一种具有pH敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰的石墨纸及其制备方法和应用

文档序号:37266381发布日期:2024-03-12 20:50阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种具有ph敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰的石墨纸,其特征在于,所述修饰的石墨纸是在石墨纸表面涂覆咪唑基聚离子液体和多酸化合物溶于溶剂中制得混合溶液,其在100~400℃退火原位静电共价交联反应生成。

2.根据权利要求1所述的具有ph敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰石墨纸,其特征在于,所述咪唑基离子液体为聚1-氰基-3-乙烯基咪唑二氰胺、1-苄基-3-甲基溴化咪唑鎓或1-羧基-3-溴化乙烯基咪唑中的一种以上。

3.根据权利要求1所述的具有ph敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰石墨纸,其特征在于,所述咪唑基离子液体与多酸化合物的质量比为(0.5~1.5):1。

4.根据权利要求1所述的具有ph敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰石墨纸,其特征在于,所述溶剂为二甲基亚砜、二甲基甲酰胺或四氢呋喃。

5.根据权利要求1所述的具有ph敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰石墨纸,其特征在于,所述多酸化合物为聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸或聚(2-乙基丙烯酸)。

6.根据权利要求1所述的具有ph敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰石墨纸,其特征在于,所述修饰的石墨纸的厚度为0.155~0.25mm,所述咪唑基聚离子薄膜修饰的石墨纸中石墨纸的厚度为0.15~0.2mm,咪唑基聚离子薄膜的厚度为5~50μm。

7.根据权利要求1-6任一项所述的具有ph敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰石墨纸的制备方法,其特征在于,包括如下具体步骤:

8.根据权利要求7所述的具有ph敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰石墨纸的制备方法,其特征在于,步骤s2中所述静置反应的时间为1~2h,真空烘干的时间为10~20min。

9.根据权利要求7所述的具有ph敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰石墨纸的制备方法,其特征在于,步骤s2中氨水的浓度为0.2~0.5%w/w。

10.权利要求1-6任一项所述的具有ph敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰石墨纸在锌碘电池中的应用。


技术总结
本发明属于电化学技术领域,公开了一种具有pH敏感的咪唑基聚离子薄膜修饰石墨纸及其制备方法和应用。所述修饰石墨纸是在其表面涂覆咪唑基聚离子液体和多酸化合物溶于溶剂中制得混合溶液,其在100~400℃退火原位静电共价交联反应生成。本发明通过在石墨纸表面原位静电共价交联一层多孔离子液体薄膜界面,通过这层聚离子液体薄膜界面对pH敏感响应的特性,显著抑制I<subgt;2</subgt;正极流失和锌金属腐蚀反应,显著提高了柔性锌碘电池的循环寿命和电化学性能。

技术研发人员:李成超,柯嘉琪,温志鹏
受保护的技术使用者:广东工业大学
技术研发日:
技术公布日:2024/3/11
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