专利名称：处理液供给机构的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种处理液供给机构，该处理液供给机构使用于储存有抗蚀剂等处理液并利用加压用气体压送该处理液的容器主体。
背景技术：
在半导体器件的制造工序的光刻工序中，向基板例如半导体晶圆(以下称为晶圆)供给抗蚀剂等各种各样的处理液。如图15所示，在储存有抗蚀剂110的储液瓶101上，设置有能够相对于该储液瓶 101自由装卸的抗蚀剂供给机构102。抗蚀剂供给机构102具有堵在储液瓶101的开口部 103的瓶盖104，经由设置在瓶盖104上的加压气体供给管105，将加压气体例如氮气(N2) 供给至储液瓶101内。从而，抗蚀剂110流入到下端浸在液面下的处理液供给管106内，被向晶圆压送。抗蚀剂被消耗变少时，更换储液瓶101。瓶盖104的下部设置有固定处理液供给管106的高度位置的锁定机构107。锁定机构107是例如外周形成有螺纹的环构件，旋入瓶盖104，从而瓶盖104的内周与处理液供给管106之间的摩擦增大，处理液供给管106固定于瓶盖104。但是，有时抗蚀剂110较昂贵，最好在储液瓶101内的抗蚀剂110全部用光之后再更换储液瓶101，因此要求处理液供给管106的高度位置能够调整，使得处理液供给管106 的下端接触储液瓶101的底面。所以按以下的工序，将瓶盖104安装到储液瓶101。首先，在解除锁定机构107的锁定的状态下，将抗蚀剂供给机构102安装至储液瓶 101，调整处理液供给管106的高度位置，摸索处理液供给管106的下端接触储液瓶101底部的位置。接着，以使处理液供给管106和瓶盖104之间的相互位置不会偏离的方式将瓶盖104从储液瓶101取下，通过锁定机构107将处理液供给管106锁定于瓶盖104。锁定之后，再次将瓶盖104安装于储液瓶101。但是，从摸索到了处理液供给管106的高度位置后至锁定为止，是否能够准确地保持处理液供给管106和瓶盖104的位置关系，受到进行更换工作的操作人员的经验、技能的影响。并且，在储液瓶101所放置的清洁室(clean room)内的气氛中，为了防止抗蚀剂 110变质，储液瓶101由遮光性构件构成。因此，从储液瓶101的外侧无法目视确认处理液供给管106的下端在储液瓶101内的位置。从而，即使操作人员遵照上述操作顺序锁定了处理液供给管106，实际上也会有处理液供给管106的下端从储液瓶101的底面浮起，浮起部分的抗蚀剂就残留在储液瓶101内的情况。另外，虽然根据处理液的种类，储液瓶101也可以由明亮度较高的材料构成，但是由于处理液具有遮光性，所以也有无法从储液瓶101的外侧确认处理液供给管106的下端的位置的情况。在这种情况时，也会发生处理液供给管106的下端从储液瓶101的底面浮起的现象。在图15的抗蚀剂供给机构102中，锁定机构107从瓶盖104的下侧进行锁定，但有时也构成为从瓶盖104的上侧进行锁定。在该情况下可以保持着将瓶盖104安装在容器主体101的状态地进行锁定，但是处理液供给管106的位置会随着锁定机构107的拧入向下方侧偏离，处理液供给管106的下端有可能弯曲。因此，操作人员需要将处理液供给管106 向上提起后锁定，向上提起的量为由于拧入而向下方侧偏离的量。关于这个向上提起的量， 也会因操作人员的经验、技能而产生差异，有时造成处理液残留。 并且储液瓶101的形状多种多样，有时在每次更换储液瓶101时必须如上所述那样进行处理液供给管106的位置调整，花费时间和人力。在专利文献1中，针对上述处理液供给机构的一个例子进行了说明，但是关于上述问题并没有记载，并不能解决该问题。另外，在专利文献2中，针对操作盘盖的构成进行了说明，这种操作盘盖用于汽油罐，与本发明的相关性很低，并不能解决上述的问题。
