底部连接；用于容纳接收装置I接收的使用过的光刻胶。在接收装置I的底部设置第一过滤装置10。当然该第一过滤装置10也可以设置于接收装置I和第一缓冲装置2之间，与在接收装置I底部设置第一过滤装置10相似。通过第一过滤装置10以实现对接收装置I接收的使用过的光刻胶进行初步的过滤，减少较大的光刻胶颗粒；第一过滤装置10为初步的过滤，因此其过滤孔的直径可以较大，例如，第一过滤装置10的过滤孔的直径小于I毫米。第一过滤装置10可以为过滤网、或者可以安装于接收装置I底部的过滤器或其他符合生产要求的过滤装置。
[0032]输送装置3，通过设置有第一控制阀6的管道与第一缓冲装置2的底部连接，以及与第二缓冲装置4连接；输送装置用于将第一缓冲装置2中的使用过的光刻胶输送至第二缓冲装置4中。输送装置3可以为输送泵，输送泵能够提供动力将第一缓冲装置2中的光刻胶泵入第二缓冲装置4。[0033]第二缓冲装置4的顶部通过设置有第二控制阀7的管道与干洁气源连接；第二缓冲装置4的底部通过设置有第四控制阀9的管道与胶桶5连接；第二缓冲装置4用于容纳输送装置3输送的使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，使使用过的光刻胶流入胶桶5。为了得到更好的过滤效果，在第二缓冲装置4底部设置第二过滤装置11，或者在设置有第四控制阀9的管道与胶桶5之间设置第二过滤装置11，用于进一步过滤光刻胶颗粒，从而使进行胶桶5的光刻胶符合再次使用的要求，相比第一过滤装置10，第二过滤装置11需要设置较小直径的过滤孔，例如过滤孔的直径小于3微米。第二过滤装置11可以为安装于第二缓冲装置4的底部的过滤网，该过滤网用于过滤第二缓冲装置4排出的使用过的光刻胶；或者，第二过滤装置11可以为安装于设置有第三控制阀8的管道与胶桶5之间的过滤器，过滤器用于过滤设置有第四控制阀9的管道排出的所述使用过的光刻胶；第二过滤装置11还可以为其他符合生产要求的过滤装置。第二控制阀7在导通状态下，可以根据干洁气源使第二缓冲装置4内的气压增加，使得在第二缓冲装置4内的光刻胶可以平稳的进行过滤，并流入胶桶5。该干洁气源提供清洁除湿的气体，以保证不影响光刻胶的品质。
[0034]本实施例上述的第一缓冲装置2、输送装置3和第二缓冲装置4使得使用过的光刻胶的回收具有一个缓冲，从而保证整个回收过程的顺利实现。
[0035]输送装置3将第一缓冲装置2中的使用过的光刻胶输送至第二缓冲装置4的过程，随着光刻胶的增加，会导致第二缓冲装置4中的气压增加，气压的增加将影响输送装置3的工作，因此有必要对该情形下的第二缓冲装置4中的气压进行调节，因此可以使第二缓冲装置4的顶部通过设置有第三控制阀8的管道与废液桶连接，第三控制阀8在控制装置的控制下通断，用于在导通的状态下向废液桶排出气体以减少第二缓冲装置内的压力。同时，在清洗本实施提供的光刻胶回收系统时，可以使第三控制阀8导通，以便向废液桶排出清洗第二缓冲装置4的液体。当然，如果不考虑清洗的情形，可以将设置有第三控制阀8的管道空置，即不连接废液桶，只需要能够排出第二缓冲装置4中的气体，减小第二缓冲装置4中气压即可。需要说明的是，在第三控制阀8打开时，第二控制阀7必须关闭，相应的，第二控制阀7打开时，第三控制阀8必须关闭。
[0036]本发明实施例有益效果如下:通过缓冲装置和输送装置，使回收的光刻胶具有较充分的缓冲时间并能够具有足够的动力进入胶桶；多个控制阀的配合，能够使光刻胶按合理的速度过滤并进入胶桶；提供的过滤装置能够将回收的光刻胶过滤，使之符合使用要求；通过上述各部分装置的配合，从而实现使用过的光刻胶的回收，减小光刻胶的浪费，降低生产成本。
[0037]以上各控制阀及输送装置可以人工控制，为了减少人工参与、降低成本及提高工作效率，本发明实施例提供的光刻胶回收系统还包括包括控制装置14以及与之连接的第一监测装置12和第二监测装置13。当然根据硬件功能可以将控制装置14集成于第一监测装置12和第二监测装置13。
[0038]参见图2，示出了包括第一监测装置12和第二监测装置13的光刻胶回收系统，即将控制装置14集成于第一监测装置12和第二监测装置13的方案。其中，第一监测装置12与第一控制阀和输送装置连接，用于监测第一缓冲装置2中光刻胶的液位，并根据第一缓冲装置2中的液位触发第一控制阀6的通断以及输送装置3的开启和停止；
