一种适用于多基材的纳米无基保护膜及其制备方法和应用与流程

本发明涉及电子材料，更具体地，涉及一种适用于多基材的纳米无基保护膜及其制备方法和应用。

背景技术：

1、随着社会的发展和进步，人们对各行各业的要求越来越严格，许多行业为得到更好的良率、更好的物体表面状态，会要求在物体制程中对材料进行临时保护或出货保护等。为避免生产或周转过程中某些工序对产品或材料带来损伤，一般厂家的做法是在物体表面贴一层保护膜，但因各行各业的要求不一致，需将保护膜切割成不同的形状，且需人力完成贴膜工作，费时费力且效率低下，成本也高。因此，越来越多的厂家选择新型的液态保护膜来改变现状，可剥胶以其优异的性价比逐渐脱颖而出。

2、目前，市面上已有的各类型可剥胶，适用于各种不同的场景，但仍存在各种各样的缺陷。如水性可剥胶材料成本贵，成膜物质固含量低，喷涂施工浪费大，单片漆膜的造价远超客户预期等；而一些uv可剥胶存在着膜强度不够，剥离力过大，剥离后有残胶，无法完全、正常剥离等。此外，部分可剥胶中还含有挥发性溶剂，对人体及设备存在损害等；或者存在固化速度慢，能耗高等；或者仅针对剥离基材或金属基材有较好的附着力，两者无法共用，在其他基材应用存在附着力过大或过小导致不易剥离、易断等问题，适用范围窄。

技术实现思路

1、基于现有技术中存在的上述技术问题，本发明提供了一种适用于多基材的纳米无基保护膜，该保护膜固化速度快，对多种基材表面附着力好，剥离力适中，膜强度高，并且能从基材上完全剥离，无残胶。

2、为了实现上述目的，本发明的技术方案如下：

3、一种适用于多基材的纳米无基保护膜，按质量百分数计，其原料由以下组分组成：

4、

5、所述主体预聚物包括双官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物和多官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物，所述双官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物和多官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物的质量比为(3-5)：(1-2)。

6、在一些实施方式中，所述多官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物包括8官能度聚氨酯丙烯酸酯和/或10官能度聚氨酯丙烯酸酯。

7、在一些实施方式中，所述活性稀释剂包括邻苯基苯氧基乙基丙烯酸酯、四氢化糠基丙烯酸酯、甲基丙烯酸羟乙酯、异冰片基丙烯酸酯、三丙二醇二丙稀酸酯中的至少一种。

8、在一些实施方式中，所述光引发剂包括二苯基-(2，4，6-三甲基苯甲酰)氧磷、2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮、2-异丙基硫杂蒽酮中的至少一种。

9、在一些实施方式中，所述消泡剂为聚硅氧烷消泡剂；优选为foamex n消泡剂、lead243消泡剂中的至少一种。

10、在一些实施方式中，所述流平剂为聚醚改性硅氧烷类流平剂；优选为lead152s。

11、在一些实施方式中，所述光固化促进剂为反应型三级胺助引发剂；优选为长兴6420。

12、在一些实施方式中，所述抗氧阻聚剂为两官能度聚醚型胺改性丙烯酸酯；优选为lucure5186。

13、在一些实施方式中，所述附着力调节剂为改性硅烷偶联剂；优选为pam-100。

14、本发明还提供了上述任一实施方式的适用于多基材的纳米无基保护膜的制备方法，该方法包括以下步骤：

15、将所述主体预聚物、活性稀释剂、光引发剂、消泡剂、流平剂、光固化促进剂、抗氧阻聚剂和附着力调节剂，即得到所述纳米无基保护膜。

16、在一些实施方式中，该方法包括以下步骤：

17、将所述双官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物和多官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物混合均匀，然后加入活性稀释剂混匀，接着加入光引发剂混匀，最后依次加入流平剂、光固化促进剂、抗氧阻聚剂和附着力调节剂，混合均匀后脱泡，得到所述纳米无基保护膜。