专利文献1 日本特开2008-6325公报专利文献2 日本特开昭60-251047公报
发明内容
本发明是基于上述情况而做出的，其目的在于提供一种能够防止处理液残留在容器主体的处理液供给机构。本发明的处理液供给机构，该处理液供给机构用于利用加压用气体压送被储存于由容器主体和堵在此容器主体的上面开口部的盖部构成的容器内部的处理液，其特征在于，其包括固定筒部，其自上述盖部向容器主体的上方突出，在其周面上形成有螺纹；移动筒部，其与上述固定筒部同轴地螺合(螺纹连接)设置于该固定筒部的内侧或外侧；处理液供给管，其以相对于由上述固定筒部和移动筒部构成的筒部沿轴线方向移动自如地贯通该筒部和上述盖部的同时，相对于移动筒部而轴线方向的位置被固定；旋转操作部，其具有与上述移动筒部同轴设置的环状部；卡合部及被卡合部，它们分别设置在上述移动筒部及上述环状部，在旋转上述旋转操作部时，卡合部及被卡合部相互卡合而移动筒部旋转，当施加于移动筒部的转矩变大时卡合被解除，使旋转操作部旋转而使处理液供给管的下端抵接于容器主体的底部时，卡合部和被卡合部的卡合被解除，旋转操作部空转。替代容器具有遮光性，处理液具有遮光性的情况也包含在权利范围之内。并且作为本发明的具体形态可以例举以下内容。(a)固定筒部位于移动筒部的内侧。(b)上述环状部以包围移动筒部的方式设置于该移动筒部的外侧。(c)在上述处理液供给管上设置有与处理液流路相区分的上述加压用气体的供给路径。依据本发明，在移动筒部及环状部分分别设置卡合部和被卡合部，从而在使旋转操作部旋转时，处理液供给管的轴向位置被固定的移动筒部旋转，施加于移动筒部的转矩变大时，卡合被解除。因此，即使容器具有遮光性，也可以使处理液供给部的下端接触容器主体的底部，能够抑制该容器主体的液体残留。
图1是本发明的实施方式的包含抗蚀剂供给机构的加压式抗蚀剂供给容器的立体图。
图2是上述加压式抗蚀剂供给容器的纵剖侧视图。图3是构成上述加压式抗蚀剂供给容器的抗蚀剂供给机构的纵剖侧视图。图4是上述抗蚀剂供给机构的立体图。图5是上述抗蚀剂供给机构的分解图。图6是构成抗蚀剂供给机构的上部侧盖的横剖俯视图。图7是表示上述上部侧盖旋转情况的说明图。图8是能够适用加压式抗蚀剂供给容器的抗蚀剂涂覆装置的概略图。图9是表示将抗蚀剂供给机构安装至储液瓶的顺序的工序图。图10是表示将抗蚀剂供给机构安装至储液瓶的顺序的工序图。图11是其它的抗蚀剂供给机构的立体图。图12是其它的抗蚀剂供给机构的纵剖侧视图。图13是其它的抗蚀剂供给机构的横剖俯视14是其它的抗蚀剂供给机构的概略纵剖侧视图。图15是以往抗蚀剂供给机构的纵剖侧视图。
