专利名称：处理液供给装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及使用于对以液晶面板、其他显示用面板为首的、用于各种用途的玻璃基板等的单张式基板进行清洗、蚀刻、显影、剥离等的湿式处理的节省液体型的处理液供给装置的改良。
背景技术：
以往，公知有如专利文献1记载的通称为处理液回收型的处理液(清洗液)供给装置。该处理液供给装置将呈箱形的上部筐体和下部筐体相对向配置，在这些上下框体间形成基板处理路径，从而使该基板通过处理路径。而且，从上下筐体的基板搬送方向下游侧向基板处理路径供给处理液，同时从上下筐体的基板搬送方向上游侧排出对基板处理供给后的处理液。
根据这种结构的处理液供给装置，由于在基板通过上下筐体间的基板处理路径期间利用向基板处理路径供给的必要并且充分的量的处理液，来对基板实施规定的处理，所以与向搬送中的基板的表面和背面喷射处理液的方式相比，能够减少处理液的量，因此不仅能够力求降低运转成本，还能够使处理液供给装置小型化，对降低设备成本也做出贡献。
专利文献1JP特开2003-53283号公报。
然而，在专利文献1记载的处理液供给装置中，存在如下问题在上下筐体的宽度尺寸(与基板搬送方向垂直的方向的尺寸)与长度尺寸(基板搬送方向的尺寸)相比足够长，并且，在使用疏水性材料(例如合成树脂材料)作为构成筐体的材料的情况下等，导入到上下筐体间的基板处理路径的处理液，从上下筐体的处理液供给侧的端部以及处理液排出侧的端部泄漏到外部。
发明内容
本发明是鉴于这种问题而提出的，其目的在于提供一种处理液供给装置，该装置以处理液回收型的装置为对象，即使是上下筐体用疏水性的材料形成、并且基板宽方向较大的装置，也能够有效地防止在基板处理中处理液从筐体间泄漏的情况。
本发明提供一种处理液供给装置，具有上部处理部与下部处理部，该上部处理部具有上部底板，其与通过的基板的上表面相对向；上部液体供给路径部，其设置在上述上部底板的基板搬送方向的下游端，对上述上部底板的下表面侧供给处理液；以及上部液体排出路径部，其设置在上游端，将上述供给的处理液从上述上部底板的下表面侧吸引排出，该下部处理部与上述上部处理部相对向配置，并具有下部顶板，其与通过的基板的下表面相对向；下部液体供给路径部，其设置在上述下部顶板的基板搬送方向的下游端，对上述下部顶板的上表面侧供给处理液；以及下部液体排出路径部，其设置在上游端，将上述供给的处理液从上述下部顶板的上表面侧吸引排出，其特征在于，在上述上部以及下部液体供给路径部的各外表面，相对向设置有分别向基板搬送方向突出的翼，上述各翼至少在一部分上具有相对向面的距离比上述上部底板以及下部顶板的相对向面间的距离短的部位。
根据这样的结构，被从基板搬送方向的上游端搬入到上部处理部的上部底板与下部处理部的下部顶板之间的基板，其上表面侧通过从基板搬送方向的下游侧的上部液体供给路径部供给到上部处理部的处理液来实施处理，同时其下表面侧通过从下游端的下部液体供给路径部供给到下部处理部的处理液来实施处理，在表面和背面都被处理了的状态下被从处理液供给装置搬出。
另一方面，从上部液体供给路径部供给的处理液从下游端向上游端与基板逆流接触并流下的同时，在上部处理部对基板的上表面实施了处理后，由设置在上流端的上部液体排出路径部吸引排出；同时，从下部液体供给路径部供给的处理液从下游端向上游端流下的同时在下部处理部对基板的下表面实施了处理后，由设置在上游端的下部液体排出路径部吸引排出。
这样，基板从上游端被搬入处理液供给装置并向下游端搬送，从而通过与从下游端供给并向上游端流下的处理液逆流接触，来对其表面和背面进行处理，所以与以往的对基板散布处理液的方式相比，能够确保可靠的处理的同时，减少处理液的量。
而且，由于在上部以及下部液体供给路径部的各外表面，设置有向基板搬送方向分别突出设置的、并且允许基板通过的翼，各翼以它们的相对向面间的距离比上部底板以及下部顶板的相对向面间的距离短的方式设定设置位置，所以从上、下液体供给路径部向基板供给的处理液，被这些翼阻挡而增大表面张力，从而能够提高液密闭性，由此能够提高对基板的处理效率，同时能够抑制随着基板而从处理液供给装置泄漏出的量。
本发明提供的处理液供给装置，在上述处理液供给装置的基础上，其特征在于，上述翼具有锷部，其固定在上述上部以及下部液体供给路径部的各外表面；水平延伸部，其从该锷部的端部水平延伸，与搬送中的基板的被处理面相对向，并且具有阶梯部，该阶梯部通过切掉上述锷部与水平延伸部的结合位置上的外表面侧的角部而形成。
根据这样的结构，上、下一对翼，在通过将其锷部分别固定在上部以及下部液体供给路径部，从而各水平延伸部向外方水平突出的状态下，安装在处理液供给装置上。而且，在上下相对向的一对翼中，通过切掉各锷部与各水平延伸部的结合位置上的外表面侧的角部而分别形成阶梯部，从而用该阶梯部能够缓和要随着基板被排出的处理液的态势，由此能够更为有效地防止随着基板的处理液的泄漏。