[0039]第二监测装置13与第二控制阀7、第三控制阀8、第四控制阀9和输送装置3连接，用于监测第二缓冲装置4中光刻胶的液位，并根据第二缓冲装置4中的液位触发第二控制阀7、第三控制阀8或第四控制阀9的通断以及输送装置3的停止。
[0040]参见图3，示出了包括控制装置14、以及分别与控制装置14连接的第一监测装置12和第二监测装置13的光刻胶回收系统。其中，第一监测装置12与第一控制阀6连接，用于监测第一缓冲装置2中光刻胶的液位，并向控制装置14发送第一液位信号；
[0041]第二监测装置13与第二控制阀7、第三控制阀8、第四控制阀9，用于监测第二缓冲装置4中光刻胶的液位，并向控制装置14发送第二液位信号；
[0042]控制装置14与第一控制阀6、第二控制阀7、第三控制阀8、第四控制阀9连接和输送装置3连接，用于根据接收的第一液位信号控制第一控制阀6的通断和输送装置3的开启和停止；还用于根据接收的第二液位信号控制第二控制阀7、第三控制阀8或第四控制阀9的通断，及控制输送装置3的停止。
[0043]如图3所示的控制装置14可以中央处理器(Central processing unit.,CPU)、微处理器MPU、单片机或集成电路。当然该控制装置14可以集成于第一监测装置12和第二监测装置13中，以实现如图2所示的第一监测装置12和第二监测装置13。
[0044]第一监测装置12和第二监测装置13可以为能够实现本发明方案的传感器，例如超声波传感器、压力传感器、红外传感器、激光传感器和机械浮子传感器，可以应用上述传感器中的任意一种也可以组合应用。传感器的设置的数量和位置可以根据实际需求而定。例如，各传感器可以设置于与第一缓冲装置2和第二缓冲装置4连接管道上，该管道内的液位与第一缓冲装置2和第二缓冲装置4内的液位同步；又例如，可以设置于第一缓冲装置2和第二缓冲装置4的内部。
[0045]同一监测装置包括的传感器的个数可以为一个或两个及以上。以第一监测装置12为例进行说明:
[0046]例如，第一监测装置12包括2个传感器，分别对应第一监测装置12的高位和低位，在高位时控制第一控制阀6开启，并启动传送装置3，在低位时关闭第一控制阀6，并停止传送装置3 ;或者在高位时向控制装置14发送液位高的信号，使控制装置4控制第一控制阀6开始，并启动传送装置3，在低位时向控制装置14发送液位低的信号，使控制装置14关闭第一控制阀6，并停止传送装置3。
[0047]又例如，第一监测装置12包括3个传感器，分别对应第一监测装置12的高位、中位和低位，在高位时控制第一控制阀6开启，并启动传送装置3向第二缓冲装置4快速输送光刻胶，在中位时，控制传送装置3向第二缓冲装置4低速输送光刻胶，在低位时控制第一控制阀6关闭并停止输送装置3 ;或者向控制装置14发送信号，由控制装置14控制第一控制阀6和输送装置3。
[0048]需要说明的是，第一监测装置12和第二监测装置13可以包括一个或多个传感器，上述实施例只是为了举例说明，本发明不限于此。
[0049]此外，根据实际应用的情况，需要考虑各控制阀及输送装置3的控制逻辑，例如第一缓冲装置2和第二缓冲装置4的液位为高高、高低、低高和低低的控制情况；又例如在上述情况的基础上，第二控制阀在通断状态下及第三控制阀在不同通断状态下的控制情况；又例如只用于清洗时的控制情况。本领域相关技术人员可以根据本发明的光刻胶回收系统，设计在不同情况下的控制逻辑，以满足在该情况下的控制要求，在此不一一举例。[0050]本发明实施例通过缓冲装置和输送装置，使回收的光刻胶具有较充分的缓冲时间并能够具有足够的动力进入胶桶；多个控制阀的配合，能够使光刻胶按合理的速度过滤并进入胶桶；提供的过滤装置能够将回收的光刻胶过滤，使之符合使用要求；通过上述各部分装置的配合，从而实现使用过的光刻胶的回收，减小光刻胶的浪费，降低生产成本；进一步的采用传感装置监测各缓冲装置内的液位，并控制相应控制阀和输送装置，以减小人工成本提高工作效率。
[0051]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【权利要求】
1.一种光刻胶回收系统，其特征在于，包括: 接收装置，所述接收装置与光刻胶涂布装置连接，用于接收所述光刻胶涂布装置排出的使用过的光刻胶； 第一缓冲装置，所述第一缓冲装置的顶部与所述接收装置的底部连接；用于容纳所述接收装置接收的所述使用过的光刻胶； 输送装置，通过设置有第一控制阀的管道与所述第一缓冲装置的底部连接，以及与第二缓冲装置连接；所述输送装置用于将所述第一缓冲装置中的所述使用过的光刻胶输送至所述第二缓冲装置中； 所述第二缓冲装置的顶部通过设置有第二控制阀的管道与干洁气源连接；所述第二缓冲装置的底部连接设置有第四控制阀的管道；所述第二缓冲装置用于容纳所述输送装置输送的所述使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，通过所述设置有第四控制阀的管道将所述使用过的光刻胶输送至胶桶。