具体实施例方式参照图1的立体图及图2的纵剖侧视图，说明作为本发明的实施方式的具有抗蚀剂供给机构1的加压式抗蚀剂供给容器2。加压式抗蚀剂供给容器2由抗蚀剂供给机构1 和作为容器主体的储液瓶21构成，抗蚀剂供给机构1相对于储液瓶21能够自由装卸地构成。抗蚀剂供给机构1具有作为处理液供给管的抗蚀剂供给管3和瓶盖5。储液瓶21 中储存有作为处理液的抗蚀剂20。抗蚀剂供给管3将上述抗蚀剂20从储液瓶21供给至外部的晶圆。瓶盖5具有调整高度位置以使抗蚀剂供给管3的下端接触储液瓶21的底部并且将抗蚀剂供给管3固定于该高度位置的作用。对储液瓶21进行说明。在储液瓶21的上侧设有开口部22。与开口部22相连的抗蚀剂的储存空间23的上侧朝着该开口部22变窄地构成。包围开口部22的储液瓶21的侧壁竖立，在其外周M上形成有螺纹。储液瓶21的底面25的中央部凸起，抗蚀剂20由于重力流向底面25的周缘部。储液瓶21为了防止抗蚀剂20的变质而构成为遮光性容器。在此，所述储液瓶21具有遮光性是指在储液瓶21所置的气氛中能遮住从储液瓶 21内的抗蚀剂供给管3所反射的光。即，可以说在上述气氛中从储液瓶21的外侧看不到抗蚀剂供给管3。储液瓶21以使抗蚀剂供给管3铅垂的方式设置于上述清洁室内的规定位置。抗蚀剂供给管3的上侧弯曲，从侧面看呈倒L字状地形成。从抗蚀剂供给管3的一端向另一端地设置有抗蚀剂的流路31，如图2的点划线框内所示，抗蚀剂供给管3的下端侧的侧壁32以与上述储液瓶21的底面25的形状相对应地向内方倾斜的方式形成。由此， 抗蚀剂供给管3的下端的开口部33更加接近底面25，能够更加可靠地抑制抗蚀剂20残留在储液瓶21内。抗蚀剂供给管3的上部侧的外径比下部侧的外径更大，该上部侧构成为扩径部 34。以下也参照图3的扩径部34的纵剖侧视图继续说明。作为加压用气体的N2气体的流路35与抗蚀剂流路31平行地从上方向下方地形成于扩径部34，开口于扩径部34的下端。 抗蚀剂流路31和队气体流路35相互区分开。 在扩径部34，沿着周向上下隔开间隔地形成有槽36、36，在这些槽36、36中均埋有 0型密封圈37。另外，在槽36的上侧，上下隔开间隔地形成有凸缘38、39。如图4所示，在凸缘38、39的上侧设置有用于连接队气体供给配管41的供给件42。队气体供给配管41 的上游侧连接于后述的队气体的供给源19，由此供给源所供给的队气体经由供给件42供给至队气体流路35，自队气体流路35供给至开口部22，储液瓶21内被加压。抗蚀剂供给管3的上游端还构成为连接配管43的连接件44。储液瓶21内被N2 气体加压时，抗蚀剂20经由抗蚀剂流路31流入配管43，供给至泵，由该泵控制向下游侧的供给量，供给至晶圆W。在该例子中，抗蚀剂供给管3构成为队供给配管41及配管43从相同的高度向相同的方向被拉出，所以将配管41，43结成束来提高这些配管41，43的强度，从而能够防止配管41，43的折曲。抗蚀剂供给管3构成为具有如后所述那样调整高度位置时抗蚀剂供给管3即使抵接储液瓶21的底部25也不会弯曲的壁厚。作为其材质，例如由PTFE (聚四氟乙烯)、PFA(四氟乙烯-全氟烷氧基乙烯基醚共聚物)等构成。接着，参照作为瓶盖5的分解图的图5说明瓶盖5。瓶盖5由下侧盖51和上侧盖 71构成。上侧盖71构成为相对于抗蚀剂供给管3其高度位置被固定，相对于下侧盖51能够自由改变其高度位置。因此，改变了上侧盖71相对于下侧盖51的高度位置时，抗蚀剂供给管3的相对于下侧盖51的高度位置也随之变化。下侧盖51由作为堵在储液瓶21的开口部22的盖的盖主体部52、上侧环61、下侧环62构成，上侧环61及下侧环62具有将盖主体部52相对于储液瓶21固定的作用。盖主体部52具有沿着上下方向开口的圆筒状的内筒部53。作为固定筒部的内筒部53的下方侧向内外方扩展，构成外径比内筒部53的外径更大且内径比内筒部53的内径更小的环状支承部54。内筒部53的内周面55包围抗蚀剂供给管3的扩径部34，在调节抗蚀剂供给管3 的高度时，将扩径部34沿着内筒部53的轴向引导。