本发明提供的处理液供给装置，在上述处理液供给装置的基础上，其特征在于，上述上下的翼被设定为上下对称的形状。
根据这样的结构，能够由相同形状的一种翼来应对上下液体供给部，从而为减低制造成本做出贡献。
本发明提供一种处理液供给装置，具有上部处理部与下部处理部，该上部处理部具有上部底板，其与通过的基板的上表面相对向；上部液体供给路径部，其设置在上述上部底板的基板搬送方向的下游端，对上述上部底板的下表面侧供给处理液；以及上部液体排出路径部，其设置在上游端，将上述供给的处理液从上述上部底板的下表面侧吸引排出，该下部处理部与上述上部处理部相对向配置，并具有下部顶板，其与通过的基板的下表面相对向；下部液体供给路径部，其设置在上述下部顶板的基板搬送方向的下游端，对上述下部顶板的上表面侧供给处理液；以及下部液体排出路径部，其设置在上游端，将上述供给的处理液从上述下部顶板的上表面侧吸引排出，其特征在于，上述上部液体排出路径部具有向下表面开通的、吸引处理液的吸引孔，上述吸引孔的下表面相比于上述上部底板的下表面而向下方突出。
根据这样的结构，在对于用处理液进行的基板的处理，具有与上述发明同样的作用的基础上，上部液体排出路径部，由于吸引孔的下表面比上部底板的下表面更向下方突出(即，以排出路径部的下表面处于上部底板的下表面的下方的方式设定设置位置)，所以在基板的上表面侧形成的上部处理部从下游端向上游端流下的处理液，撞击到以下表面处于上部底板的下表面的下方的方式设定设置位置的排出路径部，由此能够防止被排出到处理液供给装置外这样的问题，能够可靠地被上部液体排出路径部吸引。
这样，通过使吸引孔的下表面比上部底板的下表面更向下方突出，从而虽然是极为简单的结构，但能够有效地抑制处理液从处理液供给装置的上流端泄漏到外部。
根据本发明，由于在上部以及下部液体供给路径部的各外表面，设置有向基板搬送方向分别突出设置的、并且允许基板通过的翼，各翼以它们的相对向面间的距离比上部底板以及下部顶板的相对向面间的距离短的方式设定设置位置，所以从上、下液体供给路径部向基板供给的处理液会被这些翼阻挡而增大表面张力，从而能够提高液密闭性，由此能够提高对基板的处理效率，同时能够抑制随着基板而从处理液供给装置泄漏出的量，为减低处理成本做出贡献。
另外，即使在基板还没有通过的初始的液密闭生成中，也能够抑制泄漏量、从而促进处理液流向吸引排出侧。
根据本发明，通过切掉上下相对向的一对翼的各锷部与各水平延伸部的结合位置上的外表面侧的角部而分别形成阶梯部，从而用该阶梯部能够缓和要随着基板被排出的处理液的态势，由此能够更为有效地防止处理液随着基板的泄漏。
根据本发明，由于上述上下翼被设定为上下对称的形状，所以能够由相同形状的一种翼来应对上、下液体供给部，从而为减低制造成本做出贡献。
根据本发明，通过使吸引孔的下表面比上部底板的下表面更向下方突出，从而虽然是极为简单的结构，但能够有效地抑制处理液从处理液供给装置的上流端泄漏到外部。
图1是表示本发明的处理液供给装置的一个实施方式的分解立体图。
图2是图1所示的处理液供给装置的组装立体图。
图3是图2的A-A线剖视图。
图4是表示上部喷嘴模块以及下部喷嘴模块的一个实施方式的局部剖开立体图，图4A表示上部喷嘴模块，图4B表示下部喷嘴模块。
图5是表示下部顶板的一个实施方式的局部剖开立体图。
图6是图5的D-D线剖视图。
图7是表示上部排液模块以及下部排液模块的一个实施方式的局部剖开立体图，图7A表示上部排液模块，图7B表示下部排液模块。
图8是表示使用了本发明的处理液供给装置的基板处理装置的一个实施方式的侧视的说明图。
图9是表示安装在下部顶板上的滚轮的其他实施方式的剖视图。
具体实施例方式
本发明的处理液供给装置如下构成设置在以水平姿态搬送基板的搬送路径的中途，对搬送中的基板从上下筐体向基板的表面和背面逆流供给处理液，从而实施规定的处理，并可以通过上下筐体来回收处理后的处理液，即，是对处理液回收型的装置进行改良的装置。
图1是表示本发明的处理液供给装置的一个实施方式的分解立体图，图2是表示组装立体图。另外，图3是图2的A-A线剖视图。此外，在图3中的圆内，放大表示了前方上部翼251以及前方下部翼351。顺便说明一下，这些图都是所谓的原理图，其为了容易理解本发明的处理液供给装置，而除去设计事项的部分，在原理上表示该处理液供给装置。另外，在图1～图3中，将X-Y方向称为左右方向，将Y-Y方向称为前后方向，特别地将-X方向称为左方，将+X方向称为右方，将-Y方向称为前方，将+Y方向称为后方。
而且，在这些图中，相对于从后方向前方搬送基板B(在本实施方式中是玻璃基板)，而从前方向后方对基板B供给处理液，因此使基板B在处理液供给装置10内与处理液逆流接触来实施规定的处理。
如图1～图3所示，处理液供给装置10具有这样的基本结构相对于并列设置有多个搬送辊511(参照图8)的、水平地沿着前后方向延伸的基板搬送路径51，具有配设在上部的上部筐体(上部处理部)20、和以与该上部筐体20相对向的状态而相对向配设在上部筐体20的下部的下部筐体(下部处理部)30。