2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第二缓冲装置的顶部还通过设置有第三控制阀的管道与废液桶连接，所述设置有第三控制阀的管道用于在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出气体以减少所述第二缓冲装置内的压力，或者用于在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出清洗所述第二缓冲装置的液体。
3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述系统还包括控制装置、以及分别与所述控制装置连接的第一监测装置和第二监测装置； 所述第一监测装置与所述第一控制阀连接，用于监测所述第一缓冲装置中光刻胶的液位，并向控制装置发送第一液位信号； 所述第二监测装置与所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第四控制阀连接，用于监测所述第二缓冲装置中光刻胶的液位`，并向控制装置发送第二液位信号； 所述控制装置与所述第一控制阀、所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第四控制阀连接和所述输送装置连接，用于根据接收的所述第一液位信号控制所述第一控制阀的通断和控制所述输送装置的开启和停止；还用于根据接收的所述第二液位信号控制所述第二控制阀、所述第三控制阀或所述第四控制阀的通断，及控制所述输送装置的停止。
4.如权利要求1至3任一项所述的系统，其特征在于，还包括第一过滤装置，所述第一过滤装置设置于所述接收装置的底部，用于过滤所述接收装置排出的所述使用过的光刻胶。
5.如权利要求4所述的系统，其特征在于，所述第一过滤装置为过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于I毫米的过滤孔。
6.如权利要求1至3任一项所述的系统，其特征在于，还包括第二过滤装置，所述第二过滤装置设置于所述第二缓冲装置的底部，用于过滤所述第二缓冲装置排出的所述使用过的光刻胶。
7.如权利要求6所述的系统，其特征在于，所述第二过滤装置为过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于3微米的过滤孔。
8.如权利要求1至3任一项所述的系统，其特征在于，还包括第二过滤装置，所述第二过滤装置设置于所述设置有第四控制阀的管道与所述胶桶之间。
9.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述第二过滤装置为过滤器，所述过滤器内设置过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于3微米的过滤孔；所述过滤器用于过滤所述设置有第四控制阀的管道排出的所述使用过的光刻胶。
10.如权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第一监测装置和所述第二监测装置为传感器，所述传感器包括超声波传感器、压力传感器、红外传感器、激光传感器和机械浮子中的任意一 种或组合。
【文档编号】B05C11/10GK103769351SQ201410024900
【公开日】2014年5月7日 申请日期:2014年1月20日 优先权日:2014年1月20日
【发明者】陈鹏, 杜宏伟, 吴凯民, 肖金涛, 齐鹏煜, 孙培会 申请人:北京京东方显示技术有限公司, 京东方科技集团股份有限公司