由此，抗蚀剂供给管3的下端抵接于储液瓶21的底面25的周缘。上述内周面55与扩径部34之间被上述0型密封圈37、37密封。 抗蚀剂供给管3能够绕内筒部53的轴线旋转自如地构成。在内筒部53的外周56形成有螺纹。密封构件58设置于支承部M的下方。密封构件58形成为环状，与储液瓶21接触的位置的壁较厚。瓶盖5被安装于储液瓶21时，支承部M的下表面夹着密封构件58贴紧到储液瓶21的上缘，支承部M和储液瓶21之间被密封，储液瓶21内被保持为气密状态。 作为密封构件58，例如能够使用0型密封圈、密封垫片及衬垫等。上侧环61的内缘及下侧环62的内缘从上下方向夹持密封构件58的外缘及支承部M的外缘地设置，其被止动件63相互地固定。在下侧环62的内周64上形成有螺纹。上述螺纹与形成于储液瓶21的开口部22的外周M的螺纹相螺合，瓶盖5固定于储液瓶21。但是储液瓶21的容积是各种各样的，例如有3. 79L、0. 95L、1L。依据该储液瓶21 的容积的不同，储液瓶21的开口部22的大小也各异，上侧环61及下侧环62也与开口部22 的大小相对应地适当设计。并且根据上述容积的不同，从储液瓶21的开口部22到底面25的高度也各种各样，抗蚀剂供给管3与上述高度相对应地适当设计。例如盖主体部52及上侧盖71则不取决于储液瓶21的容积，它们是共用部件。上侧盖71由作为旋转操作部的操作盘72、外筒部73构成。操作盘72是包围抗蚀剂供给管3的扁平的环状构件，与内筒部53同轴地设置。操作盘72的上侧的内缘咬入抗蚀剂供给管3的凸缘38、39之间。并且，操作盘72的外缘向下方弯曲，构成环状的侧壁部 74。图6是图5的A-A向视剖面图。在侧壁部74的内周侧形成有向操作盘72的中央部侧伸出的具有弹性的臂75，在各臂75的顶端设置有朝向操作盘72的中心的爪部76。在操作盘72的圆周方向的爪部76的一侧及另一侧分别形成了卡合面77、78。另外，在图中只记载了 4条臂75，关于臂的条数不局限于4条，例如也可以是8条。作为移动筒部的外筒部73与内筒部53同轴地设置，圆筒部81、82上下连接地形成。圆筒部81的外径形成得小于圆筒部82的外径。圆筒部81被操作盘72的侧壁部74 包围，圆筒部81的上缘向内侧突出，进入凸缘38、39之间。这样，凸缘38、39夹持圆筒部81 的上缘及操作盘72的内缘，从而抗蚀剂供给管3的高度相对于上侧盖71的高度被固定。齿部83在圆筒部81的外周在周向隔出适当的间隔地向该圆筒部81的外方凸出，齿部83在周向的一侧、在周向的另一侧分别具有卡合面84、85。在圆筒部82的内周86上形成有螺纹，该螺纹与内筒部53的外周56的螺纹相螺合。并且，通过外筒部73绕轴线旋转，外筒部73相对于盖主体部52在轴向上前进后退，由此，抗蚀剂供给管3的高度位置沿着该抗蚀剂供给管3的长度方向发生变化。在此，说明瓶盖5的动作。在抗蚀剂供给管3的下端从储液瓶21的底面25浮起的状态下，俯视观察例如将操作盘72顺时针旋转时，如图7的(a)所示，爪部76的卡合面 77与齿部的卡合面84相互卡合，外筒部73与操作盘72的旋转相对应地也顺时针旋转。由此，上侧盖71相对于下侧盖51沿着抗蚀剂供给管3的长度方向向下方移动。如上所述，由于上侧盖71的位置相对于抗蚀剂供给管3的高度方向被固定，所以当上侧盖71相对于下侧盖51向下方移动时，则抗蚀剂供给管3也相对于下侧盖51向下方移动。