上述上部筐体20由以下部分构成，具有上部底板21，其俯视呈矩形形状；上部喷嘴模块(上部液体供给路径部)22，其一体地竖立设置在该上部底板21的前方边缘部，并向左右方向延伸；上部排液模块(上部液体排出路径部)23，其一体地竖立设置在上部底板21的后方边缘部，并与上述上部喷嘴模块22同样长；上部顶板24，其架设在这些上部喷嘴模块22以及上部排液模块23的上边缘部之间；前后方向上的一对上部翼25，其分别固定在上部喷嘴模块22的前表面以及上部排液模块23的后表面，并分别与该上部喷嘴模块22以及上部排液模块23具有相同的长度。
上述下部筐体30由以下部分构成，具有下部底板31，其俯视呈矩形状；下部喷嘴模块(下部液体供给路径部)32，其一体地竖立设置在该下部底板31的前方边缘部，并向左右方向延伸；下部排液模块(下部液体排出路径部)33，其一体地竖立设置在下部底板31的后方边缘部，并与上述下部喷嘴模块32同样长；下部顶板34，其架设在这些下部喷嘴模块32以及下部排液模块33的上边缘部之间；前后方向上的一对下部翼35，其分别固定在下部喷嘴模块32的前表面以及下部排液模块33的后表面，分别与该下部喷嘴模块32以及下部排液模块33具有相同的长度。
而且，采用左右方向上的一对侧板40作为这些上下筐体20、30的共用构件，这一对侧板40夹持着以上下的方式相对向配置的上部筐体20用的各构件以及下部筐体30用的各构件，并用螺栓拧紧固定，从而形成由上部筐体20和下部筐体30构成的处理液供给装置10。而且，在形成了处理液供给装置10的状态下，在上部筐体20的上部底板21与下部筐体30的下部顶板34之间，形成对在沿着基板搬送路径51被搬送的基板B实施规定处理液的处理的基板处理空间V。
该基板处理空间V的上下尺寸被设定为比基板B的厚度尺寸大很多的尺寸(在本实施方式中大概为6mm)，因此，从上下的喷嘴模块22、32喷出的处理液沿着在基板处理空间V内被搬送的基板B的表面和背面，与基板B逆流而向着上下的排液模块23、33流下，在该期间由处理液对基板B的表面和背面进行处理。另外，将上部喷嘴模块22和上部排液模块23之间的距离，设定为与下部喷嘴模块32和下部排液模块33之间的距离相等。
图4是表示上部喷嘴模块22以及下部喷嘴模块32的一个实施方式的局部剖开立体图。图4A表示上部喷嘴模块22，图4B表示下部喷嘴模块32。此外，图4中的X以及Y的方向表示(X表示左右方向(-X左方；+X右方)，Y表示前后方向(-Y前方；+Y后方))与图1的情况相同。
首先，如图4A所示，上述上部喷嘴模块22由规定的合成树脂材料形成，呈左右方向较长的长方体。这样的上部喷嘴模块22，在前表面的中央位置螺设有螺纹孔221，同时该螺纹孔221的内部连通到以在上部喷嘴模块22内沿左右方向的大致全长延伸的方式形成的处理液供给通路222。该处理液供给通路222连接着在左右方向的全长以等间距贯穿设置的、在上部喷嘴模块22的下表面具有开口的多个喷孔223。
另外，在上述螺纹孔221中螺接有安装在后述的处理液供给管522的前端侧的流体连接器C。因此，在上述处理液供给管522通过流体连接器C连接到螺纹孔221的状态下，通过处理液供给管522供给处理液，从而该处理液通过处理液供给通路222而从各喷孔223向下方喷出。
接下来，如图4B所示，上述下部喷嘴模块32基本上与上部喷嘴模块22同样构成，但是在喷孔323从处理液供给通路322向上方分岔这一点上与上部喷嘴模块22不同。从而，从处理液供给管522通过流体连接器C以及螺纹孔321而向处理液供给通路322供给的处理液，由从处理液供给通路322分岔的多个喷孔323向上方喷出。
图5是表示下部顶板34的一个实施方式的局部剖开立体图，图6是图5的D-D线剖视图。此外，图5以及图6中的X以及Y的方向表示与图1的情况相同(X表示左右方向(-X左方；+X右方)，Y表示前后方向(-Y前方；+Y后方))。
首先，如图5所示，下部顶板34由以下部分构成，具有俯视呈矩形形状的厚一些的顶板主体341；和层叠在该顶板主体341的上表面上的、俯视形状与顶板主体341相同的层叠板348。
在上述顶板主体341上，凹进设置有在前后方向以及左右方向双方分别以规定的等间距设定的、俯视呈矩形形状的多个凹部342，同时在各凹部342分别安装有滚轮(旋转支撑体)343。在本实施方式中，凹部342在前后方向设置有4个，在左右方向设置有8个，合计设置32个，但凹部342的设置个数并不仅限于32个，而是要根据处理液供给装置10的规模和应处理的基板B的种类、尺寸等来适当设定最合适的个数。
在上述层叠板348上，在与上述各凹部342相对向的位置分别贯穿设置了方孔349，在滚轮343安装在凹部342的状态下，使该滚轮343的圆周面的一部分通过方孔349而突出到外部。
如图6所示，上述滚轮343由滚轮轴344、和同心且一体地外嵌在该滚轮轴344的轴心方向的中央部的圆形的滚轮主体345构成。滚轮主体345的厚度尺寸设定为比滚轮轴344的长度尺寸薄一些，由此滚轮轴344呈从滚轮主体345向相互相反的方向突出的状态。
