技术特征：
1.一种双工位硅片自动清洗工作站的上料结构，其特征在于：包括机架(1)、设置在机架(1)前侧的第一分片装置(2)和第二分片装置(3)、设置在机架(1)中间的第一上料装置(4)和第二上料装置(5)、设置在第一上料装置(4)和第二上料装置(5)上侧的第一搬运装置(6)和设置在机架(1)后侧的第二搬运装置(7)，所述第一分片装置(2)和第一上料装置(4)相连接，所述第二分片装置(3)和第二上料装置(5)相连接，所述第一搬运装置(6)将第一上料装置(4)和第二上料装置(5)内的硅片搬运到中转工位(8)，所述第二搬运装置(7)将中转工位(8)内的硅片搬运到机架(1)后侧的清洗工位(9)内。2.根据权利要求1所述的一种双工位硅片自动清洗工作站的上料结构，其特征在于：所述第一上料装置(4)包括第一z轴线性模组(41)，所述第一z轴线性模组(41)的滑块与第一硅片托架固定架(42)固定连接，所述第一硅片托架固定架(42)顶端固定有第一硅片托架定位夹爪(43)，所述第一硅片托架固定架(42)内设置有第一硅片托架(44)。3.根据权利要求2所述的一种双工位硅片自动清洗工作站的上料结构，其特征在于：所述第二上料装置(5)包括第二z轴线性模组(51)，所述第二z轴线性模组(51)的滑块与第二硅片托架固定架(52)固定连接，所述第二硅片托架固定架(52)顶端固定有第二硅片托架定位夹爪(53)，所述第二硅片托架固定架(52)内设置有第二硅片托架(54)。4.根据权利要求3所述的一种双工位硅片自动清洗工作站的上料结构，其特征在于：所述中转工位(8)包括第一固定架(81)、第二固定架(82)和中转气缸(83)，所述中转气缸(83)的活塞杆与第一固定架(81)固定连接。5.根据权利要求4所述的一种双工位硅片自动清洗工作站的上料结构，其特征在于：所述第一搬运装置(6)包括第一x轴线性模组(61)，所述第一x轴线性模组(61)的滑块与第一搬运夹爪(62)和第二搬运夹爪(63)固定连接。6.根据权利要求5所述的一种双工位硅片自动清洗工作站的上料结构，其特征在于：所述第二搬运装置(7)包括第二x轴线性模组(71)，所述第二x轴线性模组(71)的滑块与第三z轴线性模组(72)固定连接，所述第三z轴线性模组(72)的滑块与第三搬运夹爪(73)固定连接，所述第二x轴线性模组(71)的转轴两端均固定有齿轮(74)，所述齿轮(74)与机架(1)上固定的y轴齿条(75)相啮合。
技术总结
本实用新型提供一种双工位硅片自动清洗工作站的上料结构，包括机架、设置在机架前侧的第一分片装置和第二分片装置、设置在机架中间的第一上料装置和第二上料装置、设置在第一上料装置和第二上料装置上侧的第一搬运装置和设置在机架后侧的第二搬运装置，所述第一分片装置和第一上料装置相连接，所述第二分片装置和第二上料装置相连接，所述第一搬运装置将第一上料装置和第二上料装置内的硅片搬运到中转工位，所述第二搬运装置将中转工位内的硅片搬运到机架后侧的清洗工位内，该装置利用三轴线性模组结合搬运夹爪实现硅片的自动上料，整体结构简单，且全部自动化，减少了人工。减少了人工。减少了人工。
技术研发人员：陈然 郑亮华 莫天明
受保护的技术使用者：上海磐云科技有限公司
技术研发日：2021.12.28
技术公布日：2022/8/30