【专利摘要】本发明公开了一种光刻胶回收系统，用于解决光刻胶涂布机排出的使用过的光刻胶浪费的问题。所述系统包括：接收装置，接收装置与光刻胶涂布装置连接，分别与第一缓冲装置和第二缓冲装置连接的输送装置，输送装置用于将第一缓冲装置中的光刻胶输送至第二缓冲装置；第二缓冲装置的顶部通过设置有第二控制阀的管道与干洁气源连接；第二缓冲装置的底部连接设置有第四控制阀的管道；第二缓冲装置用于容纳输送装置输送的使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，通过所述设置有第四控制阀的管道将所述使用过的光刻胶输送至胶桶。光刻胶涂布机排出的使用过的光刻胶通过上述各装置进入胶桶，可以再次利用，从而降低生产成本。
【专利说明】一种光刻胶回收系统
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示装置【技术领域】，尤其涉及一种光刻胶回收系统。
【背景技术】
[0002]在制作彩膜基板和阵列基板的光刻工艺中，主要是利用光刻胶加上稀释剂从而将光刻胶稀释成一定浓度后，再以旋转涂布方式(Spin coat)或狭缝涂布方式(Slit coat),将稀释后的光刻胶均匀涂布于基板上。而为了使光刻胶可以均匀地涂布于基板上，旋转涂布方式通常会先在该基板上涂布大量光刻胶，然后旋转基板使光刻胶能够均匀披覆于整个基板上，然而此种涂布方式中光刻胶的利用率较低，大多数的光刻胶都在旋转涂布的过程中，被排入废液槽中；而狭缝涂布方式中，是将工作台上涂布完成的基板取走，再放置新的基板进行涂布，而为了保证涂布的均匀，在等待下一基板到位的时间内，要保持喷嘴出胶的连续性，即等待时间内喷嘴也一直在出胶，该时间段的出胶也被排入废液槽中。由此可见，光刻胶的浪费比较严重，而且大量排出的光刻胶会对环境造成污染，尤其对于大规模生产线而言，光刻胶被大量的浪费，增加了生产成本。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是提供一种光刻胶回收系统，用于解决由于目前彩膜基板和阵列基板生产工艺中涂布光刻胶时的大量浪费的问题，从而降低生产成本。
[0004]本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
[0005]本发明实施例提供一种光刻胶回收系统，包括:
[0006]接收装置，所述接收装置与光刻胶涂布装置连接，用于接收所述光刻胶涂布装置排出的使用过的光刻胶；
[0007]第一缓冲装置，所述第一缓冲装置的顶部与所述接收装置的底部连接；用于容纳所述接收装置接收的所述使用过的光刻胶；
[0008]输送装置，通过设置有第一控制阀的管道与所述第一缓冲装置的底部连接，以及与第二缓冲装置连接；所述输送装置用于将所述第一缓冲装置中的所述使用过的光刻胶输送至所述第二缓冲装置中；
[0009]所述第二缓冲装置的顶部通过设置有第二控制阀的管道与干洁气源连接；所述第二缓冲装置的底部连接设置有第四控制阀的管道；所述第二缓冲装置用于容纳所述输送装置输送的所述使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，通过所述设置有第四控制阀的管道将所述使用过的光刻胶输送至胶桶。
[0010]本发明实施例中，通过缓冲装置和输送装置，使回收的光刻胶具有较充分的缓冲时间并能够具有足够的动力进入胶桶，从而实现使用过的光刻胶的回收，减小光刻胶的浪费，降低生产成本。
[0011]优选的，所述第二缓冲装置的顶部还通过设置有第三控制阀的管道与废液桶连接，所述控制装置控制所述第三控制阀的通断，所述设置有第三控制阀的管道用于在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出气体以减少所述第二缓冲装置内的压力，或者用于在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出清洗所述第二缓冲装置的液体。本发明实施例中，所述设置有第三控制阀的管道在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出气体以减少所述第二缓冲装置内的压力，因此不会影响所述输送装置的输送动作；在清洗该系统时，通过输送装置输送清洗液，所述设置有第三控制阀的管道在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出清洗所述第二缓冲装置的液体。
[0012]优选的，所述系统还包括控制装置、以及分别与所述控制装置连接的第一监测装置和第二监测装置；
[0013]所述第一监测装置与所述第一控制阀连接，用于监测所述第一缓冲装置中光刻胶的液位，并向控制装置发送第一液位信号；