并且，抗蚀剂供给管3的下端接触储液瓶21的底面25时，则为了旋转外筒部73 所需要的转矩变大，如图7的(b)所示，臂75的顶端侧向外方弯曲，爪部76触及齿部83，卡合面77和卡合面84之间的卡合被解除。操作盘72继续旋转，爪部76越过齿部83时，臂 75在其回复力的作用下恢复到原来的形状。操作盘72进一步旋转，爪部76再次抵接于齿部83时，同样地臂75弯曲，爪部76触及齿部83。这样爪部76与齿部83的卡合被解除，操作盘72空转，外筒部73不再旋转。由此， 抗蚀剂供给管3的下端被固定成其接触储液瓶21的底面25的状态。像这样，瓶盖5构成为在外筒部73的转矩增大至大于规定值时使该外筒部73的旋转停止的、所谓的带有转矩限制器的盖。另外，俯视观察逆时针旋转操作盘72时，如图7的(c)所示，爪部76的卡合面78 和齿部83的卡合面85相互卡合，外筒部73与操作盘72的旋转相对应地也逆时针旋转。 由此上侧盖71相对于下侧盖51上升，抗蚀剂供给管3也相对于下侧盖51上升。这些爪部 76和齿部83如上所述那样形成，以便使抗蚀剂供给管3上升时，爪部76和齿部83之间的卡合不会解除。图8说明了应用此前说明的加压式抗蚀剂供给容器2的抗蚀剂涂覆装置12的结构。在配管43的下游设置有抗蚀剂供给喷嘴13。另外，在配管43上设置有具有质量流量控制器等的流量控制部14，控制抗蚀剂20的流量。图中的附图标记15是旋转夹头，其用于水平地保持晶圆W的背面侧中央的同时，使晶圆W绕铅垂轴线旋转，将供给的抗蚀剂旋涂。 在旋转夹头15的周围设置有抑制抗蚀剂飞散的杯状件16。在杯状件16上设置有排液口 17和排气口 18。设置于队气体供给配管43的阀Vl打开时，N2气体自队气体供给源19供给至储液瓶21，储液瓶21内被加压。于是，抗蚀剂20流入抗蚀剂供给管3的抗蚀剂流路31，抗蚀剂20从抗蚀剂供给喷嘴13喷出至晶圆W的中心部。喷出的抗蚀剂20在离心力的作用下向晶圆W的周缘部伸展，而使抗蚀剂20涂覆于晶圆W的整个表面。下面针对使用者在清洁室内将抗蚀剂供给机构1安装于储液瓶21、并调整抗蚀剂供给管3的位置的操作顺序进行说明。首先，调整上侧盖71使其相对于下侧盖51位于稍靠上方的位置。准备储存有抗蚀剂20的储液瓶21，使抗蚀剂供给管3从该储液瓶21的开口部22进入储液瓶21内(图9的(a))。使开口部22的外周M的螺纹与下侧环62的内周64的螺纹螺合，将抗蚀剂供给机构1固定于储液瓶21，对储液瓶21内进行密闭(图9的 (b))。这时，抗蚀剂供给管3的下端从储液瓶21的底面25浮起。接着，为了降低抗蚀剂供给管3的高度，使用者按照已述的方式旋转操作盘72。如图7的(a)所示，外筒部73也向与操作盘72的旋转方向相同的方向旋转，上侧盖71的高度位置下降，与之相应地抗蚀剂供给管3的高度位置也下降(图10的(a))。抗蚀剂供给管 3的下端接触储液瓶21的底部时，如图7的(b)所示，操作盘72空转，抗蚀剂供给管3的下降停止(图10的(b))。这样，如果操作盘72变为空转，使用者就停止旋转操作盘72。并且为使抗蚀剂供给管3铅垂，将储液瓶21设置于清洁室内的规定的放置位置。更换储液瓶21时，以与将抗蚀剂供给机构1安装于储液瓶21时相反的动作将抗蚀剂供给机构1取下。接着，向与降低抗蚀剂供给管3的高度时相反的方向旋转操作盘72。 如图7的(c)所示，外筒部73也向与操作盘72的旋转方向相同的方向旋转，上侧盖71相对于下侧盖51的高度位置上升。