另一方面，在顶板主体341上，如图6所示，在凹部342的相互相对向的、沿前后方向(图6纸面的左右方向)延伸的各相对向边缘部的中央部，凹进设置有轴长方向的一对轴承槽346，该轴承槽是从上表面侧切入与上述滚轮轴344直径相同的尺寸而形成的，通过向这些轴承槽346中分别嵌入滚轮轴344的两端部，使滚轮343可围绕滚轮轴344旋转自由地安装在凹部342中。上述滚轮轴344在安装在轴承槽346的状态下，由于层叠板348覆盖住顶板主体341，从而处于防脱状态。
因此，搬入到基板处理空间V内的基板B在由这些滚轮343支撑的状态下，由滚轮343的旋转引导，同时没有弯曲地在基板处理空间V内流畅的移动。
而且，在凹部342的底部，贯穿设置了向下方延伸的除液孔(排液路径)347，在基板处理空间V流下的处理液，其一部分通过该除液孔347而排出，因此，通过导入到基板处理空间V内的基板B的背面与滚轮主体345的圆周面滑动接触而生成的颗粒，随同该排出的处理液而排出，所以能够可靠地防止发生这样的问题，即由于从基板处理空间V中导出附着了颗粒的基板B，而保持着基板B的污染状态。
图7是表示上部排液模块23以及下部排液模块33的一个实施方式的局部剖开立体图，图7A表示上部排液模块23，图7B表示下部排液模块33。此外，图7中的X以及Y的方向表示(X表示左右方向(-X左方；+X右方)，Y表示前后方向(-Y前方；+Y后方))与图1的情况相同。
首先，上述上部排液模块23在结构上与先前的上部喷嘴模块22同样地构成，如图7A所示，由规定的合成树脂材料形成，呈左右方向较长的长方体。这样的上部排液模块23在前表面的中央位置螺设有螺纹孔231，同时该螺纹孔231的内部(前方)连通到以在上部排液模块23内沿左右方向的大致全长延伸的方式形成的处理液排出通路232。该处理液排出通路232连接到在左右方向的全长以等间距贯穿设置的、在上部排液模块23的下表面具有开口的多个处理液吸引孔233。
另外，在上述螺纹孔231螺接有被安装在后述的排液管532的前端侧的流体连接器C。因此，上述排液管532通过流体连接器C而连接到螺纹孔231，从而在基板处理空间V内对基板B进行了处理之后的处理液在基板处理空间V的下游端被多个处理液吸引孔233吸引，通过处理液排出通路232之后经由排液管532而被回收。
接下来，如图7B所示，上述下部排液模块33基本上与上部排液模块23同样构成，但是在处理液吸引孔333从处理液排出通路332向上方分岔这一点上与上部排液模块23不同。而且，由处理液吸引孔333吸引的、对基板B进行了规定的处理的、完成了处理的处理液(排液)，经由处理液排出通路332、螺纹孔331以及流体连接器C而通过排液管532被回收。
另外，上、下处理液吸引孔233、333没有分别设置在上、下排液模块23、33中的左端部以及右端部，因此与上、下喷嘴模块22、32的各喷嘴223、323相比，孔数较少。这是因为在基板处理空间V内被搬送的基板B将处理液带出而导致基板处理空间V内的处理液量减少时，空气通过端部的处理液吸引孔233、333而被吸引到上、下排液模块23、33内，而上述这样的设置是为了防止这样的空气的吸引。
而且，在本实施方式中，设定上部排液模块23的上下尺寸而使其下端面位于比上述上部底板21的下表面更往下一些(在本实施方式中为1mm)的下方。因此，在基板处理空间V内沿着基板B的表面逆流流下的处理液的一部分与上部排液模块23的下端部相接触，因由此导致的流量的抑制而使处理液被上部排液模块23更有效地吸引，从而能够减少处理液随着基板B的表面而从基板处理空间V被运出的量。
而且，下部排液模块33的上端面与下部顶板34的上表面设定在同一平面上。这样设置的原因在于，在下部排液模块33的情况下，即使不特别使下部排液模块33的上端面比下部顶板34的上表面更向上突出，也能够使在基板处理空间V内流下的处理液在重力作用下流入下部排液模块33的处理液排出通路332。
接下来，上述上、下翼25、35(参照图1～图3)用于防止从上下喷嘴模块22、32供给到基板处理空间V内的处理液沿着基板B的表面和背面从基板处理空间V向基板搬送方向泄漏的情况。在本实施方式中，上、下筐体20、30基本上是由PVC(聚氯乙烯)或PTFE(聚四氟乙烯)等合成树脂材料构成的，由于这些合成树脂材料具有疏水性，水性的处理液当被供给到基板处理空间V时，会被周围的疏水性的环境排斥，由此，有可能通过基板B的表面和背面与上下喷嘴模块22、32的前端面之间的空隙而向基板搬送方向泄漏，采用这样的翼25、35就是为了防止这样的处理液的泄漏。
而且，在本实施方式中，虽然上、下翼25、35采用了合成树脂制品(例如PTFE等的氟类树脂制品)，但本发明并不限定上下翼25、35为合成树脂制品，也可以是不锈钢等的金属制品。
上述上部翼25由一体地安装在上部喷嘴模块22的前表面侧的前方上部翼251、与一体地安装在上部排液模块23的后表面侧的后方上部翼252构成。