[0014]所述第二监测装置与所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第四控制阀连接，用于监测所述第二缓冲装置中光刻胶的液位，并向控制装置发送第二液位信号；
[0015]所述控制装置与所述第一控制阀、所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第四控制阀连接和所述输送装置连接，用于根据接收的所述第一液位信号控制所述第一控制阀的通断和控制所述输送装置的开启和停止；还用于根据接收的所述第二液位信号控制所述第二控制阀、所述第三控制阀或所述第四控制阀的通断，及控制所述输送装置的停止。
[0016]本发明实施例中，通过所述控制装置、所述第一监测装置和所述第二监测装置，对缓冲装置中所述使用过的光刻胶的液位的监测，并对各控制阀输送装置进行控制，实现非人工的所述使用过的光刻胶收集。
[0017]优选的，还包括第一过滤装置，所述第一过滤装置设置于所述接收装置的底部，用于过滤所述接收装置排出的所述使用过的光刻胶。所述第一过滤装置为过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于I毫米的过滤孔。通过所述第一过滤装置对收集到的所述使用过的光刻胶进行初步过滤，以减少后续收集流程中收集的所述使用过的光刻胶中的颗粒。
[0018]优选的，还包括第二过滤装置，所述第二过滤装置设置于所述第二缓冲装置的底部，用于过滤所述第二缓冲装置排出的所述使用过的光刻胶。通过所述第二过滤装置对收集到的所述使用过的光刻胶进行进一步过滤，以使收集到的所述使用过的光刻胶符合标准。
[0019]优选的，所述第二过滤装置为过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于3微米的过滤孔。
[0020]优选的，还包括第二过滤装置，所述第二过滤装置设置于所述设置有第四控制阀的管道与所述胶桶之间。所述第二过滤装置为过滤器，所述过滤器内设置过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于3微米的过滤孔；所述过滤器用于过滤所述设置有第四控制阀的管道排出的所述使用过的光刻胶。通过所述第二过滤装置对收集到的所述使用过的光刻胶进行进一步过滤，以使收集到的所述使用过的光刻胶符合标准。
[0021]优选的，所述第一监测装置和所述第二监测装置为传感器，所述传感器包括超声波传感器、压力传感器、红外传感器、激光传感器和机械浮子中的任意一种或组合。
[0022]本发明实施例有益效果如下:通过缓冲装置和输送装置，使回收的光刻胶具有较充分的缓冲时间并能够具有足够的动力进入胶桶；多个控制阀的配合，能够使光刻胶按合理的速度过滤并进入胶桶；提供的过滤装置能够将回收的光刻胶过滤，使之符合使用要求；通过上述各部分装置的配合，从而实现使用过的光刻胶的回收，减小光刻胶的浪费，降低生产成本。
【专利附图】
【附图说明】
[0023]图1为本发明实施例提供的光刻胶回收系统的结构图；
[0024]图2为本发明实施例提供的包括第一监测装置和第二监测装置的光刻胶回收系统的结构图；
[0025]图3为本发明实施例提供的包括第一监测装置、第二监测装置和控制装置的光刻胶回收系统的结构图。
[0026]【专利附图】
【附图说明】:
[0027]接收装置I，第一缓冲装置2，输送装置3，第二缓冲装置4，胶桶5，第一控制阀6，第二控制阀7，第三控制阀8，第四控制阀9，第一过滤装置10，第二过滤装置11，第一监测装置12，第二监测装置13，控制装置14。
【具体实施方式】
[0028]下面结合说明书附图对本发明实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
[0029]参见图1，本发明实施例提供一种光刻胶回收系统，包括:
[0030]接收装置1，接收装置I与光刻胶涂布装置连接，用于接收光刻胶涂布装置排出的使用过的光刻胶。由于光刻胶涂布装置分为旋转涂布方式和狭缝涂布方式，接收装置I需要根据上述两种涂布方式的设备进行适应性调整，例如，对于旋转涂布方式的涂胶设备，通常具有基板旋转盘，可以将接收装置I设计成能够接收较大范围排胶且适应基板旋转盘的储槽；又例如，对于狭缝涂布方式，可以将接收装置I设计成较小，且接收装置I的位置对应接收喷嘴在预涂布位置，或者将接收装置I设计成较大，能够接收喷嘴在预涂布位置和涂布位置的喷胶和刮胶。需要说明的是，本实施例只是为了对接收装置I进行说明，本发明不限于此。本领域技术人员可以根据本发明的思想，对接收装置I进行变型，仍然在本发明的保护范围内。