其后，准备新的装有抗蚀剂20的储液瓶21，再次用所述的方式安装抗蚀剂供给机构1。采用这样的抗蚀剂供给机构1，为了降低抗蚀剂供给管3的高度而旋转操作盘72 时，抗蚀剂供给管3的下端接触储液瓶21的底面25，高度相对于抗蚀剂供给管3被固定的外筒部73的转矩变大时，设置于操作盘72的爪部76和设置于外筒部73的齿部83之间的卡合被解除，操作盘72空转。因此，即使不能够从储液瓶21的外部目视抗蚀剂供给管3的下端的高度位置，也不管使用者的技巧和经验如何，就能够在抗蚀剂供给管3的下端接触储液瓶21的底面25的状态下将其固定。结果，能够抑制储液瓶21中的抗蚀剂的残留液量， 避免增加处理成本。并且，在抗蚀剂供给机构1中，抗蚀剂供给管3的高度调整和其相对于瓶盖5的固定均可通过旋转操作盘72这一项操作来完成。因此，正如背景技术的内容中所记载的那样，与调整完抗蚀剂供给管3的位置之后再固定抗蚀剂供给管3的位置相比，能够减少使用者的操作工序数，因此能够减轻使用者的负担，能够缩短操作时间。另外，由于N2气体流路35形成于抗蚀剂供给管3，这同与抗蚀剂供给管3分开地设置下游端进入储液瓶21内的N2气体供给管这种结构相比，能够减少抗蚀剂供给机构1的接头。由此可以简化抗蚀剂供给机构1的结构的同时，能够更可靠地防止储液瓶21内处理液、气体的泄漏。在上述例子中，作为处理液使用了抗蚀剂20，也可以将例如稀释剂或HMDS(六甲基二硅胺烷)等其它液体作为处理液。例如，可以在抗蚀剂20之前先供给稀释剂至晶圆以改善抗蚀剂在晶圆W上的浸润扩展。HMDS能够使晶圆表面疏水化来提高抗蚀剂0的密合性。另外，在放置有储液瓶21的气氛中，即使不是由于储液瓶21遮光，而是由于处理液遮光而造成处理液供给管3的下端不可见时，本发明也可以有效地如上所述那样使处理液供给管3的下端接触底面25而将处理液供给管3的下端的高度位置固定。对于抗蚀剂供给机构1的变形例即抗蚀剂供给机构9，下面参照作为其立体图的图11及其纵剖侧视图的图12以其与抗蚀剂供给机构1的不同点为中心进行说明。对其与抗蚀剂供给机构1相同的部分标注相同的附图标记，省略说明。该抗蚀剂供给管3上未形成有队气体流路35。在下侧盖51的支承部M的上侧设置有凸起部92，自凸起部92的上端向支承部M的下端设置有队气体的流路93。流路93的下端开口于储液瓶21的开口部22，图中附图标记5 是与流路93相对应地形成于密封构件58的开口部。在凸起部92上设有N2气体供给件42。即使这样构成 N2气体的流路93，与将向储液瓶21内供给队气体的N2气体供给管另外设置于下侧盖51的情况相比，能够减少抗蚀剂供给机构9的接头。另外，用于使操作盘72和圆筒部81相卡合的构造不限于上述例子。在图13的例子中，在圆筒部81的外周设有作为被卡合部的凹部94。另外，从操作盘72的内周向其中心设有由弹簧95施力的作为卡合部的卡合片96。在抗蚀剂供给管3从储液瓶21浮起的状态下，降低该抗蚀剂供给管3的高度位置时，如图所示，卡合片96与凹部94相卡合，从而圆筒部81与操作盘72 —同旋转。当抗蚀剂供给管3的下端接触储液瓶21的下端时，卡合片 96从凹部94出来，上述卡合被解除。上述例子中，上侧盖71作为与抗蚀剂供给管3 —同移动的移动筒部，上侧盖71位于作为固定于储液瓶21的固定筒部的下侧盖51的外侧。但是上侧盖71也可以位于下侧盖51的内侧。SP，上侧盖71的圆筒部82位于下侧盖51的内筒部53的内侧，为使圆筒部 82的外周和上述内筒部53的内周相互地螺合，也可以形成有螺纹。