如图1所示，上述前方上部翼251由以下部分构成，具有呈左右方向较长的板状的装配板部(锷部)253；从该装配板部253的下端部向前方突出设置的、与该装配板部253相同长的翼主体(水平延伸部)254。上述装配板部253用于通过省略图示的密封构件而固定在上部喷嘴模块22的前表面侧。
所述的前方上部翼251具有阶梯部255，该阶梯部255如图3的圆内所示，通过装配板部253以及翼主体254以相互垂直的方式结合的部分的角部，在左右方向(与图3的纸面垂直的方向)的全长，侧面看被切成钩状而形成。使阶梯部255的上表面为水平面，同时使前方的面为垂直面。
上述后方上部翼252基本上与前方上部翼251同样构成，如图1以及图3所示，由以下部分构成，具有呈左右方向较长的板状的装配板部253；从该装配板部253的下端部向后方突出设置的、与该装配板部253相同长的翼主体254，但是没有设定像形成于前方上部翼251那样的阶梯部255。
上述下部翼35由一体地安装在下部喷嘴模块32的前表面侧的前方下部翼351、与一体地安装在下部排液模块33的后表面侧的后方下部翼352构成。
如图3的圆内所示，上述前方下部翼351侧视与上述前方上部翼251轴对称地形成。这样的前方下部翼351由以下部分构成，具有与前方上部翼251的装配板部253相同的装配板部(锷部)353；从该装配板部353的上端部向前方突出设置的、与该装配板部353相同长的翼主体(水平延伸部)354。在该前方下部翼351也设置有与前方上部翼251的阶梯部255相同的阶梯部355。
上述后方下部翼352基本上与前方下部翼351同样构成，如图1所示，由以下部分构成，具有呈左右方向较长的板状的装配板部353；从该装配板部353的上端部向后方突出设置的、与该装配板部353相同长的翼主体354，但是没有设定像形成于前方下部翼351那样的阶梯部355。
而且，上述前方上部翼251以及前方下部翼351如下这样设定设置位置使这些翼主体254、354间的间隙尺寸为比基板处理空间V的上下尺寸小且基板B不接触就可以通过的尺寸。这样设定是为了防止如下这样的情况上下筐体20、30都是由疏水性的合成树脂材料形成，因此从上、下喷嘴模块22、32喷出的处理液会被合成树脂材料排斥，而从基板处理空间V向基板搬送方向的下游侧泄漏。
即，通过在前方上部翼251以及前方下部翼351分别设置有阶梯部255、355，从上、下喷嘴模块22、32喷出的处理液会被上、下阶梯部255、355的垂直壁阻挡，所以能够有效地防止处理液从基板处理空间V向基板搬送方向的下游侧泄漏。
在本实施方式中，上、下翼25、35的翼主体254、354间的间隙尺寸设定为约4mm，但本发明并不限定上述间隙为4mm，而是根据基板B的种类、大小、还有处理液的处理条件等适当设定最合适的间隙尺寸。
此外，在本实施方式中，本发明的上、下翼的相对向面间的距离比上部底板21以及下部顶板34的相对向面间的距离短的部位，相当于前方上部翼251的翼主体254的下表面以及前方下部翼351的翼主体354的上表面。
如图1以及图2所示，上述侧板40起到如下这样的作用在上、下筐体20、30左右的侧面被共用，使这些上、下筐体20、30以规定的相离状态互相结合。
这样的侧板40由以下部分构成侧板主体41，其在除去构成上部筐体20的上部翼25以外的各构件以及除去构成下部筐体30的下部翼35以外的各构件以规定的间隔相对向配置的状态下，呈对应于上、下各构件的矩形形状；前后一对突出设置部42，其分别从该侧板主体41的前后的边缘部突出设置，并按照上、下前方翼25、35以及上、下后方翼25、35的端面的形状形成。而且，如图2所示，在构成上、下筐体20、30的各构件以规定的相离状态上下相对向配置的状态下，侧板40通过省略图示的密封构件分别用螺钉固定在这些构件的左右侧面上，从而完成处理液供给装置10。
在本实施方式中，处理液供给装置10，其前后尺寸设定为约90mm，同时将左右尺寸设定为约400mm，因此能够对应左右尺寸长的大型基板B的处理。此外，处理液供给装置10的尺寸并不仅限定于设定前后尺寸为约90mm、左右尺寸为约400mm，而是可以根据基板的种类和大小、还有处理条件等适当设定最合适的尺寸。顺便说明一下，在图1以及图2中，由于纸面的关系而将处理液供给装置10的左右方向的尺寸表示得比实际短一些。
另外，在本实施方式中，并不限于侧板40，对于构成处理液供给装置10的各构件间的接合，经由密封构件用螺钉固定来进行，但本发明并不仅限于用螺钉固定的方式来对各构件间进行接合，也可以通过经由规定的粘合剂的粘合处理来进行接合。
以下，基于图8，针对这样构成的处理液供给装置10所适用的基板处理装置进行说明。图8是表示使用了处理液供给装置10的基板处理装置的一个实施方式的侧视的说明图。如图8所示，基板处理装置50具有这样的基本结构，即，具有本发明涉及的处理液供给装置10；基板搬送路径51，其以贯通该处理液供给装置10的方式配设并水平地延伸；处理液供给系统52，其向处理液供给装置10供给处理液；处理液回收系统53，其回收在处理液供给装置10对基板B实施了规定处理之后的处理液(完成处理的液体)。