[0031]第一缓冲装置2，第一缓冲装置2的顶部与接收装置I的底部连接；用于容纳接收装置I接收的使用过的光刻胶。在接收装置I的底部设置第一过滤装置10。当然该第一过滤装置10也可以设置于接收装置I和第一缓冲装置2之间，与在接收装置I底部设置第一过滤装置10相似。通过第一过滤装置10以实现对接收装置I接收的使用过的光刻胶进行初步的过滤，减少较大的光刻胶颗粒；第一过滤装置10为初步的过滤，因此其过滤孔的直径可以较大，例如，第一过滤装置10的过滤孔的直径小于I毫米。第一过滤装置10可以为过滤网、或者可以安装于接收装置I底部的过滤器或其他符合生产要求的过滤装置。
[0032]输送装置3，通过设置有第一控制阀6的管道与第一缓冲装置2的底部连接，以及与第二缓冲装置4连接；输送装置用于将第一缓冲装置2中的使用过的光刻胶输送至第二缓冲装置4中。输送装置3可以为输送泵，输送泵能够提供动力将第一缓冲装置2中的光刻胶泵入第二缓冲装置4。[0033]第二缓冲装置4的顶部通过设置有第二控制阀7的管道与干洁气源连接；第二缓冲装置4的底部通过设置有第四控制阀9的管道与胶桶5连接；第二缓冲装置4用于容纳输送装置3输送的使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，使使用过的光刻胶流入胶桶5。为了得到更好的过滤效果，在第二缓冲装置4底部设置第二过滤装置11，或者在设置有第四控制阀9的管道与胶桶5之间设置第二过滤装置11，用于进一步过滤光刻胶颗粒，从而使进行胶桶5的光刻胶符合再次使用的要求，相比第一过滤装置10，第二过滤装置11需要设置较小直径的过滤孔，例如过滤孔的直径小于3微米。第二过滤装置11可以为安装于第二缓冲装置4的底部的过滤网，该过滤网用于过滤第二缓冲装置4排出的使用过的光刻胶；或者，第二过滤装置11可以为安装于设置有第三控制阀8的管道与胶桶5之间的过滤器，过滤器用于过滤设置有第四控制阀9的管道排出的所述使用过的光刻胶；第二过滤装置11还可以为其他符合生产要求的过滤装置。第二控制阀7在导通状态下，可以根据干洁气源使第二缓冲装置4内的气压增加，使得在第二缓冲装置4内的光刻胶可以平稳的进行过滤，并流入胶桶5。该干洁气源提供清洁除湿的气体，以保证不影响光刻胶的品质。
[0034]本实施例上述的第一缓冲装置2、输送装置3和第二缓冲装置4使得使用过的光刻胶的回收具有一个缓冲，从而保证整个回收过程的顺利实现。
[0035]输送装置3将第一缓冲装置2中的使用过的光刻胶输送至第二缓冲装置4的过程，随着光刻胶的增加，会导致第二缓冲装置4中的气压增加，气压的增加将影响输送装置3的工作，因此有必要对该情形下的第二缓冲装置4中的气压进行调节，因此可以使第二缓冲装置4的顶部通过设置有第三控制阀8的管道与废液桶连接，第三控制阀8在控制装置的控制下通断，用于在导通的状态下向废液桶排出气体以减少第二缓冲装置内的压力。同时，在清洗本实施提供的光刻胶回收系统时，可以使第三控制阀8导通，以便向废液桶排出清洗第二缓冲装置4的液体。当然，如果不考虑清洗的情形，可以将设置有第三控制阀8的管道空置，即不连接废液桶，只需要能够排出第二缓冲装置4中的气体，减小第二缓冲装置4中气压即可。需要说明的是，在第三控制阀8打开时，第二控制阀7必须关闭，相应的，第二控制阀7打开时，第三控制阀8必须关闭。
[0036]本发明实施例有益效果如下:通过缓冲装置和输送装置，使回收的光刻胶具有较充分的缓冲时间并能够具有足够的动力进入胶桶；多个控制阀的配合，能够使光刻胶按合理的速度过滤并进入胶桶；提供的过滤装置能够将回收的光刻胶过滤，使之符合使用要求；通过上述各部分装置的配合，从而实现使用过的光刻胶的回收，减小光刻胶的浪费，降低生产成本。
[0037]以上各控制阀及输送装置可以人工控制，为了减少人工参与、降低成本及提高工作效率，本发明实施例提供的光刻胶回收系统还包括包括控制装置14以及与之连接的第一监测装置12和第二监测装置13。当然根据硬件功能可以将控制装置14集成于第一监测装置12和第二监测装置13。
[0038]参见图2，示出了包括第一监测装置12和第二监测装置13的光刻胶回收系统，即将控制装置14集成于第一监测装置12和第二监测装置13的方案。其中，第一监测装置12与第一控制阀和输送装置连接，用于监测第一缓冲装置2中光刻胶的液位，并根据第一缓冲装置2中的液位触发第一控制阀6的通断以及输送装置3的开启和停止；