另外，操作盘72也不限于位于外筒部73的外侧。图14是表示操作盘72与外筒部73之间位置关系的概要图。操作盘72的内缘侧向下方突出，构成了进入外筒部73的内侧的环状的突出部97。例如，在突出部97的外周面上设置有齿部83，在外筒部73的内周面上设置有爪部76及臂75。并且，与上述的例子相同，旋转操作盘72而外筒部73的转矩变大时，爪部76与齿部83的卡合被解除。并且，在上述例子中，外筒部73的转矩变大时，臂75变形，爪部76与齿部83的卡合被解除，但替代设有这样的臂75，爪部76或齿部83也可以具有弹性地构成，在上述转矩变大时，通过该爪部76或齿部83变形来解除卡合。
权利要求
1.一种处理液供给机构，该处理液供给机构用于供给储存于由容器主体和堵在该容器主体的上面开口部的盖部构成的容器的内部的处理液，其特征在于，其包括固定筒部，其自上述盖部向容器主体的上方突出，在其周面上形成有螺纹； 移动筒部，其与该固定筒部同轴地螺合设置于该固定筒部的内侧或外侧； 处理液供给管，其相对于由上述固定筒部和移动筒部构成的筒部沿轴向移动自如地贯通该筒部和上述盖部的同时，轴向的位置相对于移动筒部被固定； 旋转操作部，其具有与上述移动筒部同轴设置的环状部；卡合部及被卡合部，它们分别设置在上述移动筒部及上述环状部，在旋转上述旋转操作部时，该卡合部及该被卡合部相互卡合而移动筒部旋转，并且，当施加于移动筒部的转矩变大时，卡合被解除，使旋转操作部旋转而处理液供给管的下端抵接于容器主体的底部时，卡合部和被卡合部的卡合被解除，旋转操作部空转。
2.根据权利要求1所述的处理液供给机构，其特征在于，容器具有遮光性。
3.根据权利要求1所述的处理液供给机构，其特征在于，并非容器具有遮光性，而是处理液具有遮光性。
4.根据权利要求1或2所述的处理液供给机构，其特征在于，固定筒部位于移动筒部的内侧。
5.根据权利要求1或2所述的处理液供给机构，其特征在于，上述环状部包围移动筒部地设置于该移动筒部的外侧。
6.根据权利要求1或2所述的处理液供给机构，其特征在于，通过加压用气体压送处理液。
7.根据权利要求6所述的处理液供给机构，其特征在于，在上述处理液供给管上设置有与处理液的流路相区分的上述加压用气体的供给路径。
8.根据权利要求6所述的处理液供给机构，其特征在于，固定筒部位于移动筒部的内侧。
9.根据权利要求6所述的处理液供给机构，其特征在于，上述环状部包围移动筒部地设置于该移动筒部的外侧。
全文摘要
本发明提供一种能够防止处理液残留在容器主体的处理液供给机构。该处理液供给机构包括固定筒部，自盖部向容器主体的上方突出，在其周面上形成有螺纹；移动筒部，与该固定筒部同轴地螺合设置于该固定筒部的内侧或外侧；处理液供给管，相对于由固定筒部和移动筒部构成的筒部沿轴向移动自如地贯通该筒部和上述盖部的同时，轴向的位置相对于移动筒部被固定；旋转操作部，具有与移动筒部同轴设置的环状部。在上述移动筒部及上述环状部分别设置有卡合部及被卡合部，在旋转上述旋转操作部时，卡合部及被卡合部相互卡合而移动筒部旋转，当施加于移动筒部的转矩变大时，卡合被解除。由此使处理液供给管的下端抵接于容器主体的底部而被固定。
文档编号B65D83/16GK102233989SQ20111007973
公开日2011年11月9日 申请日期2011年3月30日 优先权日2010年4月28日
发明者中岛常长, 白石俊介, 竹尾俊英 申请人:东京毅力科创株式会社