上述基板搬送路径51在本实施方式中，由沿着基板搬送方向并列设置的多个搬送辊511形成，通过省略图示的驱动单元的驱动而使各搬送辊511围绕轴心旋转，从而对装载在搬送辊511上的基板B进行搬送。
而且，处理液供给装置10如下这样进行设置，设定了高度基准而使得通过所述的基板搬送路径51来搬送的基板B的、在水平方向上延伸的中心线，位于在上、下筐体20、30间形成的基板处理空间V的上下方向的中央，在此状态下基板搬送路径51贯通基板处理空间V。因此，在搬送辊511的驱动下而沿着基板搬送路径51被搬送的基板B被导入到处理液供给装置10的基板处理空间V内，在基板处理空间V内移动的同时，由从上、下喷嘴模块22、32逆流供给的处理液对其表面和背面实施规定的处理。
上述处理液供给系统52如下这样构成，即具有处理液贮留槽521，其贮留处理液；处理液供给管522，其从该处理液贮留槽521向上、下喷嘴模块22、32而设置；处理液供给泵523，其设在该处理液供给管522上。处理液供给管522在下游侧分为两股，一方连接到上部喷嘴模块22，同时另一方连接到下部喷嘴模块32。因此，在处理液供给泵523的驱动下从处理液贮留槽521被导出的处理液，通过处理液供给管522向上、下喷嘴模块22、32供给。
上述处理液回收系统53如下这样构成，即具有处理液回收槽531，其对处理基板B后的处理液和在处理中从基板处理空间V泄漏的处理液等进行回收并贮留；处理后的处理液排液用的排液管532，其分别与上、下排液模块23、33连接，合流之后其下游端连接到处理液回收槽531；排液泵533，其设在该排液管532上；除液管(通用路径)534，其在分别连接到在上述顶板主体341(参照图5)上设置的多个除液孔347之后，汇合在一起；液体接收盆535，其设置在下部筐体30的下方位置，接收从处理液供给装置10的基板处理空间V泄漏的处理液。
上述除液管534，其下游端连接到处理液回收槽531，由此从基板处理空间V排出的处理液会由于自身重力而被回收到处理液回收槽531。在该除液管534上设置有除液阀536，可以通过改变该除液阀536的开度来调节除液量。另外，液体接收盆535形成为漏斗状，从而可以接收从处理液供给装置10的基板搬送方向的上游端开口以及下游端开口泄漏的处理液。液体接收盆535所接收到的、汇集在底部的泄漏处理液被回收到处理液回收槽531。
根据这种结构的基板处理装置50，在处理液供给泵523的驱动下通过处理液供给管522而供给到上、下喷嘴模块22、32的处理液，通过各自的喷孔223、323(参照图4)而供给到基板处理空间V内。在该基板处理空间V内供给的处理液，在注满基板处理空间V内之后，利用由排液泵533的驱动而产生的吸引力，通过上、下排液模块23、33各自的处理液吸引孔233、333而被吸引到排液管532，由此成为在基板处理空间V内形成了向着与基板搬送方向相反的方向的处理液的流路的状态。
当在此状态下基板B通过搬送辊511的驱动旋转而沿着基板搬送路径51被搬送到处理液供给装置10的基板处理空间V内时，该基板B在基板处理空间V内被滚轮343支撑着前进，并逆流与处理液接触，由此，由处理液对基板B的表面和背面进行处理。
而且，从上、下喷嘴模块22、32导入到基板处理空间V内的处理液，由于在上、下喷嘴模块22、32上附设的前方上部翼251以及前方下部翼351的各翼主体254、354间的间隙尺寸被设定为比基板处理空间V的上下尺寸小，所以能够有效地防止处理液向基板搬送方向下游侧泄漏。特别是在基板B通过前方上部翼251与前方下部翼351之间时，由于这些翼与基板的表面和背面之间的间隙尺寸非常小，所以能够减少处理液随着基板B流出。
另外，在基板B的表面流动并流下的处理液，在撞击到从上部底板21向下方突出的上部排液模块23的下端部之后，通过上部排液模块23的下端表面与基板B之间的细小间隙而被处理液吸引孔233所吸引，所以能够有效地抑制处理液从上部排液模块23侧泄漏。
另外，在基板B被搬入基板处理空间V内之前，虽然要使基板处理空间V内液密闭但被疏水性的环境排斥，因此处理液向基板搬送方向泄漏，使液密闭的生成变得困难。
然而，由于前方上部翼251以及前方下部翼351的各翼主体254、354间的间隙尺寸设定得比基板处理空间V的上下尺寸小，所以能够防止处理液向基板搬送方向下游侧泄漏，从而促进处理液流向吸引排出侧，使液密闭高效地生成。
