反式聚异戊二烯形状记忆树脂的生产装置的制作方法

文档序号:14851243发布日期:2018-07-03 23:18阅读:261来源:国知局
本发明涉及化合物合成装置,尤其涉及反式聚异戊二烯形状记忆树脂的生产装置。
背景技术
:反式聚异戊二烯形状记忆树脂主要应用于不同直径管子的连接材料、管道内外夹层覆盖材料、紧固件填缝材料、固定敷料等医疗用固定器材、汽车保险杠、玩具等。现有的生产装置大多比较复杂,反式聚异戊二烯作为形状记忆树脂,其生产装置优劣对于提高产品质量,减少副产物含量具有重要经济意义。技术实现要素:本发明的目的在于提供反式聚异戊二烯形状记忆树脂的生产装置,主要包括:混炼机(m101)、输送带(v101)、输送带(v102)、成型机(l101)、成型机(l102)、浸溃罐(d101),其中,输送带(v101)分别与混炼机(m101)、成型机(l101)相连接,成型机(l102)分别与成型机(l101)、浸溃罐(d101)相连接,其中,浸溃罐(d101)公称容积2.3-2.6m3,浸溃罐(d101)筒体直径730-750mm,浸溃罐(d101)锥底高度270-290mm。反式聚异戊二烯形状记忆树脂的生产装置,生产流程为:将反式1,4-聚异戊二烯、顺式1,4-聚异戊二烯、填料及交联剂等,经混炼机m101混炼而得反式1,4-聚异戊二烯形状记忆树脂,一次成型硫化,将树脂在110-116℃,预热10-15min后,经l101压缩成型,在120-126℃维持20-30min,再在135-139℃加热60-80min而成。二次成型是在85-89℃预热30min后,经l102压缩成型,在这种状态下进一步加热至110-114℃,然后维持形变下冷却至室温,完成二次成型,最终得成品。本发明优点在于:减少了反应中间环节,降低了反应温度及反应时间,提高了反应收率。附图说明图1是反式聚异戊二烯形状记忆树脂的生产装置,主要包括:混炼机(m101)、输送带(v101)、输送带(v102)、成型机(l101)、成型机(l102)、浸溃罐(d101)。具体实施方式下面结合具体实施实例对本发明作进一步说明:实例1:生产原料与用量反式聚异戊二烯形状记忆树脂的生产装置,主要包括:混炼机(m101)、输送带(v101)、输送带(v102)、成型机(l101)、成型机(l102)、浸溃罐(d101),其中,输送带(v101)分别与混炼机(m101)、成型机(l101)相连接,成型机(l102)分别与成型机(l101)、浸溃罐(d101)相连接,其中,浸溃罐(d101)公称容积2.3m3,浸溃罐(d101)筒体直径730mm,浸溃罐(d101)锥底高度270mm。反式聚异戊二烯形状记忆树脂的生产装置,生产流程为:将反式1,4-聚异戊二烯、顺式1,4-聚异戊二烯、填料及交联剂等,经混炼机m101混炼而得反式1,4-聚异戊二烯形状记忆树脂,一次成型硫化,将树脂在110℃,预热10min后,经l101压缩成型,在120℃维持20min,再在135℃加热60min而成。二次成型是在85℃预热30min后,经l102压缩成型,在这种状态下进一步加热至110℃,然后维持形变下冷却至室温,完成二次成型,最终得成品。产品质量外观白色固体结晶速度15min门尼黏度31pa·s玻璃化温度66℃熔体指数0.73g/10min溶点67℃结晶度37%密度(25℃)0.963g/cm3实例2:生产原料与用量反式聚异戊二烯形状记忆树脂的生产装置,主要包括:混炼机(m101)、输送带(v101)、输送带(v102)、成型机(l101)、成型机(l102)、浸溃罐(d101),其中,输送带(v101)分别与混炼机(m101)、成型机(l101)相连接,成型机(l102)分别与成型机(l101)、浸溃罐(d101)相连接,其中,浸溃罐(d101)公称容积2.6m3,浸溃罐(d101)筒体直径750mm,浸溃罐(d101)锥底高度290mm。反式聚异戊二烯形状记忆树脂的生产装置,生产流程为:将反式1,4-聚异戊二烯、顺式1,4-聚异戊二烯、填料及交联剂等,经混炼机m101混炼而得反式1,4-聚异戊二烯形状记忆树脂,一次成型硫化,将树脂在116℃,预热15min后,经l101压缩成型,在126℃维持30min,再在139℃加热80min而成。二次成型是在89℃预热30min后,经l102压缩成型,在这种状态下进一步加热至114℃,然后维持形变下冷却至室温,完成二次成型,最终得成品。产品质量外观白色固体结晶速度17min门尼黏度33pa·s玻璃化温度68℃熔体指数0.75g/10min溶点69℃结晶度39%密度(25℃)0.965g/cm3以上实施例所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本
技术领域
的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。当前第1页12
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