1.一种硅片立式上料机构，通过架体(11)设置在水池上，其特征在于：包括一级上料机构(2)、二级上料机构(5)、硅片弹夹(1)；
所述硅片弹夹(1)和一级上料机构(2)设置在水面以下，硅片弹夹(1)的硅片出口与一级上料机构(2)相邻；所述二级上料为轮状结构，与架体(11)转动连接，上部位于水面以上；
所述一级上料机构(2)竖直设置，位于轮状结构的切线方向，与架体固定连接；所述一级上料机构的上端部与二级上料机构(5)相邻；
所述一级上料机构(2)用于吸附硅片弹夹(1)中的硅片并上传至二级上料机构(5)；所述二级上料机构(5)用于将硅片由竖直状态翻转成水平状态，进入下一工序的输送带。
2.根据权利要求1所述的一种硅片立式上料机构，其特征在于：所述一级上料机构(2)包括安装板(6)、吸水板(7)；
所述安装板(6)为竖直设置的矩形体结构，与架体(11)固定连接；所述吸水板(7)固定在矩形体上部一侧靠近端部的位置；
所述吸水板(7)内部设有容置空间，外部靠近硅片的一侧设有若干吸水孔(701)；所述吸水板(7)远离安装板(6)的一侧设有出水孔，出水孔通过管路与吸水泵连通；所述吸水孔(701)和出水孔均连通吸水板(7)内部的容置空间；
所述安装板(6)固定吸水板(7)的一面还设有若干安装孔，安装孔内对应设有转轴；所述转轴与安装孔转动连接，两端与架体(11)转动连接；所述转轴上固定设有若干滚轮(8)，滚轮(8)与转轴固定连接；一个及以上的转轴端部对应设有用于驱动转轴转动的驱动电机。
3.根据权利要求2所述的一种硅片立式上料机构，其特征在于：所述二级上料机构主体为轮状结构，轮状结构中部周向设有环形凹槽，两侧轴向设有用于驱动其转动的驱动轴，驱动轴与架体(11)转动连接，驱动轴端部对应设有驱动电机；所述轮状结构的上半部位于水面以上。
4.根据权利要求3所述的一种硅片立式上料机构，其特征在于：所述硅片弹夹(1)和一级上料机构(2)之间还设有用于将成垛硅片进行间隔吹散的侧喷分片机构(4)；所述侧喷分片机构(4)包括安装底板(13)和若干侧喷喷头(12)；
所述安装底板(13)主体为圆矩形，中部上下两侧向外侧延伸形成固定板，固定板上设有固定用的螺钉孔；
所述安装底板(13)内部中空，靠近水池的一侧设有若干用于安装侧喷喷头(12)的安装孔，安装孔贯穿至安装底板的内部空间；所述安装底板(13)一侧设有贯穿至内部空间的进水口；所述进水口用于连接外部进水管路和水泵。
5.根据权利要求4所述的一种硅片立式上料机构，其特征在于：所述二级上料机构(5)的轮状结构的径向且与一级上料机构(2)垂直的面上设有压片机构(3)；所述压片机构(3)与二级上料机构(5)之间留有缝隙；
所述压片机构(3)为圆柱状结构，轴心处设有转轴孔，转轴孔内对应设有安装轴；
包括用于固定安装轴的l型连接件；所述l型连接件两端分别设有安装孔；所述l型连接件一端与安装轴转动连接，另一端通过转轴孔与架体(11)固定连接。
6.根据权利要求5所述的一种硅片立式上料机构，其特征在于：所述压片机构(3)与二级上料机构(5)之间缝隙的大小与硅片的厚度对应。
7.根据权利要求1所述的一种硅片立式上料机构，其特征在于：所述架体(11)上还设有用于将硅片弹夹(1)内硅片推出的机械手。