如以上详细叙述，本发明的处理液供给装置10设有上部筐体20，同时与上部筐体20的下部相对向配置有下部筐体30，其中，上述上部筐体20由以下部分构成上部筐体20的上部底板21，其与通过的基板的上表面相对向；上部喷嘴模块22，其设置在该上部底板21的基板B搬送方向的下游端，对上部底板21的下表面侧供给处理液；上部排液模块23，其设置在上部底板21的基板搬送方向的上游端，将供给的处理液从上部底板21的下表面侧吸引排出。下部筐体30由以下构成下部顶板34，其与上部底板21相对向配置，与通过的基板B的下表面相对向；下部喷嘴模块32，其设置在下部顶板34的基板搬送方向的下游端，对下部顶板34的上表面侧供给处理液；下部排液模块33，其设置在下部顶板34的基板搬送方向的上游端，将供给的处理液从下部顶板34的上表面吸引排出。以此为前提，在上部以及下部喷嘴模块22、32的各外表面，设置有向基板搬送方向分别突出设置、并且允许基板B通过的上部翼25以及下部翼35，上、下翼25、35以它们相对向面间的距离比上部底板21以及下部顶板34的相对向面间的距离短的方式来设定设置位置。
因此，被从基板搬送方向的上游侧搬入到上部底板21与下部顶板34之间的基板B，其上表面侧通过从下游端的上部喷嘴模块22供给的处理液来实施处理，同时其下表面侧通过从下游端的下部喷嘴模块32供给的处理液来实施处理，在表面和背面都被处理了的状态下从处理液供给装置10搬出。
另一方面，从上部喷嘴模块22供给的处理液从基板搬送方向的下游侧向基板搬送方向的上游侧流下，同时对基板B的上表面实施处理，之后由上部排液模块23吸引排出；同时，从下部喷嘴模块32供给的处理液从基板搬送方向的下游侧向上游侧流下，同时对基板B的下表面实施处理，之后由设置在基板搬送方向的上游侧的下部排液模块33吸引排出。
这样，基板B通过从基板搬送方向的上游侧搬入处理液供给装置10，向其下游侧搬送，从而通过与从该下游侧供给而向该上游侧流下的处理液的逆流接触，来对其表面和背面进行处理，所以与以往的对基板B散布处理液的方式相比，能够确保可靠的处理的同时减少处理液的量。
而且，由于在上、下喷嘴模块22、32的各外表面，分别设置有向基板搬送方向分别突出设置的、并且允许基板B通过的前方上部翼251以及前方下部翼351，各翼251、351以它们相对向面间的距离比上部底板21以及下部顶板34的相对向面间的距离短的方式设定设置位置，所以从上、下喷嘴模块22、32向基板B供给的处理液，会被这些上、下的翼251、351阻挡而增大表面张力，从而能够提高液密闭性，由此能够提高对基板B的处理效率，同时能够抑制随着基板B而从处理液供给装置10泄漏出的量，能够对减低处理成本做出贡献。
另外，上部排液模块23由于以其下表面比上部底板21的下表面还低的方式设定设置位置，所以能够防止以下的不妥，即在基板B的上表面向基板搬送方向的上游侧流下的处理液撞击到上部排液模块23的下端部，由此立即被排出到基板处理空间V外，能够被上部排液模块23可靠地吸引。
这样，通过将上部排液模块23的下表面设定得比上部底板21的下表面低，虽然是极为简单的结构，但能够有效地抑制处理液从基板处理空间V中的基板搬送方向的上游侧泄漏到外部，同时能够延长处理液在基板处理空间V内的滞留时间，能够提高处理液对基板B的处理效率。
本发明并不仅限于上述的实施方式，还包含以下的内容。
(1)在上述实施方式中，虽然在基板处理空间V内沿着基板B的上表面向基板搬送方向的上游侧流下的处理液，撞击到比上部底板21更向下方突出的上部排液模块23的下端部，但本发明并不仅限定于将上部排液模块23的下端面设定得低于上部底板21，也可以使后方上部翼252的翼主体254的下表面的高度降低到比上部底板21的下表面的高度低。
(2)在上述实施方式中，虽然在前方上部翼251以及前方下部翼351上分别设置有阶梯部255、355，但本发明并不仅限定于在上下的翼251、351上设置阶梯部255、355，也可以不特别设置。此时，只要以使翼主体254、354侵入基板处理空间V内的方式设定上部翼25以及下部翼35的设置位置，即使没有阶梯部255、355也能够通过装配板部253、353的后表面来防止处理液的泄漏。
即，对于在基板处理空间V的基板搬送方向下游端形成的阶梯部，只要实质上发挥与上述实施方式的阶梯部255、355相同的作用即可，可以采用与这些阶梯部255、355类似的各种结构。
(3)在上述实施方式中，可以对在基板处理空间V内流通的处理液施加高频。通过这样做可以使在基板处理空间V内流通的处理液以较高的周期振动，所以能够提高对基板B的处理效果。
(4)图9是表示安装在下部顶板34上的滚轮343’的其他实施方式的剖视图。图9所示的滚轮343’的装配结构基本上与图6大致相同。即，在顶板主体341的上表面侧形成有填装滚轮343’的凹部342，在该凹部342的左右方向的两侧壁形成有水平支撑滚轮轴344’的轴承部342a，该滚轮轴344’可旋转地轴支承滚轮343’，同时形成插入引导槽，该插入引导槽用于将滚轮轴344’从上述两侧壁的上端抽出插入到轴承部342a。凹部342的底部342b大致呈水平面，在其中央贯穿设置有向下方延伸的小径的除液孔347。
滚轮343’外周的宽尺寸被做成需要的短尺寸，特别是其中央在左右方向上形成纺锤形状(凸状)。通过该纺锤形状能够减少与基板B的接触面积的程度，从而能够减低基板的接触损伤。该纺锤形状同样也可以适用于图6所示的滚轮343。