[0039]第二监测装置13与第二控制阀7、第三控制阀8、第四控制阀9和输送装置3连接，用于监测第二缓冲装置4中光刻胶的液位，并根据第二缓冲装置4中的液位触发第二控制阀7、第三控制阀8或第四控制阀9的通断以及输送装置3的停止。
[0040]参见图3，示出了包括控制装置14、以及分别与控制装置14连接的第一监测装置12和第二监测装置13的光刻胶回收系统。其中，第一监测装置12与第一控制阀6连接，用于监测第一缓冲装置2中光刻胶的液位，并向控制装置14发送第一液位信号；
[0041]第二监测装置13与第二控制阀7、第三控制阀8、第四控制阀9，用于监测第二缓冲装置4中光刻胶的液位，并向控制装置14发送第二液位信号；
[0042]控制装置14与第一控制阀6、第二控制阀7、第三控制阀8、第四控制阀9连接和输送装置3连接，用于根据接收的第一液位信号控制第一控制阀6的通断和输送装置3的开启和停止；还用于根据接收的第二液位信号控制第二控制阀7、第三控制阀8或第四控制阀9的通断，及控制输送装置3的停止。
[0043]如图3所示的控制装置14可以中央处理器(Central processing unit.,CPU)、微处理器MPU、单片机或集成电路。当然该控制装置14可以集成于第一监测装置12和第二监测装置13中，以实现如图2所示的第一监测装置12和第二监测装置13。
[0044]第一监测装置12和第二监测装置13可以为能够实现本发明方案的传感器，例如超声波传感器、压力传感器、红外传感器、激光传感器和机械浮子传感器，可以应用上述传感器中的任意一种也可以组合应用。传感器的设置的数量和位置可以根据实际需求而定。例如，各传感器可以设置于与第一缓冲装置2和第二缓冲装置4连接管道上，该管道内的液位与第一缓冲装置2和第二缓冲装置4内的液位同步；又例如，可以设置于第一缓冲装置2和第二缓冲装置4的内部。
[0045]同一监测装置包括的传感器的个数可以为一个或两个及以上。以第一监测装置12为例进行说明:
[0046]例如，第一监测装置12包括2个传感器，分别对应第一监测装置12的高位和低位，在高位时控制第一控制阀6开启，并启动传送装置3，在低位时关闭第一控制阀6，并停止传送装置3 ;或者在高位时向控制装置14发送液位高的信号，使控制装置4控制第一控制阀6开始，并启动传送装置3，在低位时向控制装置14发送液位低的信号，使控制装置14关闭第一控制阀6，并停止传送装置3。
[0047]又例如，第一监测装置12包括3个传感器，分别对应第一监测装置12的高位、中位和低位，在高位时控制第一控制阀6开启，并启动传送装置3向第二缓冲装置4快速输送光刻胶，在中位时，控制传送装置3向第二缓冲装置4低速输送光刻胶，在低位时控制第一控制阀6关闭并停止输送装置3 ;或者向控制装置14发送信号，由控制装置14控制第一控制阀6和输送装置3。
[0048]需要说明的是，第一监测装置12和第二监测装置13可以包括一个或多个传感器，上述实施例只是为了举例说明，本发明不限于此。
[0049]此外，根据实际应用的情况，需要考虑各控制阀及输送装置3的控制逻辑，例如第一缓冲装置2和第二缓冲装置4的液位为高高、高低、低高和低低的控制情况；又例如在上述情况的基础上，第二控制阀在通断状态下及第三控制阀在不同通断状态下的控制情况；又例如只用于清洗时的控制情况。本领域相关技术人员可以根据本发明的光刻胶回收系统，设计在不同情况下的控制逻辑，以满足在该情况下的控制要求，在此不一一举例。[0050]本发明实施例通过缓冲装置和输送装置，使回收的光刻胶具有较充分的缓冲时间并能够具有足够的动力进入胶桶；多个控制阀的配合，能够使光刻胶按合理的速度过滤并进入胶桶；提供的过滤装置能够将回收的光刻胶过滤，使之符合使用要求；通过上述各部分装置的配合，从而实现使用过的光刻胶的回收，减小光刻胶的浪费，降低生产成本；进一步的采用传感装置监测各缓冲装置内的液位，并控制相应控制阀和输送装置，以减小人工成本提高工作效率。
[0051]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【权利要求】
