本技术涉及真空等离子清洗设备,具体为一种引线框架类产品真空等离子清洗系统。
背景技术:
1、引线框架作为集成电路的芯片载体,是一种借助于键合金丝实现芯片内部电路引出端与外引线的电气连接,形成电气回路的关键结构件,它起到了和外部导线连接的桥梁作用,绝大部分的半导体集成块中都需要使用引线框架,因而,引线框架是是电子信息产业中重要的基础材料。引线框架表面的微颗粒、有机物及表面氧化物等污染物无法采用传统的清洗方法去除,一般采用射频等离子清洗技术;但是目前,市场上适用真空等离子清洗设备,其等离子清洗引线框架类产品表面水滴角不均匀,容易造成粘接和键合后脱落等问题,难以满足客户需求,因此我们需要提出一种引线框架类产品真空等离子清洗系统。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供一种引线框架类产品真空等离子清洗系统,采用等离子清洗单片表面水滴角均匀性,增强表面粘接和键合的效果,解决引线框架等离子清洗产品表面表面氧化变色发生,以解决上述背景技术中提出的问题。
2、为实现上述目的,本实用新型提供:一种引线框架类产品真空等离子清洗系统,包括设备安装座,安装在设备安装座顶部的固定座,所述固定座的顶部一侧安装有料盒载台,所述料盒载台的底部设置有调节装置,所述固定座的底部通过安装板连接有第一升降推杆,所述第一升降推杆的伸缩端与料盒载台底部连接;位于所述料盒载台的一侧与固定座顶部连接的固定架,所述固定架表面活动连接推料组件的推料杆;位于所述固定座顶部的承载架平台,所述承载架平台的表面通过电动滑台活动连接承载模组,所述承载模组的下方活动连接有第二升降推杆,所述承载模组的上方设置有送料组件的送料杆;位于所述承载架平台的一侧连接固定座的顶部的支撑架,所述支撑架的表面安装有等离子处理装置,所述等离子处理装置的一侧通过管道与真空装置连接,所述等离子处理装置的下方设置有处理平台,所述处理平台底部与第三升降推杆的伸缩端连接。
3、优选的,所述推料组件还包括:连接所述固定架侧面的推料推杆,及连接所述推料推杆伸出端的移动板;其中,所述移动板滑动连接固定架,所述推料杆连接在移动板的表面。
4、优选的,所述料盒载台的表面设置有多组夹持件,所述夹持件连接在调节装置的调节端。
5、优选的,所述安装板安装在固定座的底部,所述安装板的两侧滑动连接有导向架,所述导向架顶端连接在料盒载台的底部。
6、优选的,所述送料组件还包括:连接在所述承载架平台一侧的送料推杆,及连接在所述送料推杆移动端的连接架;其中,所述连接架通过送料推杆设置在承载模组的上方,所述送料杆连接在连接架的底部。
7、优选的,所述支撑架的表面连接有导轨,所述处理平台的一侧通过滑动块滑动连接在导轨的表面。
8、优选的,所述第三升降推杆安装在固定座的底部,所述处理平台的顶部密封与等离子处理装置底部连接。
9、优选的,所述固定座的外侧设置有防护壳,所述防护壳连接在设备安装座的顶部。
10、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
11、本实用新型采用等离子清洗单片表面水滴角均匀性,增强表面粘接和键合的效果,解决引线框架等离子清洗产品表面表面氧化变色发生;
12、本实用新型通过固定架、料盒载台、送料装置、承载模组、等离子处理装置、推料组件和送料组件等结构的配合设置,将弹匣安放至料盒载台上,通过调节装置对夹持件位置进行控制,对弹匣进行适应夹持,能够对不同弹匣定位;通过推料组件可以将弹匣内部的产品推送至送料装置上,便于对产品传送到承载模组内部,通过送料组件,可以对产品进行上及下料操作,通过电动滑台和第二升降推杆配合,可以对两个承载模组进行交替使用,从而进行上料及下料操作,操作效率高,通过第三升降推杆可以由处理平台将产品上升至等离子处理装置底部,并且配合真空装置从而对产品进行处理工作。
1.一种引线框架类产品真空等离子清洗系统,其特征在于,包括设备安装座(1);
2.根据权利要求1所述的一种引线框架类产品真空等离子清洗系统,其特征在于:所述推料组件还包括:
3.根据权利要求1所述的一种引线框架类产品真空等离子清洗系统,其特征在于:所述料盒载台(11)的表面设置有多组夹持件(13),所述夹持件(13)连接在调节装置(12)的调节端。
4.根据权利要求3所述的一种引线框架类产品真空等离子清洗系统,其特征在于:所述安装板(9)安装在固定座(3)的底部,所述安装板(9)的两侧滑动连接有导向架(8),所述导向架(8)顶端连接在料盒载台(11)的底部。
5.根据权利要求1所述的一种引线框架类产品真空等离子清洗系统,其特征在于:所述送料组件还包括:
6.根据权利要求1所述的一种引线框架类产品真空等离子清洗系统,其特征在于:所述支撑架(22)的表面连接有导轨(24),所述处理平台(25)的一侧通过滑动块滑动连接在导轨(24)的表面。
7.根据权利要求6所述的一种引线框架类产品真空等离子清洗系统,其特征在于:所述第三升降推杆(26)安装在固定座(3)的底部,所述处理平台(25)的顶部密封与等离子处理装置(23)底部连接。
8.根据权利要求1所述的一种引线框架类产品真空等离子清洗系统,其特征在于:所述固定座(3)的外侧设置有防护壳(2),所述防护壳(2)连接在设备安装座(1)的顶部。