18、本发明还提供了上述适用于多基材的纳米无基保护膜的应用方法，该方法为：通过丝网印刷结合压电点胶喷涂的方式将所述纳米无基保护膜涂覆于基材表面和/或基材窄侧、基材的不规则侧边，然后通过uv光源照射5-10s。

19、在一些实施方式中，uv光源光照强度为3500-4000mj/cm2。

20、相较于现有技术，本发明的有益效果如下：

21、本发明采用双官能度、多官能度的聚氨酯丙烯酸酯预聚物作为主体数值，其余预料为辅，得到一种无溶剂的可适用于多基材的纳米无基保护膜，该保护膜对人体或环境均无损害。

22、本发明的保护膜，具有固化能量低、固化速度快的特点，可在较低的uv光照强度下固化较短时间即具有优异的表干效果。

23、此外，本发明的纳米无基保护膜可适用于多种基材表面，包括但不限于玻璃、金属、塑料等基材，适应性广泛，有效克服现有可剥胶仅适用于单种基材的缺陷，对多种基材均具有较好的防护效果并且附着力合适，剥离力适中，对基材有效保护的同时能从基材上完全剥离，无残胶。

24、本发明的保护膜，可通过平面丝印与侧边精密点胶涂覆相结合的工艺，相较于传统的印刷工艺，可对不规则曲面和窄侧面进行涂覆，可对基材进行全面防护。

技术特征：

1.一种适用于多基材的纳米无基保护膜，其特征在于，按质量百分数计，其原料由以下组分组成：

2.根据权利要求1所述的适用于多基材的纳米无基保护膜，其特征在于，所述多官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物为8官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物和/或10官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物。

3.根据权利要求1所述的适用于多基材的纳米无基保护膜，其特征在于，所述活性稀释剂包括邻苯基苯氧基乙基丙烯酸酯、四氢化糠基丙烯酸酯、甲基丙烯酸羟乙酯、异冰片基丙烯酸酯、三丙二醇二丙稀酸酯中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的适用于多基材的纳米无基保护膜，其特征在于，所述光引发剂包括二苯基-(2，4，6-三甲基苯甲酰)氧磷、2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮、2-异丙基硫杂蒽酮中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的适用于多基材的纳米无基保护膜，其特征在于，所述消泡剂为聚硅氧烷消泡剂；和/或，所述流平剂为聚醚改性硅氧烷类流平剂；和/或，所述光固化促进剂为反应型三级胺助引发剂；和/或，所述抗氧阻聚剂为两官能度聚醚型胺改性丙烯酸酯；和/或，所述附着力调节剂为改性硅烷偶联剂。

6.根据权利要求5所述的适用于多基材的纳米无基保护膜，其特征在于，所述消泡剂为foamex n消泡剂和/或lead243消泡剂，所述流平剂为lead152s，所述光固化促进剂为长兴6420，所述抗氧阻聚剂为lucure5186，所述附着力调节剂为pam-100。

7.权利要求1-6任一项所述的适用于多基材的纳米无基保护膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

8.根据权利要求7所述的适用于多基材的纳米无基保护膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

9.权利要求1-6任一项所述的适用于多基材的纳米无基保护膜的应用方法，其特征在于，通过丝网印刷结合压电点胶喷涂的方式将所述纳米无基保护膜涂覆于基材表面和/或基材窄侧、基材的不规则侧边，然后通过uv光源照射5-10s。

10.根据权利要求9所述的适用于多基材的纳米无基保护膜的应用方法，其特征在于，uv光源光照强度为3500-4000mj/cm2。

技术总结
本发明涉及一种适用于多基材的纳米无基保护膜及其制备方法和应用，该保护膜按质量百分数计，其原料由主体预聚物40‑70％、活性稀释剂20‑50％、光引发剂1‑5％、消泡剂2‑4％、流平剂1‑2％、光固化促进剂1‑2％、抗氧阻聚剂1‑2％和附着力调节剂1‑2％组成；该保护膜固化速度快，对多种基材表面附着力好，剥离力适中，膜强度高，并且能从基材上完全剥离，无残胶。

技术研发人员：谭杰,段志勇,闫波
受保护的技术使用者：长沙岱华科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/4/7