1.一种光刻胶回收系统，其特征在于，包括: 接收装置，所述接收装置与光刻胶涂布装置连接，用于接收所述光刻胶涂布装置排出的使用过的光刻胶； 第一缓冲装置，所述第一缓冲装置的顶部与所述接收装置的底部连接；用于容纳所述接收装置接收的所述使用过的光刻胶； 输送装置，通过设置有第一控制阀的管道与所述第一缓冲装置的底部连接，以及与第二缓冲装置连接；所述输送装置用于将所述第一缓冲装置中的所述使用过的光刻胶输送至所述第二缓冲装置中； 所述第二缓冲装置的顶部通过设置有第二控制阀的管道与干洁气源连接；所述第二缓冲装置的底部连接设置有第四控制阀的管道；所述第二缓冲装置用于容纳所述输送装置输送的所述使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，通过所述设置有第四控制阀的管道将所述使用过的光刻胶输送至胶桶。
2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第二缓冲装置的顶部还通过设置有第三控制阀的管道与废液桶连接，所述设置有第三控制阀的管道用于在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出气体以减少所述第二缓冲装置内的压力，或者用于在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出清洗所述第二缓冲装置的液体。
3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述系统还包括控制装置、以及分别与所述控制装置连接的第一监测装置和第二监测装置； 所述第一监测装置与所述第一控制阀连接，用于监测所述第一缓冲装置中光刻胶的液位，并向控制装置发送第一液位信号； 所述第二监测装置与所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第四控制阀连接，用于监测所述第二缓冲装置中光刻胶的液位`，并向控制装置发送第二液位信号； 所述控制装置与所述第一控制阀、所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第四控制阀连接和所述输送装置连接，用于根据接收的所述第一液位信号控制所述第一控制阀的通断和控制所述输送装置的开启和停止；还用于根据接收的所述第二液位信号控制所述第二控制阀、所述第三控制阀或所述第四控制阀的通断，及控制所述输送装置的停止。
4.如权利要求1至3任一项所述的系统，其特征在于，还包括第一过滤装置，所述第一过滤装置设置于所述接收装置的底部，用于过滤所述接收装置排出的所述使用过的光刻胶。
5.如权利要求4所述的系统，其特征在于，所述第一过滤装置为过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于I毫米的过滤孔。
6.如权利要求1至3任一项所述的系统，其特征在于，还包括第二过滤装置，所述第二过滤装置设置于所述第二缓冲装置的底部，用于过滤所述第二缓冲装置排出的所述使用过的光刻胶。
7.如权利要求6所述的系统，其特征在于，所述第二过滤装置为过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于3微米的过滤孔。
8.如权利要求1至3任一项所述的系统，其特征在于，还包括第二过滤装置，所述第二过滤装置设置于所述设置有第四控制阀的管道与所述胶桶之间。
9.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述第二过滤装置为过滤器，所述过滤器内设置过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于3微米的过滤孔；所述过滤器用于过滤所述设置有第四控制阀的管道排出的所述使用过的光刻胶。
10.如权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第一监测装置和所述第二监测装置为传感器，所述传感器包括超声波传感器、压力传感器、红外传感器、激光传感器和机械浮子中的任意一 种或组合。
【文档编号】B05C11/10GK103769351SQ201410024900
【公开日】2014年5月7日 申请日期:2014年1月20日 优先权日:2014年1月20日
【发明者】陈鹏, 杜宏伟, 吴凯民, 肖金涛, 齐鹏煜, 孙培会 申请人:北京京东方显示技术有限公司, 京东方科技集团股份有限公司
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