而且，在上述顶板主体341的厚壁内，形成有使轴承部342a与外部(顶板主体341的侧面或下表面侧)连通的液孔341a。另外，在滚轮轴344’的轴内，同心状的液孔344a贯穿设置到纵向中间，并且在滚轮轴344’的纵向中间位置上贯穿设置了在径向通过中心的贯通液孔344b。由此，液孔344a与贯通液孔344b相连通，进而顶板主体341的液孔341a与旋转轴的液孔344a相连通的结果，使液孔341a与贯通液孔344b相连通。而且，设定滚轮343’的内径尺寸，使得在滚轮343’的内周壁面与滚轮轴344’的外周面之间形成间隙，从而处理液能够在该间隙中流通，同时液孔341a的外部开口侧通过省略图示的供给泵而连接设置于清洗液槽，通过驱动该供给泵，能够对滚轮343’的内周壁面喷射供给清洗液。
根据该结构，与图6的情况相同，搬入到处理液供给装置10内的基板B，其下表面侧由滚轮343’支撑，从而不会因向下方弯曲而与顶板主体341接触。另外，滚轮343’基于基板B的搬送力而从动，流畅地承担基板B的移送。即使由于与滚轮343’的滚轮轴344’之间的摩擦旋转而产生颗粒等，该颗粒也会被除液孔347吸引，通过除液管534(参照图8)而与清洗液一起回收到处理液回收槽，所以漫延到顶板主体341的上表面而混入到清洗中的清洗液，导致降低清洗效果或者损伤基板B的背面的情况不会发生。另外，因为向滚轮343’的内周壁面喷射供给清洗液，所以即使由于与滚轮轴344’之间的摩擦旋转而产生了颗粒等，也能够更为有效的洗掉该颗粒。另外，在基板处理结束后，也可以对附着了处理液的滚轮343’的内周壁面进行清洗，从而能够有效的防止处理液(特别是处理液并不是清洗水，而使用药液的方式的情况)等的附着、由干燥带来的结晶等的附着，从而能够长期确保滚轮343’流畅旋转。
权利要求
1.一种处理液供给装置，具有上部处理部与下部处理部，该上部处理部具有上部底板，其与通过的基板的上表面相对向；上部液体供给路径部，其设置在上述上部底板的基板搬送方向的下游端，对上述上部底板的下表面侧供给处理液；以及上部液体排出路径部，其设置在上游端，将上述供给的处理液从上述上部底板的下表面侧吸引排出，该下部处理部与上述上部处理部相对向配置，并具有下部顶板，其与通过的基板的下表面相对向；下部液体供给路径部，其设置在上述下部顶板的基板搬送方向的下游端，对上述下部顶板的上表面侧供给处理液；以及下部液体排出路径部，其设置在上游端，将上述供给的处理液从上述下部顶板的上表面侧吸引排出，其特征在于，在上述上部以及下部液体供给路径部的各外表面，相对向设置有分别向基板搬送方向突出的翼，上述各翼至少在一部分上具有相对向面的距离比上述上部底板以及下部顶板的相对向面间的距离短的部位。
2.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，上述翼具有锷部，其固定在上述上部以及下部液体供给路径部的各外表面；水平延伸部，其从该锷部的端部水平延伸，与搬送中的基板的被处理面相对向，并且具有阶梯部，该阶梯部通过切掉上述锷部与水平延伸部的结合位置上的外表面侧的角部而形成。
3.如权利要求1或2所述的处理液供给装置，其特征在于，上述上下的翼被设定为上下对称的形状。
4.一种处理液供给装置，具有上部处理部与下部处理部，该上部处理部具有上部底板，其与通过的基板的上表面相对向；上部液体供给路径部，其设置在上述上部底板的基板搬送方向的下游端，对上述上部底板的下表面侧供给处理液；以及上部液体排出路径部，其设置在上游端，将上述供给的处理液从上述上部底板的下表面侧吸引排出，该下部处理部与上述上部处理部相对向配置，并具有下部顶板，其与通过的基板的下表面相对向；下部液体供给路径部，其设置在上述下部顶板的基板搬送方向的下游端，对上述下部顶板的上表面侧供给处理液；以及下部液体排出路径部，其设置在上游端，将上述供给的处理液从上述下部顶板的上表面侧吸引排出，其特征在于，上述上部液体排出路径部具有向下表面开通的、吸引处理液的吸引孔，上述吸引孔的下表面相比于上述上部底板的下表面而向下方突出。
全文摘要
本发明以处理液回收型的处理液供给装置为对象，例如即使是上、下筐体用疏水性的材料形成、并且基板宽度方向以及基板搬送方向较为长大的装置，也能够有效地防止在基板处理中处理液从筐体间泄漏的情况。在设置在上、下筐体(20)、(30)上的上部以及下部喷嘴模块(22)、(32)的各外表面，设置有分别向基板搬送方向突出设置的、并且允许基板(B)通过的上部翼(25)以及下部翼(35)，上、下翼(25)、(35)以它们的相对向面间的距离比上部底板(21)以及下部顶板(34)的相对向面间的距离短的方式设定设置位置。
文档编号H01L21/02GK1907582SQ20061000921
公开日2007年2月7日 申请日期2006年2月14日 优先权日2005年8月2日
发明者竹市芳邦, 加藤博己, 村冈佑介 申请人:未来视野股份有限公司